[發明專利]涂敷裝置

無效

• 申請號: 201210260718.5
• 申請日: 2012-07-25
• 公開（公告）號: CN103008165A
• 公開（公告）日: 2013-04-03
• 發明（設計）人: 川口靖弘;上野幸一;高木善則
• 申請（專利權）人: 大日本網屏制造株式會社
• 主分類號: B05C5/00
• 分類號: B05C5/00;B05C13/02
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 宋曉寶;郭曉東

技術領域

本發明涉及用于向有機EL顯示裝置用玻璃基板、液晶顯示裝置用玻璃基板、太陽電池用基板、PDP用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、光盤用基板等基板涂敷涂敷液的涂敷裝置。

背景技術

在這樣的涂敷裝置中，采用如下的構成，即，將基板載置于載物臺上，并且在使狹縫噴嘴的涂敷液噴出用狹縫與載置在載物臺上的基板的表面接近的狀態下，使該狹縫噴嘴沿著基板的表面移動，從而向基板的表面涂敷涂敷液。

在這樣的涂敷裝置中，在將基板搬入到載物臺上或者從載物臺上搬出基板時，使用以能夠升降的方式設置于載物臺上的升降銷和與該升降銷之間交接基板的搬運機械手（參照日本特開2007-287914號公報）。

另外，還提出了一種涂敷裝置，在該涂敷裝置中，一邊通過輥來搬運基板，一邊從狹縫噴嘴向基板的表面涂敷涂敷液（參照日本特開2009-61380號公報）。

另外，為了將基板吸附保持于載物臺上，還提出了如下的基板固定方法，即，在通過吸附墊吸附了基板的狀態下，使該吸附墊向載物臺方向移動，在通過吸附墊將基板的整個面按壓在載物臺的狀態下，將該基板吸附保持于載物臺上，然后，解除吸附墊的按壓力（參照日本特開2004-179399號公報）。

在作為基板使用比較厚且翹曲大的太陽電池用基板的情況下，會有不能將基板完全地吸附保持于載物臺上的情況。即，如日本特開2004-179399號公報所述，即使暫時將基板吸附保持在載物臺上，也因為基板的厚度大且翹曲也厲害，所以可能在基板的一部分區域和載物臺之間產生空隙。在產生這樣的現象的情況下，不能使基板和狹縫噴嘴之間的距離保持恒定，涂敷液的涂敷精度會降低。另外，在基板的翹曲大的情況下，也會有基板和狹縫噴嘴碰撞的危險。此外，這樣的現象尤其容易發生在厚度在1.7mm以上的太陽電池用基板中。

為了解決這樣的問題，也能夠通過噴射涂敷方式、真空蒸鍍法或者化學氣相沉積法等在基板的表面進行成膜，但成膜材料的使用効率差，另外，制造成本也會高。

發明內容

本發明是為了解決上述問題而提出的，其目的在于提供例如向如太陽電池用基板那樣翹曲大的基板涂敷涂敷液的情況下，也能夠高精度地涂敷涂敷液的涂敷裝置。

技術方案1所述的發明為一種涂敷裝置，該涂敷裝置在使狹縫噴嘴的涂敷液噴出用狹縫與載置在載物臺上的基板的表面相接近的狀態下，通過使狹縫噴嘴的涂敷液噴出用狹縫相對于該基板在水平方向上移動，由此向基板的表面涂敷涂敷液，其特征在于，具有：

該涂敷裝置具有多個吸附構件，在通過上述狹縫噴嘴向上述基板涂敷涂敷液的期間，上述多個吸附構件在對上述基板的背面的多個位置進行吸附保持的狀態下，將上述基板按壓于上述載物臺的表面，由此將上述基板相對于上述載物臺保持為平坦的狀態。

技術方案2所述的發明在技術方案1所述的發明的基礎上，其特征在于，

上述吸附構件由吸附盤構成，該吸附盤具有由彈性材料形成的盤狀的吸附部和與減壓單元相連通的基部，該吸附盤位于在上述載物臺上的孔部內，并且，該吸附盤的基部以吸附部的前端從上述載物臺的表面突出的狀態固定于上述載物臺，

在上述吸附部的前端和上述基板的背面相抵接的狀態下，通過對由上述吸附部和上述基板形成的空間的內部進行排氣，由此利用上述吸附部發生彈性變形的作用，來將上述基板的背面按壓于上述載物臺的表面

技術方案3所述的發明在技術方案2所述的發明的基礎上，其特征在于，

上述涂敷裝置還具有外周部按壓構件，該外周部按壓構件將載置在上述載物臺上的基板的外周部按壓于上述載物臺的表面。

技術方案4所述的發明在技術方案1至3中任一項所述的發明的基礎上，其特征在于，該涂敷裝置還具有：

基板搬運機構，相對于上述載物臺水平地搬運基板；

多個基板搬運構件，設置于上述載物臺上，并能夠在搬運位置和退避位置之間進行升降，上述搬運位置是指，通過使上述基板搬運構件的至少一部分配置于上述載物臺的表面的上方，來在與上述基板搬運機構之間搬運上述基板的位置，上述退避位置是指，通過將上述基板搬運構件的全部配置于上述載物臺的表面的下方，來使上述基板吸附保持于上述載物臺的表面的位置

技術方案5所述的發明在技術方案4所述的發明的基礎上，其特征在于，

上述多個基板搬運構件為多個輥或多個傳送帶，所述多個輥或多個傳送帶配置于在載物臺形成的孔部內并且能夠彼此同步地升降。

技術方案6所述的發明在技術方案4所述的發明的基礎上，其特征在于，