[發(fā)明專利]校準光學相干斷層成像系統(tǒng)的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210269037.5
• 申請日: 2008-11-12
• 公開（公告）號: CN102783937A
• 公開（公告）日: 2012-11-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 克里斯托弗·彼得森;史蒂芬·M·麥卡廷;約瑟夫·M·斯密特;喬爾·M·弗里德曼
• 申請（專利權(quán)）人: 光學實驗室成像公司
• 主分類號: A61B5/00
• 分類號: A61B5/00;G02B23/24;A61B1/05
• 代理公司: 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11240
• 代理人: 李丙林;張英

1.一種校準光學相干斷層成像系統(tǒng)的方法，所述方法包括：

響應(yīng)由樣品反射的光而產(chǎn)生掃描數(shù)據(jù)，所述反射的光穿過基本透明的彎曲罩，所述基本透明的彎曲罩形成成像探針的一部分；

響應(yīng)從設(shè)置在所述基本透明的彎曲罩中的多個背散射顆粒散射的光而產(chǎn)生參考數(shù)據(jù)；以及

響應(yīng)所述參考數(shù)據(jù)來校準所述光學相干斷層成像系統(tǒng)以確定隨后光學相干斷層成像掃描的相對位置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述掃描數(shù)據(jù)包括一組角度和一組徑向距離。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述參考數(shù)據(jù)包括一組角度和一組徑向距離。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述校準步驟包括搜索所述參考數(shù)據(jù)中的環(huán)形模式。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述校準步驟包括確立所述光學相干斷層成像系統(tǒng)的參考點。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，產(chǎn)生掃描數(shù)據(jù)的步驟包括相對于所述基本透明的彎曲罩旋轉(zhuǎn)光纖。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，進一步包括產(chǎn)生所述樣品的z-補償校正圖像文件的步驟。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述基本透明的彎曲罩包括聚合物。

9.一種校準光學相干斷層成像系統(tǒng)的方法，所述方法包括：

響應(yīng)由樣品反射的光旋轉(zhuǎn)具有彎曲罩的成像探針，同時收集光學相干斷層成像掃描數(shù)據(jù)，所述反射的光穿過所述彎曲罩；

從設(shè)置在所述彎曲罩中的多個散射顆粒散射光；

響應(yīng)從設(shè)置在所述彎曲罩中的多個散射顆粒反射的散射光而產(chǎn)生光學相干斷層成像參考數(shù)據(jù)；以及

響應(yīng)所述光學相干斷層成像參考數(shù)據(jù)來校準所述光學相干斷層成像系統(tǒng)以確定隨后光學相干斷層成像掃描的相對位置。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中，所述掃描數(shù)據(jù)包括一組角度和一組徑向距離。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中，所述參考數(shù)據(jù)包括一組角度和一組徑向距離。

12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中，所述校準步驟包括搜索所述參考數(shù)據(jù)中的環(huán)形模式。

13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中，所述校準步驟包括確立所述光學相干斷層成像系統(tǒng)的參考點。

14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，進一步包括產(chǎn)生所述樣品的z-補償校正圖像文件的步驟。

15.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中，所述彎曲罩包括聚合物。