[發(fā)明專利]清潔環(huán)保型等離子體鍍膜清洗工藝有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210270427.4 | 申請日: | 2012-07-31 |
| 公開(公告)號: | CN102787346A | 公開(公告)日: | 2012-11-21 |
| 發(fā)明(設計)人: | 沙福國;康斌生 | 申請(專利權(quán))人: | 北京天藝創(chuàng)新科技有限公司 |
| 主分類號: | C25F1/06 | 分類號: | C25F1/06 |
| 代理公司: | 北京天悅專利代理事務所(普通合伙) 11311 | 代理人: | 田明;任曉航 |
| 地址: | 100070 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 清潔 環(huán)保 等離子體 鍍膜 清洗 工藝 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于等離子體清洗工藝,具體涉及一種清潔環(huán)保型等離子體鍍膜清洗工藝。
背景技術(shù)
等離子體是物理科學研究中的一個分支,目前等離子體技術(shù)已被廣泛地用于國防、工業(yè)、農(nóng)業(yè)、環(huán)境、通信等一系列國民經(jīng)濟發(fā)展領(lǐng)域,例如:微電子電路等離子體鍍膜、拋光、清洗、刻蝕、沉積等加工過程,極大地推動了信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,促進了工業(yè)科技進步。
等離子體清洗作為物質(zhì)的一種聚集狀態(tài)必須要求其空間尺度遠大于德拜長度,時間尺度遠大于等離子體清洗響應時間,在此情況下,等離子體清洗的集體相互作用起主要作用,在較大的尺度上正負電荷數(shù)量大致相等,滿足所謂的準中性條件。
不銹鋼材料在真空鍍膜時,基體表面通常有一層氧化膜,該氧化膜除去后又能迅速再生成,因此,一般材料表面清洗工藝很難獲得附著力良好的鍍層。目前國內(nèi)外均將等離子體清洗工藝技術(shù)應用于不銹鋼材料真空鍍膜之前的清洗活化處理,但是在應用中還存在很多電解液配方問題,如:不環(huán)保的強酸,強堿的配液等造成了配液生產(chǎn)成本高,效率低,且嚴重污染環(huán)境。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于針對現(xiàn)有技術(shù)的缺陷,提供一種配方成本低,且安全無公害的等離子體鍍膜清洗工藝。
本發(fā)明的技術(shù)方案如下:一種清潔環(huán)保型等離子體鍍膜清洗工藝,以被清洗工件為陽極,不溶性金屬或石墨為陰極,兩電極置于電解液槽中,通過直流電產(chǎn)生陽極溶液清洗,其中,所述的電解液組分包括:尿素0.5-2000g/L、碳酸氫鈉0.2-1000g/L;優(yōu)選值為尿素100-500g/L、碳酸氫鈉0.5-20g/L。
進一步,如上所述的清潔環(huán)保型等離子體鍍膜清洗工藝,其中,電解液中的碳酸氫鈉可以用碳酸鈉替代,含量為5-1000g/L。
進一步,如上所述的清潔環(huán)保型等離子體鍍膜清洗工藝,其中,電解液中的還可以包含緩蝕劑0.6-150g/L;緩蝕劑的優(yōu)選值為0.6-10g/L。
所述的緩蝕劑可采用十二烷基硫酸鈉或硫酸銨或硫酸鈉。
進一步,如上所述的清潔環(huán)保型等離子體鍍膜清洗工藝,其中,直流電的電壓控制在10-120V,清洗時間為5-60秒。
進一步,如上所述的清潔環(huán)保型等離子體鍍膜清洗工藝,其中,陰極電流密度為10-80A,陰陽極相對運動速度為12-60m/min。
進一步,如上所述的清潔環(huán)保型等離子體鍍膜清洗工藝,其中,清洗水溫為50-80℃。
進一步,如上所述的清潔環(huán)保型等離子體鍍膜清洗工藝,其中,在將陽極置于電解液槽之前,先對作為陽極的被清洗工件進行去除拋光膏的處理。可采用超聲波清洗工藝進行去除拋光膏的處理,水溫為80-90℃。
本發(fā)明的有益效果如下:本發(fā)明所提供的清潔環(huán)保型等離子體鍍膜清洗工藝,采用通過氣體放電產(chǎn)生等離子體,清洗中的自由電子與氣體中的原子和分子碰撞,引發(fā)原子、分子的內(nèi)態(tài)變化產(chǎn)生激發(fā)離解和電離,所產(chǎn)生的物質(zhì)的變化發(fā)生各種化學反應生成化合物。該工藝所使用的清洗液無強酸、強堿,溶液配方安全環(huán)保,生產(chǎn)成本低,加工效率高。
具體實施方式
下面結(jié)合具體的實施例對本發(fā)明進行詳細的描述。
首先,說明一下等離子體清洗機理—黏性薄膜理論,等離子體清洗主要是陽極電極過程和表面電解液形成共同作用的結(jié)果,從陽極溶解下來的金屬離子與電解液形成溶解度小、黏性大、擴散速度小的電解液,并慢慢地積累在陽極附近,粘接在陽極表面,形成了黏滯性較大的電解液層。
以不銹鋼材料為例,不銹鋼材料在真空鍍膜時,基體表面通常有一層氧化膜,該氧化膜除去后又能迅速再生成,因此一般材料表面清洗工藝很難獲得附著力良好的鍍層。等離子體清洗工藝可用于不銹鋼材料真空鍍膜前的清洗活化處理,可保證鍍膜產(chǎn)品具有非常強的附著力,使鍍膜質(zhì)量顯著提高。等離子體清洗工藝是以被清洗工件為陽極,不溶性金屬或石墨為陰極,兩電極浸入電解液槽中,通過直流電產(chǎn)生陽極溶液清洗,陽極表面的等離子體強弱對清洗質(zhì)量有很大的作用。不銹鋼產(chǎn)品的清洗工藝基本流程如下:
超聲波清洗→水洗→水洗→等離子清洗→水洗→水洗→活化→水洗→水洗→超聲波清洗→水洗→水洗→烘干。
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