[發(fā)明專利]一種光學(xué)臨近矯正方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210275387.2
• 申請日: 2012-08-03
• 公開（公告）號: CN103576443A
• 公開（公告）日: 2014-02-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳潔;王謹(jǐn)恒;萬金垠;張雷
• 申請（專利權(quán)）人: 無錫華潤上華半導(dǎo)體有限公司
• 主分類號: G03F1/36
• 分類號: G03F1/36
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 常亮

1.一種光學(xué)臨近矯正方法，其特征在于，所述矯正方法包括步驟：

根據(jù)工藝規(guī)格確定光刻工藝參數(shù)；

根據(jù)所述光刻工藝參數(shù)確定光學(xué)臨近矯正模型，建立光學(xué)臨近矯正的運算程序；

清理孔與金屬層疊加后形成的凸起，生產(chǎn)OPC待處理文件；

對所述OPC待處理文件運行所述光學(xué)臨近矯正的運算程序，得到該待處理文件的修正圖形；

以所述修正圖形為掩膜圖形，進(jìn)行掩膜板制造。

2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)臨近矯正方法，其特征在于：所述光刻工藝參數(shù)包括曝光光路的光學(xué)參數(shù)、光刻膠材料的材料參數(shù)以及刻蝕工藝的化學(xué)參數(shù)。

3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)臨近矯正方法，其特征在于：所述清理孔與金屬層疊加后形成的凸起包括步驟：

記錄每個孔的位置，并生成一個孔分布坐標(biāo)參數(shù)；

將金屬線層圖形和有孔的介質(zhì)層圖形進(jìn)行疊加；

在疊加之后的圖形上，依據(jù)各個孔位置坐標(biāo)，找到有孔處的金屬線，并依據(jù)孔在縱坐標(biāo)上的長度尺寸，檢測對應(yīng)該長度范圍內(nèi)金屬線邊緣處，是否存在凸起；

對凸起的橫坐標(biāo)或縱坐標(biāo)進(jìn)行測量，得出凸起的尺寸；

根據(jù)測量得到的尺寸，利用圖形處理軟件執(zhí)行一凸起的清理程序。

4.如權(quán)利要求3所述的光學(xué)臨近矯正方法，其特征在于：所述凸起的尺寸在0.001μm×0.196μm至0.005μm×0.196μm之間。

5.如權(quán)利要求3所述的光學(xué)臨近矯正方法，其特征在于：所述圖形處理軟件為photoshop軟件或AutoCAD軟件。