[發明專利]二氧化鍺制備新工藝有效
| 申請號: | 201210275487.5 | 申請日: | 2012-08-03 |
| 公開(公告)號: | CN102774877A | 公開(公告)日: | 2012-11-14 |
| 發明(設計)人: | 王少龍;孫成余;彭明清;楊金彩;楊汝雄;何斌;蔡文紅 | 申請(專利權)人: | 云南馳宏鋅鍺股份有限公司 |
| 主分類號: | C01G17/02 | 分類號: | C01G17/02 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 李志東 |
| 地址: | 655011 云*** | 國省代碼: | 云南;53 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氧化 制備 新工藝 | ||
1.一種制備二氧化鍺的方法,其特征在于,包括:
四氯化鍺在全密閉水解釜中進行水解,以便得到四氯化鍺水解產物,所述四氯化鍺水解產物為二氧化鍺和氯化氫,氯化氫易溶于水而生成鹽酸;
將所述四氯化鍺水解產物進行離心過濾,以便得到二氧化鍺和濾液;利用高純水對所述二氧化鍺進行洗滌,得到高純二氧化鍺和清洗液。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述四氯化鍺是以高純四氯化鍺的形式提供的。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述水解反應是在零下5~15攝氏度下進行的。
4.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,進一步包括將所述濾液用氫氧化鈉溶液進行處理。
5.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,利用超純水對所述二氧化鍺進行至少一次清洗,以便所得到的清洗液的pH值為7,并對所得到的二氧化鍺進行干燥。
6.根據權利要求5所述的方法,其特征在于,所述超純水與二氧化鍺的重量比為1:1.2~1.5。
7.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述離心過濾是在二氧化鍺處理裝置中進行的,所述二氧化鍺處理裝置包括:
機殼,所述機殼內部中空且頂部敞開,所述機殼的底部設有出料口和卸料口;
機蓋,所述機蓋可開閉地設在所述機殼的頂部以與機殼共同限定出容納空間,所述機蓋上設有進料口和進水口;
中心軸組件,所述中心軸組件可旋轉地沿豎向設在所述機殼內部;
轉動殼,所述轉動殼設在所述容納空間內,所述轉動殼同軸地套設在所述中心軸組件的外部以在轉動殼內部限定出處理空間,所述轉動殼與所述中心軸組件同時旋轉,所述轉動殼的底部形成有出料口,其中所述卸料口與所述出料口對應設置;
進料組件,所述進料組件與所述進料口相連,且穿過所述轉動殼以伸入到所述處理空間內,用于向所述處理空間內供給待處理的含二氧化鍺的固液混合物;
進水組件,所述進水組件與所述進水口相連且穿過所述轉動殼以伸入到所述處理空間內,用于向所述處理空間內供水和驅動所述中心軸組件的驅動裝置。
8.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述四氯化鍺全密閉水解釜包括:
釜體,所述釜體內限定有水解反應空間;
上蓋,所述上蓋設置在所述釜體的頂部;
第一進料口,所述第一進料口設置在所述上蓋上,用于向所述水解反應空間中供給高純四氯化鍺;
第二進料口,所述第二進料口設置在所述上蓋上,用于向所述水解反應空間中供給超純水;
排氣口,所述排氣口設置在所述上蓋上,用于將水解反應過程中揮發的氯化氫氣體從所述水解反應空間中排出;
出料口,所述排料口設置在所述釜體的底部,用于排出水解產物。
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