[發明專利]包邊大尺寸釹玻璃包邊剩余反射檢測裝置及檢測方法

有效

• 申請號: 201210262289.5
• 申請日: 2012-07-26
• 公開（公告）號: CN102768202A
• 公開（公告）日: 2012-11-07
• 發明（設計）人: 李順光;李夏;陳偉;胡麗麗
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海光學精密機械研究所
• 主分類號: G01N21/55
• 分類號: G01N21/55
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 張澤純

1.一種包邊大尺寸釹玻璃包邊剩余反射的檢測裝置，其特征在于該裝置包括第一激光光源（1）、光束整形透鏡組（4）、分光鏡（5）、第一全反鏡（7）、光束定位系統（8）、待測樣品（9）、激光強度探測器（6）、剩余反射探測器（10）和數據處理系統（11），上述元部件的位置關系如下：

沿第一激光光源（1）的激光輸出方向依次是光束整形透鏡組（4）和分光鏡（5），該分光鏡（5）將入射光分為透射光和反射光，在該反射光方向是所述的激光強度探測器（6），在所述的透射光方向依次是所述的第一全反鏡（7）、光束定位系統（8）、待測樣品（9）和剩余反射探測器（10），所述的激光強度探測器（6）和剩余反射探測器（10）的輸出端與所述的數據處理系統（11）的輸入端相連。

2.根據權利要求1所述的包邊大尺寸釹玻璃包邊剩余反射的檢測裝置，其特征在于所述的激光光源安裝在光學基座上，該激光光源的激光波長為1053nm，所述的光束整形透鏡組（4）和分光鏡（5）都安裝在能水平和俯仰進行轉動的調整架上，所述的待測樣品安裝在樣品平臺上，該樣品平臺能夠進行俯仰和水平調整，待測樣品（9）為長方體，由釹玻璃（9-A）、膠合層（9-B）、包邊玻璃（9-C）三部分組成，所述的光束定位系統（8）包括水平移動和上下移動模塊、兩組轉光鏡以及放置轉光鏡的調整架，調整架具有水平和俯仰轉動調整功能；所述激光強度探測器（6）和剩余反射探測器（10）與數據處理系統（11）相連接。

3.根據權利要求1所述的包邊大尺寸釹玻璃包邊剩余反射的檢測裝置，其特征在于還有第二全反鏡（3）和其它波長激光器（2），在所述的激光光源（1）和光束整形透鏡組（4）之間設有與光路成45°的第二全反鏡（3）的插入口，通過插入第二全反鏡（3），引入其它波長激光器（2）的激光進行測量。

4.根據權利要求1所述的包邊大尺寸釹玻璃包邊剩余反射的檢測裝置，其特征在于所述激光強度探測器和剩余反射探測器均為點探測器，所述激光強度探測器響應靈敏度與激光器輸出激光強度匹配，剩余反射探測器響應靈敏度與釹玻璃包邊剩余反射強度相匹配。

5.利用上述檢測裝置對包邊釹玻璃剩余反射的檢測方法，其特征在于它包括以下步驟：

①調節第一激光光源（1）、光束整形透鏡組（4）、分光鏡（5）、第一全反鏡（7）、光束定位系統（8）、激光強度探測器（6）和剩余反射探測器（10），使得激光光束位于它們的中心且同軸；

②調整光束整形透鏡組（4），降低激光輸出的發散角；

③啟動第一激光光源（1），使得輸出激光保持穩定；

④調整樣品臺，使待測樣品（9）兩個最大面保持豎直狀態并固定之；

⑤調節所述的光束定位系統（8），使測試光束以所需檢測的角度入射到待測樣品（9）需檢測的位置；

⑥開始測量，讀取激光強度探測器（6）的能量測量值E1和剩余反射探測器（10）的能量測量值E2并輸入所述的數據處理系統（11）；

⑦所述的數據處理系統（11）按下列剩余反射計算公式進行計算釹玻璃剩余反射率R（θ）：，

R(θ)residual=1(1-R1)(1-R2)E2E1S]]>

其中：R₁為入射到釹玻璃表面的反射率，R₂為從釹玻璃出射到空氣的反射率，R₁和R₂可根據菲涅爾反射定律計算得到，θ為入射角，根據光束入射角度和釹玻璃折射率采用反射定律計算獲得，s為所述的分光鏡（5）的分光比。