[發明專利]硒化鉛錫納米花的制備方法有效
| 申請號: | 201210271631.8 | 申請日: | 2012-08-01 |
| 公開(公告)號: | CN102807194A | 公開(公告)日: | 2012-12-05 |
| 發明(設計)人: | 魏浩;蘇言杰;任興龍;張亞非 | 申請(專利權)人: | 上海交通大學 |
| 主分類號: | C01B19/00 | 分類號: | C01B19/00;B82Y30/00 |
| 代理公司: | 上海漢聲知識產權代理有限公司 31236 | 代理人: | 郭國中 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 硒化鉛錫 納米 制備 方法 | ||
技術領域
本發明屬于光電材料技術領域,具體是一種硒化鉛錫納米花的制備方法。
背景技術
硒化鉛錫(PbSnSe)由于具有較大的激子玻爾半徑、比較理想的能帶間隙以及在地球上較豐富的儲量等諸多優點,被認為是新型光電子器件的潛在材料。通過在合成硒化鉛錫時對鉛和錫的元素比例進行控制,能夠實現很好地通過成分的變化對能帶間隙進行調節,而連續可調的能帶間隙正是光電器件最重要的性質之一。調節帶隙能的方式并不僅僅有成分調節一種,對產物的微觀形貌的控制也是一種有效的手段。
經對現有技術的文獻檢索發現,Harman?T.C.等在《Applied?Physics?letters》(應用物理快報)1969年第14卷第11期第333到334頁發表的文章“Temperature?and?compositional?dependence?of?laser?emission?in?PbSnSe”(溫度和成分對硒化鉛錫的激光發射特性的影響)。之后,研究人員已經合成出了薄膜狀、帶狀等形貌的硒化鉛錫,但這些產物基本只能表現出一種宏觀的形貌,缺乏微尺度,尤其是納米量級的結構表征。因此,提出一種可大量制備,成本低廉,具有一定納米結構的硒化鉛錫制備方法,對于本領域具有重要意義。
發明內容
本發明的目的在于針對現有技術的不足,提供一種硒化鉛錫納米花的制備方法。本發明的方法無污染,反應條件溫和簡單,其物理性質可隨摻錫比例變化而變化。
本發明是通過以下技術方案實現的,包括以下步驟:
步驟一,取醋酸鉛和醋酸錫,混合,再加入油胺和十八烯,加熱,得溶液A;
步驟二,取硒粉,加入三正辛基膦,之后加熱,得溶液B;
步驟三,將溶液B加入到溶液A中,加熱,純化,得硒化鉛錫納米花。
優選地,步驟一中,所述醋酸鉛:醋酸錫=(0.125~2):1;所述比例為摩爾比。
優選地,步驟一中,所述油胺和十八烯加入量的總摩爾數為醋酸鉛和醋酸錫總摩爾數的60~100倍。
優選地,步驟一中,所述加熱為:加熱至280~320℃,之后保溫1~3小時。
優選地,,步驟二中,所述加熱為:加熱至80~100℃,之后保溫1~3小時。
優選地,所述硒粉:醋酸鉛和醋酸錫總和=1:1;所述比例為摩爾比。
優選地,步驟三中,所述硒化鉛錫納米花的直徑為40~60nm。
與現有技術相比,本發明具有如下的有益效果:本發明的方法能夠合成能帶間隙可調的硒化鉛錫納米花,本發明的方法為熱注射合成方法,綠色無污染,設備要求簡單,適合工業化大規模生產。
附圖說明
圖1為實施例1制備的硒化鉛錫納米花的TEM圖譜;
圖2為實施例2制備的硒化鉛錫納米花的TEM圖譜;
圖3為實施例3制備的硒化鉛錫納米花的TEM圖譜;
具體實施方式
以下實例將結合附圖對本發明作進一步說明。本實施例在以本發明技術方案為前提下進行實施,給出了詳細的實施方式和過程,但本發明的保護范圍不限于下述的實施例。下列實施例中未注明具體條件的實驗方法,通常按照常規條件,或按照制造廠商所建議的條件。
實施例1
本實施例涉及一種硒化鉛錫納米花的制備方法,具體步驟如下:
步驟一,取0.25mmol醋酸鉛和2mmol醋酸錫,混合,再加入67.5mmol油胺和67.5mmol十八烯,加熱至280°C,保持3小時,得溶液A;
步驟二,取2.25mmol硒粉,加入1.25mmol三正辛基膦,之后加熱至80°C,保持3小時,得溶液B;
步驟三,將溶液B加入到溶液A中,之后加熱至280°C,保持5分鐘;將得到的產物溶于乙醇,8000rpm下離心10分鐘,取下層沉淀,加入氯仿,7000rpm下離心5分鐘,取上層清液,加入乙醇,8000rpm下離心10分鐘后;取下層沉淀,蒸干溶劑后,即得硒化鉛錫納米花。
制備產物的透射電鏡照片如圖1所示,硒化鉛錫納米花的直徑為40~60nm。
實施例2
本實施例涉及一種硒化鉛錫納米花的制備方法,具體步驟如下:
步驟一,取1mmol醋酸鉛和1mmol醋酸錫,混合,再加入80mmol油胺和80mmol十八烯,加熱至300°C,保持2小時,得溶液A;
步驟二,取2mmol硒粉,加入1.25mmol三正辛基膦,之后加熱至90°C,保持2小時,得溶液B;
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