[發明專利]一種超臨界二氧化碳染色設備的清洗方法

有效

• 申請號: 201210248205.2
• 申請日: 2012-07-17
• 公開（公告）號: CN102787463A
• 公開（公告）日: 2012-11-21
• 發明（設計）人: 鄭來久;郭友才;杜冰;姜濤;高世會;鄭環達;李松媛;魏菊;錢永芳
• 申請（專利權）人: 大連工業大學
• 主分類號: D06B23/30
• 分類號: D06B23/30;C11D7/60;C11D7/26;C11D7/02
• 代理公司: 大連東方專利代理有限責任公司 21212
• 代理人: 趙淑梅;李馨

1.一種超臨界二氧化碳染色設備的清洗方法，是以超臨界二氧化碳流體、無水乙醇和丙酮的混合物作為清洗劑，在70~110℃，15~20MPa的條件下，清洗至少2次，每次清洗時間至少為10min。

2.根據權利要求1所述的超臨界二氧化碳染色設備的清洗方法，其特征在于所述的清洗劑中的超臨界二氧化碳流體、無水乙醇和丙酮之間按體積比為100：2~6：1~3混合。

3.根據權利要求1所述的超臨界二氧化碳染色設備的清洗方法，其特征在于所述的清洗時間為10~30min。

4.根據權利要求1~3中任一所述的超臨界二氧化碳染色設備的清洗方法，其特征在于所述的清洗次數為2次，清洗步驟為：

第一次內清洗：超臨界二氧化碳流體、無水乙醇和丙酮按體積比為100：2~6：1~3的混合物作為清洗劑，在70~80℃，15~18MPa的條件下，清洗10~20min；清洗路徑為高壓主泵(P01)→R3→換熱器(E02)→V1→染料釜(V03)→V2→V27→V26→染色釜Ⅰ(V041)→V5→V6→染色釜Ⅱ(V042)→V23→V22→V20→染色釜Ⅲ(V043)→V11→V12→染色釜Ⅳ(V044)→V17→V16→V15→V29→循環泵(P02)；

第二次外清洗：超臨界二氧化碳流體、與無水乙醇和丙酮按體積比為100：4~6：2~3的混合物作為清洗劑，在80~90℃，18~20MPa的條件下，清洗20~30min；清洗路徑為高壓主泵(P01)→R3→換熱器(E02)→V1→染料釜(V03)→V2→V3→染色釜Ⅰ(V041)→V26→V25→V24→V23→染色釜Ⅱ(V042)→V8→V9→染色釜Ⅲ(V043)→V20→V19→V18→V17→染色釜Ⅳ(V044)→V14→V15→V29→循環泵(P02)。

5.根據權利要求4所述的超臨界二氧化碳染色設備的清洗方法，其特征在于清洗后還包括對設備進行沖洗的步驟；所述的沖洗是以超臨界二氧化碳流體為沖洗劑，在100~110℃，18~20MPa的條件下，沖洗10~20min。