[發明專利]濺射靶及其制法、利用該靶得到的薄膜、薄膜片及層疊片

無效

• 申請號: 201210269939.9
• 申請日: 2012-07-31
• 公開（公告）號: CN102965628A
• 公開（公告）日: 2013-03-13
• 發明（設計）人: 櫻井英章;有泉久美子
• 申請（專利權）人: 三菱綜合材料株式會社
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;B32B9/04;C04B35/453
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司 11018
• 代理人: 康泉;王珍仙

技術領域

本發明涉及一種適于形成透明性、氣體遮斷性等各種特性優異的薄膜的濺射靶及其制造方法、利用該靶得到的薄膜、具備該薄膜的薄膜片以及層疊片。更詳細而言，涉及一種用于形成這些各種特性優異，尤其是適合作為液晶顯示器、有機EL顯示器、電子紙或太陽能電池模塊等氣體遮斷性材料的薄膜的濺射靶及其制造方法、利用該靶得到的薄膜、具備該薄膜的薄膜片以及層疊片。

背景技術

液晶顯示器、有機EL顯示器或太陽能電池等設備通常經不起濕氣，使其特性因吸濕而迅速地劣化，所以必須配備具有高防濕性、即防止氧或水蒸氣等透過或進入的氣體遮斷性的組件。

例如，在太陽能電池的例子中，在太陽能電池模塊的受光面的相反一側的背面設置有背板。關于該背板，代表性的有在基材上由具有高防濕性的氣體遮斷性材料和保護它們的部件等構成的背板。

作為這種構成太陽能電池模塊的背板，公開有例如通過高強度的耐熱性、耐候性樹脂夾層防濕性金屬箔，另外在其一方設置玻璃質蒸鍍皮膜而成的太陽能電池模塊的背面保護用片材料（例如參考專利文獻1）。在該片材料中，作為氣體遮斷性材料使用鋁箔、鍍鋅鐵箔、鍍錫鐵箔等金屬箔。

另外，公開有將層疊高防濕膜和高耐候膜并使其一體化而成的太陽能電池蓋板材料用于背面側保護部件的太陽能電池（例如參考專利文獻2）。該太陽能電池蓋板材料中的高防濕膜使用如下膜，即由CVD（化學蒸鍍）、PVD（反應蒸鍍）法等在PET膜等基材膜上形成防濕膜作為氣體遮斷性材料，所述防濕膜由二氧化硅、氧化鋁等無機氧化物的涂膜構成。另外，公開有具有基材膜和遮斷層，且遮斷層為通過空心陰極型離子鍍成膜的無機氮化物薄膜或無機氮化氧化物薄膜的透明遮斷膜（例如參考專利文獻3）。另外，公開有在太陽能電池元件的表面設置有阻止水蒸氣、氧氣、分解物或添加劑的1種以上透過的阻擋層的太陽能電池模塊（例如參考專利文獻4）。該太陽能電池模塊中作為阻擋層使用由通過樹脂膜、遮斷性樹脂膜、無機氧化物的蒸鍍膜、由硅化合物的水解得到的縮聚物構成的組合物形成的涂膜或者由其中2種以上構成的復合膜。

另外，公開有具備由呈無機氧化物層且由塑料膜或塑料復合材料構成的遮斷層的光伏模塊（例如參考專利文獻5）。在該無機氧化物層中，作為其涂層材料使用氧化鋁或氧化硅。并且，公開有由在耐熱、耐候性塑料膜上設置無機氧化物薄膜層并在該薄膜層面上層疊由相同樹脂構成的其他耐熱、耐候性塑料膜的層疊體構成的太陽能電池用背面保護片（例如參考專利文獻6）。該太陽能電池用背面保護片中作為無機氧化物薄膜層使用由氧化硅或氧化鋁的任一種形成的薄膜層。

另外，公開有在具有透明性的基材膜上依次層疊摻雜3價以上的金屬或半導體而成且具有紫外線屏蔽特性的氧化鋅層和氣體遮斷性優異的金屬氧化物層而成的層疊體（例如參考專利文獻7）。作為該層疊體的金屬氧化物層使用氧化硅、氧化鋁或氧化鎂。

另外，公開有在高分子膜基材的至少一面通過氣相沉積法成膜由金屬或金屬氧化物構成的氣體遮斷層，并在該氣體遮斷層上形成含有超微顆粒的樹脂層的具有紫外線防護性的透明性氣體遮斷性復合膜材料（例如參考專利文獻8）。作為該透明性氣體遮斷性復合膜材料的氣體遮斷層，使用由鋁構成的單層結構或多層結構或者由鋁氧化物、硅氧化物及鎂氧化物的至少一種構成的單層結構或多層結構。

專利文獻1：日本實用新型公告平2-44995號公報（實用新型授權權利要求及5欄的第41～44行）

專利文獻2：日本專利公開2000-174296號公報（權利要求1、權利要求7及[0019]段）

專利文獻3：日本專利公開2000-15737號公報（權利要求1）

專利文獻4：日本專利公開2001-217441號公報（權利要求1及3）

專利文獻5：日本專利公表2002-520820號公報（權利要求1及[0019]段）

專利文獻6：日本專利公開2002-134771號公報（權利要求1及2）

專利文獻7：日本專利公開平7-256813號公報（權利要求1、3及[0015]～[0016]段）

專利文獻8：日本專利公開2000-6305號公報（權利要求1、7、8及[0020]段）