[發(fā)明專利]一種納米復(fù)合電鍍層連鑄結(jié)晶器銅板及其制備工藝無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210269302.X | 申請日： | 2012-08-01 |
| 公開（公告）號： | CN102773434A | 公開（公告）日： | 2012-11-14 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 朱書成;黃國團;徐文柱;趙家亮 | 申請（專利權(quán)）人： | 西峽龍成特種材料有限公司 |
| 主分類號： | B22D11/059 | 分類號： | B22D11/059;C25D5/14;C25D3/56 |
| 代理公司： | 鄭州紅元帥專利代理事務(wù)所(普通合伙) 41117 | 代理人： | 季發(fā)軍 |
| 地址： | 474500 *** | 國省代碼： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 納米 復(fù)合 鍍層 結(jié)晶器 銅板 及其 制備 工藝 | ||
1.一種納米復(fù)合電鍍層連鑄結(jié)晶器銅板，包括基體，其特征在于：所述基體外面設(shè)置納米復(fù)合電鍍層，所述納米復(fù)合電鍍層由Ni-Co合金層和Ni-Co-WC合金層構(gòu)成，所述Ni-Co合金層為里層。
2.?如權(quán)利要求1所述的納米復(fù)合電鍍層連鑄結(jié)晶器銅板，其特征在于：所述Ni-Co合金層含有鍍層質(zhì)量0.3～5%的鈷和95～99.7%的鎳。
3.如權(quán)利要求1所述的納米復(fù)合電鍍層連鑄結(jié)晶器銅板，其特征在于：所述Ni-Co合金層的電鍍層厚度達到0.1～1.5mm。
4.?如權(quán)利要求1所述的納米復(fù)合電鍍層連鑄結(jié)晶器銅板，其特征在于：所述Ni-Co-WC納米復(fù)合電鍍層含有鍍層質(zhì)量5～41%的鈷和58～94%的鎳，以及彌散分布的占鍍層質(zhì)量1～15%，粒徑30～100納米的WC顆粒。
5.?如權(quán)利要求1所述的納米復(fù)合電鍍層連鑄結(jié)晶器銅板，其特征在于：所述Ni-Co-WC納米復(fù)合電鍍層的電鍍層厚度達到0.3～5.0mm。
6.?如權(quán)利要求1或2所述的納米復(fù)合電鍍層連鑄結(jié)晶器銅板，其特征在于：所述Ni-Co合金層含有鍍層質(zhì)量2.6%的鈷和97.4%的鎳。
7.如權(quán)利要求1或3所述的納米復(fù)合電鍍層連鑄結(jié)晶器銅板，其特征在于：所述Ni-Co合金層的電鍍層厚度達到0.8mm。
8.?如權(quán)利要求1或4所述的納米復(fù)合電鍍層連鑄結(jié)晶器銅板，其特征在于：所述Ni-Co-WC納米復(fù)合電鍍層含有鍍層質(zhì)量20%的鈷和72%的鎳，以及彌散分布的占鍍層質(zhì)量8%，粒徑53～76納米的WC顆粒。
9.如權(quán)利要求1或5所述的納米復(fù)合電鍍層連鑄結(jié)晶器銅板，其特征在于：所述Ni-Co-WC納米復(fù)合電鍍層的電鍍層厚度達到2.6mm。
10.?一種用于權(quán)利要求1所述納米復(fù)合電鍍層的連鑄結(jié)晶器銅板的制備工藝，其特征在于：
a.基體的鍍前處理：將所述基體進行脫脂處理、機械噴砂拉毛、電解脫脂、超聲波脫脂、酸噴淋活化；
b.電鍍出槽后的處理：包括退模、除氫、打磨、表面處理、封裝；
c.?在電鍍槽中配制含有Ni-Co材料的復(fù)合電鍍液：復(fù)合電鍍液由以下組分制成：氨基磺酸鎳：450～600g/L、氨基磺酸鈷:0.5～15g/L、硼酸28～35g/L、氯化鈉:5～15g/L、十二烷基硫酸鈉：0.1～1.0g/L、電鍍層增韌劑LCZ?70ml/L，PH：3.0～4.5，T：55～65℃，攪拌條件：循環(huán)泵攪拌或空氣攪拌；
d.?電鍍Ni-Co合金層：用氨基磺酸調(diào)節(jié)電鍍液PH值為3.0～4.5，再將電鍍液加熱至?55～65℃，將銅板作為陰極，陰極電流密度控制在1～5A/dm2，至Ni-Co合金層的電鍍層厚度達到0.1～1.5mm停止電鍍；
e.對已制備完畢的?Ni-Co電鍍層進行活化處理：電解活化液體成份為，氨基磺酸130g/L、鹽酸25～40ml/L、溫度：室溫，陰極電流密度：5～15A/dm2，時間10～30min；
f.WC顆粒活化：在可調(diào)速攪拌容器內(nèi)，先加水，再采用流加的方法加入分散劑TAZ-ND?1，高速攪拌15分鐘后，加入30～100納米WC顆粒，低速攪拌15分鐘，放入超聲波發(fā)生器30分鐘，然后高速攪拌2.0小時停止攪拌；
g.在電鍍槽中配置Ni-Co-WC材料復(fù)合電鍍液：電鍍液由以下組分制成，氨基磺酸鎳：450～600g/L、氨基磺酸鈷：15～60g/L、硼酸：28～35g/L，氯化鈉：5～15g/L、十二烷基硫酸鈉：0.1～1.0g/L、e步驟制備的WC（以干料狀態(tài)計量）：5～40g/L、T：55～65℃，攪拌條件：循環(huán)泵攪拌或空氣攪拌；
h.電鍍Ni-Co-WC合金層：將d步驟活化處理后的敷有Ni-Co電鍍層的銅板放入Ni-Co-WC材料的復(fù)合電鍍液中，用氨基磺酸調(diào)節(jié)電鍍液PH值為3.0～4.5，再將電鍍液加熱至?55～65℃，將敷有Ni-Co電鍍層的銅板作為陰極，陰極電流密度控制在3.0～4.5A/dm2，至Ni-Co-WC納米復(fù)合電鍍層的鍍層厚度達到0.3～5.0mm時，停止電鍍。
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