[發(fā)明專利]一種推頂機(jī)構(gòu)及具有該推頂機(jī)構(gòu)的光刻裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210254245.8
• 申請(qǐng)日: 2012-07-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103576464A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-02-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 江旭初;陳軍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時(shí)云

1.一種推頂機(jī)構(gòu)，包括推頂銷、推頂機(jī)構(gòu)底座、連接板以及驅(qū)動(dòng)裝置，所述推頂銷的底部與連接板固定，所述連接板與推頂機(jī)構(gòu)底座垂向滑動(dòng)設(shè)置，所述驅(qū)動(dòng)裝置推動(dòng)所述連接板垂向運(yùn)動(dòng)，其特征在于，該推頂機(jī)構(gòu)還包括連接在所述連接板與所述驅(qū)動(dòng)裝置之間的彈性阻尼裝置。

2.如權(quán)利要求1所述的推頂機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述推頂銷頂部設(shè)有真空吸附口，所述推頂銷和連接板內(nèi)部對(duì)應(yīng)設(shè)置有連接所述真空吸附口的氣道，真空通過(guò)所述連接板內(nèi)的氣道輸送至所述推頂銷。

3.如權(quán)利要求1所述的推頂機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述彈性阻尼裝置為彈簧阻尼裝置。

4.如權(quán)利要求1所述的推頂機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述彈性阻尼裝置為彈性阻尼板。

5.如權(quán)利要求4所述的推頂機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述彈性阻尼裝置為橡膠板。

6.如權(quán)利要求1所述的推頂機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述彈性阻尼裝置為若干組簧片機(jī)構(gòu)，所述每組簧片機(jī)構(gòu)包括固定連接所述連接板的連接板固定端，固定連接所述驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)固定端，以及連接于連接板固定端和驅(qū)動(dòng)固定端之間的柔性簧片。

7.如權(quán)利要求6所述的推頂機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述柔性簧片的厚度為0.1毫米～1毫米。

8.如權(quán)利要求6所述的推頂機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述柔性簧片沿長(zhǎng)度方向設(shè)置有兩處凹槽結(jié)構(gòu)。

9.如權(quán)利要求6所述的推頂機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述柔性簧片沿長(zhǎng)度方向平行設(shè)置有兩片。

10.如權(quán)利要求1所述的推頂機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述推頂機(jī)構(gòu)底座上沿垂向固定設(shè)置有直線導(dǎo)軌，所述連接板上固定設(shè)置有沿所述直線導(dǎo)軌運(yùn)動(dòng)的滑塊。

11.如權(quán)利要求1所述的推頂機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述連接板與推頂機(jī)構(gòu)底座之間連接有復(fù)位彈簧。

12.如權(quán)利要求1所述的推頂機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述驅(qū)動(dòng)裝置包括沿垂向設(shè)置的音圈電機(jī)，所述音圈電機(jī)的定子固定在推頂機(jī)構(gòu)底座上，所述音圈電機(jī)的動(dòng)子通過(guò)所述彈性阻尼裝置連接所述連接板。

13.如權(quán)利要求1所述的推頂機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述驅(qū)動(dòng)裝置包括滾子座、滾子、氣浮軸承、直線電機(jī)和楔形塊；所述直線電機(jī)的定子固定在推頂機(jī)構(gòu)底座上，并驅(qū)動(dòng)直線電機(jī)動(dòng)子沿水平向運(yùn)動(dòng)；所述楔形塊前端具有傾斜面的楔形，楔形塊后端與直線電機(jī)的動(dòng)子固定連接；所述氣浮軸承設(shè)置于楔形塊與推頂機(jī)構(gòu)底座之間，提供水平向運(yùn)動(dòng)導(dǎo)向；所述滾子座的底部連接所述滾子，并通過(guò)滾子和所述楔形塊的傾斜面相接觸，所述滾子座的頂部通過(guò)所述彈性阻尼裝置連接所述連接板。

14.一種包括權(quán)利要求1所述推頂機(jī)構(gòu)的光刻裝置，包括：照明系統(tǒng)、掩模臺(tái)、投影物鏡、工件臺(tái)、激光干涉儀、硅片/基板傳輸系統(tǒng)；照明系統(tǒng)提供曝光光源；掩模臺(tái)支撐和定位掩模版；投影物鏡提供曝光視場(chǎng)，將掩模版上的圖形曝光在硅片/玻璃基板上；激光干涉儀為掩模臺(tái)和工件臺(tái)的運(yùn)動(dòng)控制提供位置信號(hào)；工件臺(tái)承載硅片/玻璃基板，為硅片/玻璃基板提供支撐和定位功能，所述工件臺(tái)上設(shè)有硅片/玻璃基板吸附面，所述硅片/玻璃基板吸附面上設(shè)有推頂銷孔，所述推頂機(jī)構(gòu)的推頂銷通過(guò)推頂銷孔穿過(guò)所述硅片/玻璃基板吸附面推頂所述硅片/玻璃基板。