[發明專利]將一施覆的基材作線型構造化以制造薄層太陽電池模塊的方法在審

申請號：	201210272280.2	申請日：	2012-08-01
公開（公告）號：	CN102916074A	公開（公告）日：	2013-02-06
發明（設計）人：	尤格·海奇格;薩巴斯汀·史丹巴赫;法蘭克·杉朵	申請（專利權）人：	耶恩光學自動化技術股份有限公司
主分類號：	H01L31/18	分類號：	H01L31/18;H01L21/66
代理公司：	北京銀龍知識產權代理有限公司 11243	代理人：	黃燦;程美瓊
地址：	德國***	國省代碼：	德國;DE
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摘要：
搜索關鍵詞：	將一施覆基材線型構造制造薄層太陽電池模塊方法
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【權利要求書】：

1.一種將一施覆的基材作線型構造化以制造薄層太陽電池模塊的方法，其中在一包含至少一下層構造化平面的多層大面積型基材中開設沿x向分布的溝槽，為此需使該基材在多個送料過程中水平沿x向在兩端位間來回移動，在該基材（1）上方可在所述送料過程之間沿y向移動至不同位置的構造化工具（8）在所述送料過程中分別在一上層構造化平面內產生一溝槽，該構造化工具在控制信號控制下沿y向偏轉，拍攝用以偵測該下層構造化平面內已有溝槽的相片，用所述相片推導控制信號以形成與已有溝槽的分布相匹配的溝槽，其中，僅在正向送料時拍攝用以偵測已有溝槽的相片，在正向及反向送料時開設溝槽。

2.如申請專利范圍第1項的方法，其特征在于，每次正向送料時皆偵測該下層結構平面內由第n溝槽與第n+1溝槽組成的溝槽對，在該上層結構平面內形成第n-1溝槽并在隨后的反向送料時形成第n溝槽。

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