[發明專利]濺鍍機及其磁鐵的控制方法

有效

• 申請號: 201210272078.X
• 申請日: 2012-08-01
• 公開（公告）號: CN102817001A
• 公開（公告）日: 2012-12-12
• 發明（設計）人: 黃宇慶
• 申請（專利權）人: 友達光電股份有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/54
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 梁揮;鮑俊萍

1.一種濺鍍機，其特征在于，包括：

一腔室，具有一腔室開口；

一靶材載板，位于該腔室內；

一屏蔽，覆蓋該腔室開口，該屏蔽具有一屏蔽開口，該屏蔽開口小于該腔室開口，并且該屏蔽開口曝露該靶材載板；

一磁鐵，位于該腔室內，并且該靶材載板介于該屏蔽與該磁鐵之間；

一驅動機構，連接于該磁鐵，用以驅動該磁鐵于該靶材載板上移動；以及

一程序化控制器，連接于該驅動機構，用以經由該驅動機構驅動該磁鐵沿一第一路徑以及一第二路徑移動，該第一路徑具有兩第一端點，該第二路徑具有兩第二端點，該第一路徑與該第二路徑均跨越該屏蔽開口，該第二路徑的該兩第二端點介于該第一路徑的該兩第一端點之間，并且該磁鐵于該兩第一端點所占據的空間不重迭于該磁鐵于該兩第二端點所占據的空間。

2.根據權利要求1所述的濺鍍機，其特征在于，該屏蔽開口包括彼此相對的兩側緣，該第二路徑由一該側緣朝向另一該側緣延伸，該屏蔽開口自該屏蔽的一內壁面貫穿該屏蔽，

該磁鐵位于一該第二端點時，該磁鐵于該內壁面的一正交投影覆蓋一該側緣，

該磁鐵位于另一該第二端點時，該磁鐵于該內壁面的另一正交投影覆蓋另一該側緣。

3.根據權利要求1所述的濺鍍機，其特征在于，該驅動機構包括：

一滑軌，該磁鐵以可滑動的方式配置于該滑軌上，該滑軌定義出該第一路徑以及該第二路徑，其中該第二路徑重迭于該第一路徑；

一傳動件，連接于該磁鐵；以及

一致動器，連接于該傳動件以及該程序化控制器，用以受該程序化控制器的控制而經由該傳動件驅動該磁鐵沿著該滑軌滑動。

4.根據權利要求1所述的濺鍍機，其特征在于，更包括一直流電源，該直流電源包括一正極以及一負極，該屏蔽連接于該正極，該靶材載板連接于該負極。

5.根據權利要求1所述的濺鍍機，其特征在于，更包括一接地的環型擋墻，該屏蔽包括一板體以及一環型墻體，該屏蔽開口貫穿該板體，該環型墻體位于該板體上并且環繞該屏蔽開口，該環型擋墻圍繞該環型墻體。

6.根據權利要求1所述的濺鍍機，其特征在于，該磁鐵于平行于該第一路徑的方向上的寬度小于兩個相鄰的該第一端點與該第二端點的距離。

7.根據權利要求1所述的濺鍍機，其特征在于，該磁鐵于平行于該第一路徑的方向上的寬度小于兩個相鄰的該第一端點與該第二端點的距離的一半。

8.一種磁鐵的控制方法，用以在一濺鍍過程中控制一靶材的消耗，其特征在于，其步驟包括：

將該靶材配置于一磁鐵與一屏蔽之間，該屏蔽與一直流電源的一正極連接，并且該屏蔽包括一屏蔽開口；

使該磁鐵于一第一路徑的兩第一端點之間往返，以使部分的該靶材自該靶材表面脫離，而形成對應于該兩第一端點的兩第一凹陷，其中該第一路徑跨越該屏蔽開口；以及

當任一該兩第一凹陷的深度大于一臨界值時，使該磁鐵于一第二路徑的兩第二端點之間往返并且該第二路徑不經過該兩第一端點，以使部分的該靶材自該靶材表面脫離，而形成對應于該兩第二端點的兩第二凹陷，其中該第二路徑跨越該屏蔽開口，

該兩第二端點介于該兩第一端點之間，以使該兩第一凹陷與該兩第二凹陷彼此間隔一大于零的距離。

9.根據權利要求8所述的磁鐵的控制方法，其特征在于，該屏蔽開口包括彼此相對的兩側緣，該第二路徑由一該側緣朝向另一該側緣延伸，該屏蔽開口自該屏蔽的一內壁面貫穿該屏蔽，

該磁鐵位于一該第二端點時，該磁鐵于該內壁面的一正交投影覆蓋一該側緣，

該磁鐵位于另一該第二端點時，該磁鐵于該內壁面的另一正交投影覆蓋另一該側緣。

10.根據權利要求8所述的磁鐵的控制方法，其特征在于，該第一路徑具有至少一對中繼點，該對中繼點的位置對稱于該第一路徑的一中點，該磁鐵經過該對中繼點的速度不相同。