[發明專利]一種整體浴室頂蓋

無效

• 申請號: 201210268178.5
• 申請日: 2012-07-31
• 公開（公告）號: CN102747847A
• 公開（公告）日: 2012-10-24
• 發明（設計）人: 胡福濤
• 申請（專利權）人: 蘇州科逸住宅設備股份有限公司
• 主分類號: E04H1/12
• 分類號: E04H1/12;E04F19/08
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103
• 代理人: 孫仿衛;趙艷

技術領域

本發明涉及一種整體浴室頂蓋，尤其是涉及一種設有雙檢修口的拼接式整體浴室頂蓋。

背景技術

整體浴室是浴室所有的結構件，部件和器具都在制造廠制造，整體銷售，最終到用戶現場安裝的浴室。整體浴室主要由底板、墻板、頂蓋等結構件組裝而成，浴室內還配套設有浴缸、座便器、洗面臺、熱水器等一系列的衛浴設施。頂蓋是整體浴室中重要的結構件，傳統的整體浴室頂蓋為單個一體成型的全拱形頂蓋，如果整體浴室上方發生管道漏水或老化現象，則需要將整體浴室內的設施、墻體和頂蓋拆除后才能進行維修，維修好以后再將整體浴室組裝好，維修和安裝的過程復雜繁瑣，也增加了維修的成本。

因此，為了解決上述問題，在傳統頂蓋的基礎上改進出現了一種帶有檢修口的整體浴室頂蓋，施工人員在對頂蓋進行安裝或對頂蓋上方的管道進行維修或施工時，可通過該檢修口進行操作。但是目前帶有檢修口的整體浴室頂蓋通常只設計一個檢修口，檢修口位于頂蓋的正中心與頂蓋邊緣距離較遠，或者檢修口位于頂蓋的一側與另一側距離較遠，施工人員通常必須穿過該檢修口進入頂蓋上方才能完成對頂蓋的安裝或維修的全部工作，施工復雜，而且施工人員進入頂蓋上部后在頂蓋上移動，由于自身重力作用，常常造成頂蓋單側受到壓力過大，墻板或頂蓋容易產生裂縫或變形。

發明內容

本發明的目的是克服現有技術的缺陷，提供一種設有雙檢修口的拼接式整體浴室頂蓋，所述整體浴室頂蓋便于安裝或維修，施工人員無須進入頂蓋上部即可對頂蓋上部進行大部分施工操作，避免了因施工人員進入頂蓋上部時整體浴室頂蓋或墻板受力過大產生裂縫或變形。

為達到上述目的，本發明采用的技術方案是：

一種整體浴室頂蓋，其特征在于，其包括第一蓋體和第二蓋體，所述第一蓋體具有向上凸起的第一拱形分部，所述第一拱形分部的中心設有第一檢修口，所述第一檢修口上設有第一檢修蓋；所述第二蓋體具有向上凸起的第二拱形分部，所述第二拱形分部的中心設有第二檢修口，所述第二檢修口上設有第二檢修蓋；所述第一蓋體與所述第二蓋體固定拼接，所述第一拱形部與所述第二拱形部組合形成一個整體向上凸起的拱形部。

相較于現有技術，本發明整體浴室頂蓋通過兩個分別具有拱形部的蓋體拼接而成，每個蓋體上還分別設有檢修口，在對本發明整體浴室頂蓋進行安裝時，可分別對兩個蓋體先后進行安裝，然后將兩個蓋體固定拼接，施工方便，施工人員無須進入頂蓋上部就可進行大部分施工操作，避免因人員的自身重力造成的單側壓力過大，頂蓋或墻板產生裂縫或變形。

附圖說明

圖1為本發明一種整體浴室頂蓋的主視圖。

圖2為本發明一種整體浴室頂蓋的仰視圖。

圖3為本發明一種整體浴室頂蓋的左視圖。

圖4為本發明一種整體浴室頂蓋的立體爆炸示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖對本發明的具體實施方式進行詳細說明。

請參閱圖1至圖4，本發明提供一種整體浴室頂蓋，其包括第一蓋體10和第二蓋體20。所述第一蓋體10具有向上凸起的第一拱形分部11，所述第一拱形分部11的中心設有第一檢修口，所述第一檢修口上設有第一檢修蓋12。所述第二蓋體20具有向上凸起的第二拱形分部21，所述第二拱形分部的中心設有第二檢修口，所述第二檢修口上設有第二檢修蓋22。在本實施例中，所述第一蓋體10與所述第二蓋體20通過螺栓固定拼接，所述第一拱形分部11與所述第二拱形分部21組合形成一個整體向上凸起的拱形部。

本實施例中，所述第一檢修蓋11及第二檢修蓋12均為卡設于所述第一檢修口及第二檢修口上，施工人員或維修人員無須工具即可將檢修蓋打開。在安裝本發明整體浴室頂蓋時，可先將第一檢修蓋12及第二檢修蓋22都打開，然后將第一蓋體10及所述第二蓋體20先后安裝到整體浴室頂部，最后將第一蓋體10及第二蓋體20通過螺栓固定拼接在一起。由于第一檢修口和第二檢修口分別設于浴室整體頂蓋的兩側，在對整體浴室頂蓋上部進行施工或維修作業時，通過第一檢修口和第二檢修口，施工人員或維修人員不需要進入頂蓋上部即可進行操作。施工人員或維修人員需要進入頂蓋上部時，可根據施工位置選擇第一檢修口或第二檢修口進入頂蓋上部，這樣可減少施工人員在頂蓋上部移動，避免因人員的自身重力造成的單側壓力過大，頂蓋或墻板產生裂縫或變形。

上述實施例只為說明本發明的技術構思及特點，其目的在于讓熟悉此項技術的人士能夠了解本發明的內容并據以實施，并不能以此限制本發明的保護范圍，凡根據本發明精神實質所作的等效變化或修飾，都應涵蓋在本發明的保護范圍之內。