[發(fā)明專利]一種太陽能選擇性吸收涂層及其制備工藝

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210260996.0
• 申請日: 2012-08-31
• 公開（公告）號: CN102798241A
• 公開（公告）日: 2012-11-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王健;杜勇;齊京;劉希杰
• 申請（專利權(quán)）人: 山東力諾新材料有限公司;清華大學(xué)
• 主分類號: F24J2/48
• 分類號: F24J2/48;C23C14/35;C23C26/00;C23C28/00
• 代理公司: 濟(jì)南泉城專利商標(biāo)事務(wù)所 37218
• 代理人: 李桂存

1.一種太陽能選擇性吸收涂層，其特征在于自下而上依次包括金屬底層、吸收層、溶膠-凝膠減反射層；

所述溶膠-凝膠減反射層是由正硅酸乙酯、無水乙醇、H₂O和鹽酸按照體積比1：（5-10）：（0.4-1）：（0.02-0.15）制得的溶膠溶液得到；

溶膠-凝膠減反射層厚度為80-160nm，

所用鹽酸質(zhì)量分?jǐn)?shù)為37%。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能選擇性吸收涂層，其特征在于所述的吸收層包括高金屬體積比吸收層和低金屬體積比吸收層。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的太陽能選擇性吸收涂層，其特征在于所述溶膠-凝膠減反射層厚度為120nm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的太陽能選擇性吸收涂層，其特征在于金屬底層厚度為110nm，吸收層厚度為100nm。

5.一種太陽能選擇性吸收涂層的制備工藝，其特征是包括以下步驟：

（1）利用磁控濺射方法在基體上制備金屬底層、吸收層；

（2）配制溶膠溶液，將步驟（1）得到的涂層浸入溶膠溶液中，制得溶膠-凝膠減反射層，干燥、燒結(jié)得到太陽能選擇性吸收涂層；

所述溶膠溶液是由正硅酸乙酯、無水乙醇、H₂O和鹽酸按照體積比1：（5-10）：（0.4-1）：（0.02-0.15）組成，

所述鹽酸質(zhì)量分?jǐn)?shù)為37%。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備工藝，其特征在于所述溶膠溶液制備方法如下：

a、將正硅酸乙酯、一部分無水乙醇混合，攪拌均勻作為溶液A；

b、將剩余的無水乙醇、去離子水、鹽酸混合，攪拌均勻作為溶液B；

c、將溶液A、溶液B混合均勻。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備工藝，其特征在于步驟（2）中干燥為在20±2℃、60-70%相對濕度的環(huán)境下干燥30min；燒結(jié)為在300℃下燒結(jié)30min。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備工藝，其特征在于步驟（1）中吸收層包括高金屬體積比吸收層和低金屬體積比吸收層；

在氬氣氣氛中，開金屬靶，非反應(yīng)濺射鍍制金屬底層；

開金屬靶，在氬氣和氮?dú)庵蟹磻?yīng)濺射，在金屬底層上鍍制高金屬體積比吸收層；

開金屬靶，在氬氣和氮?dú)庵蟹磻?yīng)濺射，鍍制低金屬體積比吸收層。

9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備工藝，其特征在于將步驟（1）得到的涂層浸入溶膠溶液中靜止一段時(shí)間后，以80-150mm/min的提拉速度被提拉出。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制備工藝，其特征在于提拉速度為120mm/min。