[發明專利]一種陶瓷柱柵陣列元器件的植柱裝置及方法有效
| 申請號: | 201210264353.3 | 申請日: | 2012-07-27 |
| 公開(公告)號: | CN102856215A | 公開(公告)日: | 2013-01-02 |
| 發明(設計)人: | 姚全斌;練濱浩;黃穎卓;林鵬榮 | 申請(專利權)人: | 北京時代民芯科技有限公司;北京微電子技術研究所 |
| 主分類號: | H01L21/50 | 分類號: | H01L21/50;H01L21/60 |
| 代理公司: | 中國航天科技專利中心 11009 | 代理人: | 安麗 |
| 地址: | 100076 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 陶瓷 陣列 元器件 裝置 方法 | ||
1.一種陶瓷柱柵陣列元器件的植柱裝置,其特征在于:該裝置從下往上依次包括底座(1)、焊柱平整化機構(2)、焊柱定位機構(3)、陶瓷外殼定位機構(4)和上蓋(5);
底座(1)為中心帶有凸臺的平板;
焊柱平整化機構(2)為中空的平板;平板的一個側邊為切削邊,焊柱平整化機構(2)的中空部位與底座(1)的凸臺相匹配;
焊柱定位機構(3)為一平板,由網板組合;其中心帶有與待焊接焊柱直徑相適應的植柱孔;
陶瓷外殼定位機構(4)為中空的平板,陶瓷外殼定位機構(4)的每個側邊各帶有一限位臺,四個限位臺組成的空間與陶瓷外殼相匹配;每兩個限位臺之間是中空的;
上蓋(5)為中空的平板;
焊柱平整化機構(2)、焊柱定位機構(3)、陶瓷外殼定位機構(4)和上蓋(5)固定連接,底座(1)與焊柱平整化機構(2)固定連接;連接后,陶瓷外殼定位機構(4)和焊柱定位機構(3)的植柱孔都位于上蓋(5)的中空部位。
2.根據權利要求1所述的一種陶瓷柱柵陣列元器件的植柱裝置,其特征在于:網板是用激光進行精密加工的,其厚度為0.1~0.6mm。
3.根據權利要求1所述的一種陶瓷柱柵陣列元器件的植柱裝置,其特征在于:切削邊從焊柱平整化機構(2)的邊緣到中心的厚度逐漸變小,切削邊的傾斜度小于10°。
4.一種陶瓷柱柵陣列元器件的植柱方法,其特征在于該方法的步驟為:
1)將焊柱平整化機構(2)、焊柱定位機構(3)、陶瓷外殼定位機構(4)和上蓋(5)固定連接,然后將底座(1)與焊柱平整化機構(2)固定連接;
2)將待焊接焊柱按照陶瓷外殼焊盤分布的要求放置在焊柱定位機構(3)的植柱孔中,并穿過植柱孔至底座(1)的凸臺上;
3)在陶瓷外殼的焊盤上印刷焊錫膏,將陶瓷外殼放置于焊柱上,使焊錫膏與待焊接焊柱充分接觸,并通過陶瓷外殼定位機構(4)上的限位臺將陶瓷外殼進行定位;
4)將放置有陶瓷外殼的植柱裝置進行焊點的回流焊,待植柱裝置冷卻后將底座(1)取下,用切削工具通過焊柱平整化機構(2)的切削邊對焊柱表面進行平整化處理,最后將植好焊柱的陶瓷外殼從植柱裝置中取出。
5.根據權利要求4所述的一種陶瓷柱柵陣列元器件的植柱方法,其特征在于:步驟4)中的回流焊在回流爐內進行。
6.根據權利要求4或5所述的一種陶瓷柱柵陣列元器件的植柱方法,其特征在于:回流焊的峰值溫度為250~275℃,回流時間為30~60s。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





