[發明專利]一種氦氖雙頻激光器頻差產生和賦值方法

有效

• 申請號: 201210275253.0
• 申請日: 2012-08-03
• 公開（公告）號: CN102780154A
• 公開（公告）日: 2012-11-14
• 發明（設計）人: 張書練;朱守深;李巖
• 申請（專利權）人: 清華大學
• 主分類號: H01S3/106
• 分類號: H01S3/106
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司 11245
• 代理人: 徐寧;關暢

1.一種氦氖雙頻激光器頻差產生和賦值方法，包括以下步驟：

1）設置一包括有氦氖雙頻激光器、激光雕刻機和計算機的系統，所述氦氖雙頻激光器的諧振腔的輸出鏡為應力雙折射鏡；

2）激光雕刻前，將氦氖雙頻激光器的垂軸方向加磁場，測試并標示出氦氖雙頻激光器輸出兩束偏振光的偏振方向，并確定應力增加時，頻差也相應增大的方向；

3）調整激光雕刻機與應力雙折射鏡之間的位置，使激光雕刻機的入射光與應力雙折射鏡面垂直，并調整激光雕刻機出光點的方向，使其聚焦在應力雙折射鏡內的厚度中心處；

4）將所需雕刻的圖案輸入到計算機中；

5）啟動所述激光雕刻機，根據所需要獲取的氦氖雙頻激光器頻差大小，控制激光雕刻機的泵浦電流、圖案炸點的大小、體積及氣化的程度，并調節所雕刻圖案炸點與所述激光雕刻機中心出光點的距離，所述計算機控制激所述光雕刻機將圖案雕刻在所述應力雙折射鏡內。

2.如權利要求1所述的一種氦氖雙頻激光器頻差產生和賦值方法，其特征在于：所述步驟3）中調整激光雕刻機出光點的方向，使其聚焦在應力雙折射鏡內的厚度中心時要避開應力雙折射鏡的高反射膜層，激光雕刻機出光點距離應力雙折射鏡的高反射膜層圓心的距離為2～5mm。

3.如權利要求1所述的一種氦氖雙頻激光器頻差產生和賦值方法，其特征在于：所述步驟4）中圖案的形狀或者大小根據所需要產生頻差大小進行確定。

4.如權利要求2所述的一種氦氖雙頻激光器頻差產生和賦值方法，其特征在于：所述步驟4）中圖案的形狀或者大小根據所需要產生頻差大小進行確定。

5.如權利要求1或2或3或4所述的一種氦氖雙頻激光器頻差產生和賦值方法，其特征在于：所述步驟5）中當產生的頻差超過預定值或小于預定值時，通過減小激光雕刻機的泵浦電流、改變雕刻圖案距離激光雕刻機中心出光點的距離或調節圖案炸點的方法褪應力或追加應力進行控制，褪應力的方向與追加應力的方向垂直。