[發(fā)明專利]一種從印制電路板堿性蝕刻廢液中除砷的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210278981.7 | 申請日： | 2012-08-07 |
| 公開（公告）號： | CN102815780A | 公開（公告）日： | 2012-12-12 |
| 發(fā)明（設計）人： | 謝逢春;張嬪 | 申請（專利權(quán)）人： | 華南理工大學;惠州大亞灣惠綠環(huán)保服務有限公司 |
| 主分類號： | C02F1/62 | 分類號： | C02F1/62 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 516081 廣東省惠州市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 印制 電路板 堿性 蝕刻 廢液 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種從印制電路板堿性蝕刻廢液中除砷的方法，其特征在于包含如下步驟：
(1)、制備易于沉降及過濾的、不含二價鐵的氫氧化鐵沉淀。
(2)、將制備好的氫氧化鐵沉淀加入待除砷的堿性蝕刻廢液。
(3)、固液分離，得到的固相含砷氫氧化鐵沉淀循環(huán)使用，得到的液相即為含砷量達到要求的堿性蝕刻廢液。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理方法，其特征在于：所述第(4)步固液分離用壓濾的方法進行分離，或用其他固液分離方法進行分離。
下載完整專利技術(shù)內(nèi)容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于華南理工大學;惠州大亞灣惠綠環(huán)保服務有限公司，未經(jīng)華南理工大學;惠州大亞灣惠綠環(huán)保服務有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210278981.7/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
