[發(fā)明專利]半導(dǎo)體裝置與用于制造半導(dǎo)體裝置的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210271486.3 | 申請(qǐng)日: | 2010-06-25 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102751295A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-10-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 山崎舜平;坂田淳一郎;三宅博之;桑原秀明;高橋辰也 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社半導(dǎo)體能源研究所 |
| 主分類號(hào): | H01L27/12 | 分類號(hào): | H01L27/12;H01L29/45 |
| 代理公司: | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人: | 陳華成 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 裝置 用于 制造 方法 | ||
1.一種顯示裝置,包括:
在襯底之上的像素部分;以及
在所述襯底之上的驅(qū)動(dòng)器電路,所述驅(qū)動(dòng)器電路包括:
柵極電極層;
在所述柵極電極層之上的柵極絕緣層;
在所述柵極絕緣層之上的氧化物半導(dǎo)體層,所述氧化物半導(dǎo)體層與所述柵極電極層交疊;
在所述氧化物半導(dǎo)體層之上的無(wú)機(jī)絕緣層;
在所述無(wú)機(jī)絕緣層之上的有機(jī)絕緣層;以及
在所述有機(jī)絕緣層之上的透光導(dǎo)電層,所述透光導(dǎo)電層與所述氧化物半導(dǎo)體層交疊。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中向所述透光導(dǎo)電層施加固定的電位。
3.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中向所述透光導(dǎo)電層施加地電位。
4.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中所述氧化物半導(dǎo)體層包含In、Ga、Zn和O。
5.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中所述無(wú)機(jī)絕緣層是氮氧化硅膜。
6.如權(quán)利要求5所述的顯示裝置,其中所述驅(qū)動(dòng)器電路還包括在所述無(wú)機(jī)絕緣層和所述有機(jī)絕緣層之間的氮化硅膜。
7.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中所述有機(jī)絕緣層包括丙烯酸。
8.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中所述像素部分包括電致發(fā)光元件。
9.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中所述像素部分包括液晶元件。
10.一種顯示裝置,包括:
在襯底之上的像素部分的晶體管的柵極電極層;
在所述襯底之上的驅(qū)動(dòng)器電路的晶體管的柵極電極層;
在所述像素部分的晶體管的柵極電極層和所述驅(qū)動(dòng)器電路的晶體管的柵極電極層之上的柵極絕緣層;
在所述柵極絕緣層之上的第一氧化物半導(dǎo)體層,所述第一氧化物半導(dǎo)體層與所述像素部分的晶體管的柵極電極層交疊;
在所述柵極絕緣層之上的第二氧化物半導(dǎo)體層,所述第二氧化物半導(dǎo)體層與所述驅(qū)動(dòng)器電路的晶體管的柵極電極層交疊;
在所述第一氧化物半導(dǎo)體層和所述第二氧化物半導(dǎo)體層之上的無(wú)機(jī)絕緣層;
在所述無(wú)機(jī)絕緣層之上的有機(jī)絕緣層;以及
在所述有機(jī)絕緣層之上的透光導(dǎo)電層,所述透光導(dǎo)電層與所述第二氧化物半導(dǎo)體層交疊;以及
在所述有機(jī)絕緣層之上的像素電極層,所述像素電極層電連接到所述第一氧化物半導(dǎo)體層,
其中所述像素電極層被配置為透射光。
11.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置,其中向所述透光導(dǎo)電層施加固定的電位。
12.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置,其中向所述透光導(dǎo)電層施加地電位。
13.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置,其中所述第一氧化物半導(dǎo)體層和所述第二氧化物半導(dǎo)體層均包含In、Ga、Zn和O。
14.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置,其中所述無(wú)機(jī)絕緣層是氮氧化硅膜。
15.如權(quán)利要求14所述的顯示裝置,還包括在所述無(wú)機(jī)絕緣層和所述有機(jī)絕緣層之間的氮化硅膜。
16.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置,其中所述有機(jī)絕緣層包括丙烯酸。
17.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置,還包括電致發(fā)光元件。
18.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置,還包括液晶元件。
19.一種顯示裝置,包括:
在襯底之上的像素部分;以及
在所述襯底之上的驅(qū)動(dòng)器電路,所述驅(qū)動(dòng)器電路包括:
柵極電極層;
在所述柵極電極層之上的柵極絕緣層;
在所述柵極絕緣層之上的氧化物半導(dǎo)體層,所述氧化物半導(dǎo)體層與所述柵極電極層交疊;
在所述氧化物半導(dǎo)體層之上的源極電極層;
在所述氧化物半導(dǎo)體層之上的漏極電極層;
在所述源極電極層和所述漏極電極層之上的無(wú)機(jī)絕緣層,所述無(wú)機(jī)絕緣層與所述源極電極層和所述漏極電極層之間的氧化物半導(dǎo)體層接觸;
在所述無(wú)機(jī)絕緣層之上的有機(jī)絕緣層;
在所述有機(jī)絕緣層之上的透光導(dǎo)電層,所述透光導(dǎo)電層與所述氧化物半導(dǎo)體層交疊。
20.如權(quán)利要求19所述的顯示裝置,其中向所述透光導(dǎo)電層施加固定的電位。
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- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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