[發明專利]一種多功能激光醫療裝置

有效

• 申請號: 201210260309.5
• 申請日: 2012-07-26
• 公開（公告）號: CN102772252A
• 公開（公告）日: 2012-11-14
• 發明（設計）人: 周輝
• 申請（專利權）人: 周輝
• 主分類號: A61B18/22
• 分類號: A61B18/22
• 代理公司: 蕪湖安匯知識產權代理有限公司 34107
• 代理人: 張小虹

技術領域

本發明涉及激光治療領域，具體涉及一種多功能激光醫療裝置。

背景技術

激光的能量在時間、空間、光譜上高度集中，使它在眾多領域中得到了廣泛應用。其中，醫學是應用激光技術最早、最廣泛和最活躍的一門學科。世界各國已開發出許多種不同治療用途的激光醫療設備，并用于臨床治療。

當前，以最小的創傷達到治愈疾病的目的已經成為國際外科領域發展的趨勢，傳統的手術模式不斷被新型的微創介入手術所淘汰，微創介入治療已成為現代醫院臨床治療的主要手段之一。現代微創外科手術需要先進物理治療核心技術作為支撐，并且已經成為具有可持續發展特征的醫療器械新興戰略產業的核心競爭力。各種物理治療手段對治療對象實施切除、消融等手術處理，實現微創治療的目的。

隨著技術的不斷更新和發展，適應癥治療范圍的不斷擴大，臨床手術對醫療器械的要求越來越多樣化，目前單一功能的激光手術設備已經不能滿足?外科手術各個過程的特殊需要，不能得到最優的治療效果。

為了進一步滿足臨床手術的需要人們開始對各種功能的激光手術設備進行進一步研究，目前應用在醫療上的不同功能的激光治療裝置有：

1、用于泌尿外科、神經外科等手術的532nm波長綠激光組織汽化裝置，綠激光組織汽化裝置在治療前列腺增生，具有無陽痿、無須插導尿管、術后不需要長期服藥、綜合治療費用低等優點，在美國已經成為門診手術。如圖2所示，該激光發生裝置具體原理是：532nm波長激光是利用半導體泵浦Nd：YAG激光模塊B，通過綠激光后腔鏡M6和綠激光輸出鏡M8形成1.06μm激光諧振腔，在諧振腔中加入KTP倍頻晶體C、諧波鏡M7以及1.06μm聲光調制器Q3通過1.06μm激光倍頻產生。

2、對組織進行止血的1.32μm波長的Nd：YAG激光裝置，1.32μm波長可以對血管內血液凝固形成血栓，達到很好的止血效果，可以解決常規手術中患者因出血過多引起的并發癥，對患者的身體健康和身體恢復提供了保證。如圖3所示，該激光發生裝置具體原理是：1.32μm波長激光是半導體泵浦Nd：YAG激光模塊E，通過1.32μm波長激光后腔鏡M9和1.32μm波長激光輸出鏡M10形成1.32μm波長激光輸出。

盡管對組織的汽化、止血等不同作用的激光波長的激光裝置都已經出現，但是由于這些不同波長的激光裝置是各自獨立的，很難同時用到一個手術中，在實際的手術操作中經常是使用一種功能波長的激光進行全部的手術操作，另外再輔以常規器械的幫助完成整個手術過程，這樣不能滿足外科手術各個過程的特殊需要，不能得到最優的治療效果。

發明內容

本發明的目的在于克服現有技術的不足，提供一種同時具有汽化及止血功能，能夠滿足微創介入治療全過程對不同波長激光的需求的多功能激光醫療裝置，以達到滿足多種腔內治療的需要，在對病灶組織進行汽化切除的同時對創面進行凝固止血和沖洗，即可在一個平臺上實現汽化切割、凝固止血功能，而且對切割面損傷小，達到微創，安全的目的。

為了實現上述目的，本發明采用的技術方案為：

所述多功能激光醫療裝置，包括激光模塊，在激光模塊一側沿光軸方向依次設第一45°全反鏡、部分反射鏡、1.32μm聲光調制器、第一光閘及第一全反透鏡；在激光模塊另一側沿光軸方向依次設有第二全反透鏡、第二光閘、1.06μm聲光調制器、第三全反透鏡、激光倍頻晶體、第四全反透鏡、45°全反透鏡、光束整形器及傳輸光纖；還包括設于第一45°全反鏡一側的第二45°全反鏡及設于45°全反透鏡一側的第三45°全反鏡；第一光閘、激光模塊、第二全反透鏡、1.32μm聲光調制器及部分反射鏡構成1.32μm?激光諧振腔，從部分反射鏡處輸出1.32μm波長激光；第二光閘、激光模塊、第一全反透鏡、1.06μm聲光調制器、第三全反透鏡、激光倍頻晶體及第四全反透鏡構成532nm波長激光諧振腔，從第四全反透鏡處輸出532nm波長綠激光；從部分反射鏡處輸出的1.32μm波長激光經第一45°全反鏡、第二45°全反鏡、第三45°全反鏡及45°全反透鏡反射后從45°全反透鏡處輸出到光束整形器后進入傳輸光纖傳輸到人體手術部位；從第四全反透鏡處輸出的532nm波長綠激光從45°全反透鏡處輸出到光束整形器后進入傳輸光纖傳輸到人體手術部位。

所述激光模塊的泵浦源為等邊三角形排列、采用側向泵浦方式泵浦激光介質的激光二極管陣列。

所述激光二極管波長為808nm，所述激光模塊的激光介質為Nd:YAG，所述激光介質兩端面為鍍基頻光的增透膜的平面。