[發明專利]一種密閉腔PWM加熱控制方法及其系統

有效

• 申請號: 201210265217.6
• 申請日: 2012-07-27
• 公開（公告）號: CN102749939A
• 公開（公告）日: 2012-10-24
• 發明（設計）人: 蔡飛;張鵬;陳建宇;江毅;喻杰奎
• 申請（專利權）人: 武漢光迅科技股份有限公司
• 主分類號: G05D23/19
• 分類號: G05D23/19
• 代理公司: 武漢科皓知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 42222
• 代理人: 張火春

1.一種密閉腔PWM加熱控制方法，其特征在于：針對密閉腔采用PID控制加熱，并采用前饋控制單元對其供電電壓變化量進行監控獲得實時電壓變化累加值進而獲得如下PID補償量和PID輸出一起產生PWM波形輸入LC濾波電路加熱密閉腔：PID補償量=實時電壓變化累加值×當前PID的輸出結果/當前參考電壓。

2.如權利要求1所述的一種密閉腔PWM加熱控制方法，其特征在于：所述的PID補償量在不同溫度環境下按下式進行修正：PID補償量=K(實時電壓變化累加值×當前PID的輸出結果/當前參考電壓)+B；其中：K為密閉腔在不同溫度下的前饋調節比例因子，B為密閉腔在不同溫度下的前饋調節差量因子。

3.如權利要求2所述的一種密閉腔PWM加熱控制方法，其特征在于：所述獲得K、B值的方法具體步驟如下：步驟1、在穩定的電壓下，將密閉腔加熱到目標溫度期望值；步驟2、改變參考電壓的大小，來回變化參考電壓，通過對比目標期望溫度和密閉腔實際溫度確認補償效果；步驟3、看是否有過調或者欠調的現象，過調則減少K值，反之著增大K值，直到最佳補償效果，以此來確認K值；步驟4、確定完K值后確定B值，方法同步驟3，直到達到最佳補償效果；在不同環境溫度下重復步驟1~4可以得到不同溫度下的K、B參數。

4.如權利要求3所述的一種密閉腔PWM加熱控制方法，其特征在于：所述步驟2中改變參考電壓大小的變化量大于0.3V。

5.一種密閉腔PWM加熱控制系統，包括加熱控制單元（201）、LC濾波電路（104）、供電模塊（105）、密閉腔（106），其特征在于：加熱控制單元（201）包括PID控制單元（202）、前饋控制單元（203）、PWM模塊（103）三部分構成，所述前饋控制單元（203）同PID控制單元（202）相連接，所述PID控制單元（202）和前饋控制單元（203）通過加法器（210）同PWM模塊（103）相連接，所述前饋控制單元（203）中的電壓監控模塊（207）通過電壓探測單元（209）實時監控與其相連的供電模塊（105）,計算實時電壓變化累加值且傳遞至與其相連的電壓前饋補償模塊（205），所述電壓前饋補償模塊（205）根據其設置的PID補償量=實時電壓變化累加值×當前PID的輸出結果/當前參考電壓計算關系獲得產生的PID補償量傳遞至PWM模塊（103）。

6.如權利要求5所述的一種密閉腔PWM加熱控制系統，其特征在于：所述前饋控制單元（203）包括與其電壓前饋補償模塊（205）相連的溫度前饋模塊（204），所述溫度前饋模塊（204）連接環境溫度監控模塊（206），所述溫度前饋模塊（204）產生環境溫度監控模塊（206）監控溫度對應的比例因子K、差量因子B參數值并傳遞至電壓前饋補償模塊（205）。

7.如權利要求6所述的一種密閉腔PWM加熱控制系統，其特征在于：所述溫度前饋模塊（204）存儲有不同環境溫度對應的比例因子K、差量因子B參數表。