[發(fā)明專利]曝光裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210274494.3
• 申請日: 2004-07-07
• 公開（公告）號: CN102854755A
• 公開（公告）日: 2013-01-02
• 發(fā)明（設計）人: 木內徹;三宅壽弘
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 金春實

1.一種曝光裝置，在投影光學系統的像面?zhèn)刃纬梢后w的液浸區(qū)域，經由所述投影光學系統和所述液體將圖形曝光到襯底，該曝光裝置具有：

配置在構成所述投影光學系統的多個光學部件中的與所述液體接觸的光學部件的周圍的環(huán)狀的保持部件，和

向與所述液體接觸的光學部件的周緣部和所述環(huán)狀的保持部件之間的間隙供給氣體的氣體供給管。

2.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述氣體供給管防止所述液體浸入所述間隙。

3.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述環(huán)狀的保持部件具有支撐所述光學部件的保持部。

4.一種曝光裝置，經由液體將襯底曝光，具有：

包括與所述液體接觸的光學部件以及配置于該光學部件和圖形之間的光學組的投影光學系統，

在所述光學部件和所述基板之間形成液浸區(qū)域的液浸區(qū)域形成部件，和

計測在所述光學部件的光軸方向上的所述液浸區(qū)域的厚度變化的傳感器。

5.如權利要求4所述的曝光裝置，其特征在于，在所述光學部件的附近配置有多個所述傳感器。

6.如權利要求5所述的曝光裝置，其特征在于，所述傳感器計測所述光學部件的液體接觸面與所述襯底的表面之間的間隔。

7.如權利要求6所述的曝光裝置，其特征在于，所述傳感器安裝在配置于所述光學部件的周圍的環(huán)狀的部件上。

8.如權利要求4所述的曝光裝置，其特征在于，具有基于所述傳感器的檢測結果檢測所述光學部件與所述襯底的位置關系的傳感器單元。

9.如權利要求4所述的曝光裝置，其特征在于，具有調整投影到所述襯底上的圖形的像的像調整機構，

所述像調整機構基于所述傳感器的檢測結果來調整所述圖形的像。

10.一種曝光裝置，經由液體在襯底上形成圖形，具有：

包括與所述液體接觸的光學部件以及配置于該光學部件和圖形之間的光學組的投影光學系統，

保持與所述液體接觸的光學部件的第一保持部件，

保持所述光學組的第二保持部件，和

控制裝置，基于與所述液體接觸的光學部件的位置變化來修正所述圖形對所述襯底的形成狀態(tài)。

11.如權利要求10所述的曝光裝置，其特征在于，所述控制裝置為了修正所述圖形的形成狀態(tài)而使所述光學組中的特定的光學元件進行微動。

12.如權利要求10所述的曝光裝置，其特征在于，所述控制裝置為了修正所述圖形的形成狀態(tài)而調整形成了所述圖形的掩模的位置。

13.如權利要求10所述的曝光裝置，其特征在于，具有以在振動上分離的方式將所述第一保持部件連接到所述第二保持部件的連接機構。

14.如權利要求13所述的曝光裝置，其特征在于，所述連接機構具有所述彎曲件。

15.如權利要求13所述的曝光裝置，其特征在于，所述連接機構以可動的方式相對于所述第二保持部件保持所述第一保持部件。

16.如權利要求15所述的曝光裝置，其特征在于，所述連接機構具有減少所述第一保持部件的自重的自重消除機構。