[發(fā)明專利]用于檢查晶體缺陷結(jié)構(gòu)的方法和系統(tǒng)

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210269014.4
• 申請(qǐng)日: 2012-06-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102854205A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-01-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: S·辛赫;A·蘇羅米;V·K·托爾皮戈;A·金尼
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 霍尼韋爾國(guó)際公司
• 主分類號(hào): G01N23/20
• 分類號(hào): G01N23/20
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 曲寶壯;劉春元

1.一種檢查結(jié)構(gòu)(30)的方法，包括：

配置X射線源(12)以發(fā)射預(yù)定X射線波長(zhǎng)的X射線(16)；

將所述結(jié)構(gòu)設(shè)置于相對(duì)于X射線源的多個(gè)位置(31)；

對(duì)于每個(gè)位置，使預(yù)定X射線波長(zhǎng)的X射線的非平行列陣朝向所述結(jié)構(gòu)照射，用于由晶體缺陷(32)衍射來(lái)產(chǎn)生衍射X射線(36)的圖案(38)；

捕獲衍射X射線的每個(gè)圖案；并且

互相比較每個(gè)捕獲到的衍射X射線的圖案以定位所述晶體缺陷。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中X射線的每個(gè)列陣包括單色X射線，其中衍射X射線穿過(guò)所述結(jié)構(gòu)。

3.如權(quán)利要求1所述的方法，進(jìn)一步包括用目標(biāo)物標(biāo)記探測(cè)到的晶體缺陷，以物理移除所述晶體缺陷。

4.如權(quán)利要求1所述的方法，進(jìn)一步包括產(chǎn)生結(jié)構(gòu)的映像以傳送所述晶體缺陷的定位，并且其中所述映像公開(kāi)了所述晶體缺陷的三維邊緣。

5.如權(quán)利要求1所述的方法，其中衍射X射線的圖案由數(shù)字圖像捕獲裝置(22，24)捕獲，其中所述數(shù)字圖像捕獲裝置傳送捕獲的衍射X射線的圖案到計(jì)算機(jī)(40)，其中所述計(jì)算機(jī)基于所傳送的捕獲的衍射X射線的圖案確定后續(xù)位置，并且其中所述計(jì)算機(jī)將所述結(jié)構(gòu)設(shè)置于相對(duì)X射線源的所述多個(gè)位置。

6.如權(quán)利要求1所述的方法，進(jìn)一步包括：

增強(qiáng)X射線源從而以設(shè)別的X射線波長(zhǎng)發(fā)射選定的X射線輪廓。

7.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述結(jié)構(gòu)具有表面，其中所述晶體缺陷位于表面上，并且其中衍射X射線以向后的方向反射離開(kāi)所述表面以產(chǎn)生衍射X射線的每個(gè)圖案。

8.一種針對(duì)晶體缺陷(132)檢查未刻蝕的單晶高溫合金鑄件(130)的方法，所述晶體缺陷(132)對(duì)識(shí)別的X射線波長(zhǎng)的X射線具有可確定的衍射效應(yīng)，該方法包括：

將所述鑄件設(shè)置于相對(duì)于X射線源(112)的多個(gè)系列位置(31)；

對(duì)于系列位置中的每一個(gè)，使識(shí)別的X射線波長(zhǎng)的X射線(114，115，116，117)的非平行列陣從X射線源朝向所述鑄件照射，從而由晶體缺陷衍射，以產(chǎn)生衍射X射線的圖案；

捕獲衍射X射線的每個(gè)系列圖案；并且

分析衍射X射線的系列圖案來(lái)定位所述晶體缺陷。

9.如權(quán)利要求8所述的方法，進(jìn)一步包括：

用目標(biāo)物標(biāo)記探測(cè)到的晶體缺陷，以物理移除晶體缺陷；并且

增強(qiáng)X射線源以發(fā)射識(shí)別的X射線波長(zhǎng)的X射線的選定輪廓；

其中所述的X射線源被限制僅僅使識(shí)別的X射線波長(zhǎng)的X射線朝向鑄件照射，來(lái)最大化由晶體缺陷引起的衍射，其中所述鑄件具有內(nèi)部，其中衍射X射線穿過(guò)所述鑄件，其中所述晶體缺陷位于鑄件的內(nèi)部，其中由數(shù)字圖像捕獲裝置(22，24)捕獲衍射X射線的系列圖案，其中數(shù)字圖像捕獲裝置傳送衍射X射線的系列圖案到計(jì)算機(jī)(40)，其中所述計(jì)算機(jī)基于傳送的衍射X射線的系列圖案來(lái)確定后續(xù)的系列位置，并且其中所述計(jì)算機(jī)將所述鑄件設(shè)置于相對(duì)于X射線源的所述多個(gè)系列位置。

10.一種用于檢查未刻蝕結(jié)構(gòu)(30)的系統(tǒng)(10)，包括：

X射線源(12)，配置成使X射線(16)朝向所述結(jié)構(gòu)照射；

捕獲裝置(22，24)配置成捕獲由所述結(jié)構(gòu)內(nèi)的缺陷(32)衍射的X射線的圖案；

結(jié)構(gòu)支架(42)配置成將所述結(jié)構(gòu)安裝于其上，所述結(jié)構(gòu)支架進(jìn)一步配置成可控制地移動(dòng)，因而移動(dòng)所述結(jié)構(gòu)到多個(gè)位置(31)；并且

處理器(40)，與所述X射線源、所述結(jié)構(gòu)支架和所述捕獲裝置可操作地通信，所述處理器配置成控制X射線源發(fā)射預(yù)定波長(zhǎng)的X射線，所述處理器配置成可控地設(shè)置所述結(jié)構(gòu)支架在所述多個(gè)位置，并且所述處理器進(jìn)一步配置成比較捕獲的衍射X射線的圖案以定位晶體缺陷。