[發(fā)明專利]陣列基板、液晶顯示元件及陣列基板的制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210251981.8 | 申請(qǐng)日: | 2012-07-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102890352A | 公開(公告)日: | 2013-01-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 一戸大吾;米田英司 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | JSR株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1333 | 分類號(hào): | G02F1/1333;G02F1/1337;G03F7/004;G03F7/027 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 臧建明 |
| 地址: | 日本東京港*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 陣列 液晶顯示 元件 制造 方法 | ||
1.一種陣列基板,其是包含如下元件的液晶顯示元件用陣列基板:
開關(guān)有源元件、
于所述開關(guān)有源元件上所配置的絕緣膜、
于所述絕緣膜中所形成的接觸孔、
經(jīng)由所述接觸孔而與所述開關(guān)有源元件電性連接的像素電極,
其特征在于:所述絕緣膜由含有如下共聚物的負(fù)型感放射線性樹脂組成物而形成,所述共聚物包含由選自由不飽和羧酸及不飽和羧酸酐所構(gòu)成的群組中的至少1種所形成的結(jié)構(gòu)單元及由含有環(huán)氧基的不飽和化合物所形成的結(jié)構(gòu)單元。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于:
所述感放射線性樹脂組成物含有選自由下述式(1)所表示的化合物、下述式(2)所表示的化合物、叔胺化合物、胺鹽、鱗鹽、脒鹽、酰胺化合物、硫醇化合物、嵌段異氰酸酯化合物及含有咪唑環(huán)的化合物所構(gòu)成的群組中的至少1種化合物,
[化1]
[化2]
式(1)中,R1~R6分別獨(dú)立為氫原子、吸電子基或氨基;其中,R1~R6中的至少1個(gè)是吸電子基,且R1~R6中的至少1個(gè)是氨基;而且,上述氨基的氫原子的全部或一部分也可以被碳數(shù)為1~6的烷基取代;
式(2)中,R7~R16分別獨(dú)立為氫原子、吸電子基或氨基;其中,R7~R16中的至少1個(gè)是氨基;而且,上述氨基的氫原子的全部或一部分也可以被碳數(shù)為2~6的烷撐取代;A為單鍵、羰基、羰氧基、羰基亞甲基、亞磺酰基、磺酰基、亞甲基或碳數(shù)為2~6的烷撐;其中,上述亞甲基及烷撐的氫原子的全部或一部分也可以被氰基、鹵素原子或氟烷基取代。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的陣列基板,其特征在于:
所述絕緣膜是在200℃以下的硬化溫度下所形成的絕緣膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的陣列基板,其特征在于:
于所述絕緣膜上包含透明電極,于所述透明電極上包含配向膜,所述配向膜是使用包含具有光配向性基的感放射線性聚合物的液晶配向劑及包含不具光配向性基的聚酰亞胺的液晶配向劑中的任意種所得的配向膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的陣列基板,其特征在于:
所述配向膜是使用包含具有光配向性基的感放射線性聚合物的液晶配向劑所得的配向膜。
6.一種液晶顯示元件,其特征在于包含根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的陣列基板。
7.一種陣列基板的制造方法,其特征在于包括如下步驟:
[1]在形成有開關(guān)有源元件的基板上形成含有如下共聚物的負(fù)型感放射線性樹脂組成物的涂膜的步驟,所述共聚物包含由選自由不飽和羧酸及不飽和羧酸酐所構(gòu)成的群組中的至少1種所形成的結(jié)構(gòu)單元及由含有環(huán)氧基的不飽和化合物所形成的結(jié)構(gòu)單元;
[2]對(duì)所述感放射線性樹脂組成物的涂膜的至少一部分照射放射線的步驟;
[3]對(duì)在步驟[2]中照射了放射線的所述涂膜進(jìn)行顯影,獲得形成有接觸孔的涂膜的步驟;以及
[4]于200℃以下對(duì)在步驟[3]中所得的涂膜進(jìn)行硬化而形成絕緣膜的步驟。
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