[發明專利]直立式沉積爐管有效
| 申請號: | 201210258474.7 | 申請日: | 2012-07-24 |
| 公開(公告)號: | CN102766853A | 公開(公告)日: | 2012-11-07 |
| 發明(設計)人: | 李占斌 | 申請(專利權)人: | 上海宏力半導體制造有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 駱蘇華 |
| 地址: | 201203 上海市浦東新*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 立式 沉積 爐管 | ||
1.一種直立式沉積爐管,包括外管、多分支腔體、氣體輸入管以及尾氣排出管;所述外管的一端具有開口,另一端封閉;所述多分支腔體與所述外管具有開口的一端連接,且所述多分支腔體的側壁上設置有安裝通孔,用于安裝所述氣體輸入管和尾氣排出管;
其特征在于,還包括:位于所述多分支腔體的內壁上的保溫層,所述保溫層上設置有與所述安裝通孔相對應的孔洞,適于所述氣體輸入管和尾氣排出管通過所述安裝通孔和孔洞延伸至所述氣體反應腔。
2.如權利要求1所述的直立式沉積爐管,其特征在于,所述保溫層的材質為二氧化硅。
3.如權利要求1或2所述的直立式沉積爐管,其特征在于,所述保溫層的厚度為3~4mm。
4.如權利要求1所述的直立式沉積爐管,其特征在于,所述多分支腔體的材質為不銹鋼。
5.如權利要求1所述的直立式沉積爐管,其特征在于,所述安裝通孔的延伸方向垂直于所述多分支腔體的側壁。
6.如權利要求5所述的直立式沉積爐管,其特征在于,所述孔洞的延伸方向垂直于所述保溫層的側壁。
7.如權利要求1所述的直立式沉積爐管,其特征在于,所述安裝通孔的形狀呈圓形或半圓形。
8.如權利要求7所述的直立式沉積爐管,其特征在于,所述孔洞的形狀與其相對應的安裝孔洞的形狀相同。
9.如權利要求1所述的直立式沉積爐管,其特征在于,所述直立式沉積爐管還包括:氣體反應腔、內管、晶舟以及基座,所述內管套于所述外管內,所述內管的兩端具有開口;所述晶舟用于承載晶圓;所述基座位于所述晶舟下方,用于支撐晶舟以及與所述外管和多分支腔體構成氣體反應腔。
10.如權利要求9所述的直立式沉積爐管,其特征在于,所述內管的材質為二氧化硅。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





