[發(fā)明專利]正型光刻膠清除液組合物

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210247558.0
• 申請(qǐng)日: 2012-07-18
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103383529A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-11-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張峰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 張峰
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/42
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/42
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種在光刻膠的剝離中不腐蝕基板、且能有效地除去光刻膠膜，特別是剝離性能優(yōu)異的正型光刻膠清除液組合物。

背景技術(shù)

常規(guī)半導(dǎo)體元件或液晶面板元件的制造步驟：首先在硅片等基板上形成蒸鍍得到的導(dǎo)電性金屬膜等絕緣膜。然后，在上述膜上均一地涂布光刻膠，選擇性地對(duì)其進(jìn)行曝光、顯影，形成圖案。接下來(lái)，將該圖案作為掩模選擇性地蝕刻上述導(dǎo)電性金屬膜或絕緣膜，隨后，用剝離液除去不要的光刻膠層。目前，從安全性、剝離性觀點(diǎn)考慮使用各種有機(jī)類(lèi)剝離液除去上述殘留的光刻膠層。

而蝕刻工藝，根據(jù)其蝕刻條件在光刻膠表面引發(fā)復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)，并在這種化學(xué)反應(yīng)下形成表面層變質(zhì)的光刻膠。即，變質(zhì)的光刻膠引發(fā)用于干式蝕刻的等離子氣體與基板及感光液之間的反應(yīng)而生成副產(chǎn)品。一般情況下，如果不能穩(wěn)定地去除變質(zhì)的高分子物質(zhì)，那么在蝕刻的圖案上或在圖案和圖案之間就會(huì)產(chǎn)生光刻膠的殘?jiān)＿@種殘?jiān)鼤?huì)成為在后續(xù)的成膜、照相平版印刷、蝕刻等工藝中出現(xiàn)斷線及短路現(xiàn)象的主要原因，而上述問(wèn)題會(huì)導(dǎo)致產(chǎn)品的可靠性、生產(chǎn)效率及性能降低。

現(xiàn)有的剝離劑對(duì)鋁和銅等具有腐蝕作用。且不能滿足加工圖案趨于微細(xì)化的要求。基于上述各種理由，需要一種即使采用上述的有機(jī)溶劑進(jìn)行處理，在對(duì)鋁和銅等腐蝕小的同時(shí)，也能完全去除光刻膠基板上的殘留物，具有強(qiáng)剝離能力的組合物。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是在于需要提供一種在光刻膠的剝離中不腐蝕基板、且能有效地除去光刻膠膜的正型光刻膠清除液組合物，從而彌補(bǔ)現(xiàn)有技術(shù)上的不足。

為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種正型光刻膠清除液組合物，其特征在于包括：a)1-20重量份的N，N-二乙基羥胺；b)1-70重量份的二甘醇單烷基醚；c)1-5重量份的[式1]所示的化合物；d)通過(guò)如下單體i)-iii)自由基聚合得到的共聚物；

[式1]，其中R’為氫，或具有1至4個(gè)碳原子的烷基，

i)30-70重量％N-乙烯基內(nèi)酰胺，ii)15-35重量％乙酸乙烯酯，和iii)10-35重量％聚醚。

其中，優(yōu)選的含有e)0.01-10重量份的非離子表面活性劑。

其中，優(yōu)選的含有f)20-90重量份的非質(zhì)子極性溶劑。

其中，所述的二甘醇單烷基醚是選自丁基乙二醇、丁基二乙二醇、丁基三甘醇、甲基乙二醇、甲基二乙二醇、甲基三乙二醇、及甲基丙二醇中的至少一種化合物。

其中，所述的非質(zhì)子極性溶劑是選自二甲基亞砜、N-甲基-2-吡咯烷酮、N，N-二甲基乙酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基咪唑啉酮、及γ-丁內(nèi)酯中的至少一種化合物。

其中，所述的非離子表面活性劑，是選自聚氧丙烯乙二醇醚、聚氧丙烯乙基醚、聚氧丙烯甲基醚、聚氧丙稀丁基醚、聚氧乙烯聚丙二醇醚、聚氧乙烯聚丙乙基醚、聚氧乙烯聚丙甲基醚、聚氧乙烯聚丙丁基醚中的至少一種化合物。

本發(fā)明還提供了一種所述的正型光刻膠清除液組合物在光刻膠剝離中的應(yīng)用。

本發(fā)明還提供了一種如[式1]所示的化合物：

[式1]，其中R’為氫，或具有1至4個(gè)碳原子的烷基。

具體實(shí)施方式

以下將結(jié)合實(shí)施例來(lái)詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式，借此對(duì)本發(fā)明如何應(yīng)用技術(shù)手段來(lái)解決技術(shù)問(wèn)題，并達(dá)成技術(shù)效果的實(shí)現(xiàn)過(guò)程能充分理解并據(jù)以實(shí)施。

本發(fā)明的剝離液含有N，N-二乙基羥胺(以下也稱為“成分(A)”)。N，N-二乙基羥胺顯示還原性，可以抑制形成在基板上的含有的金屬層被腐蝕。成分(A)的配合量為剝離液的1-20重量份。并且，優(yōu)選1-10重量份。

所述二甘醇單烷基醚，優(yōu)選使用丁基乙二醇、丁基二乙二醇、丁基三甘醇、甲基乙二醇、甲基二乙二醇、甲基三乙二醇、及甲基丙二醇等，尤其是表面張力低、燃點(diǎn)高的丁基二乙二醇更為有效。

式1化合物的含量?jī)?yōu)選2-3重量份，R’優(yōu)選氫、甲基。

共聚物d)中合適的N-乙烯基內(nèi)酰胺為N-乙烯基己內(nèi)酰胺或N-乙烯基吡咯烷酮或其混合物。優(yōu)選使用N-乙烯基己內(nèi)酰胺。

合適和優(yōu)選的聚醚是聚亞烷基二醇。聚亞烷基二醇的分子量可為1000-100000D[道爾頓]，優(yōu)選1500-35000D，特別優(yōu)選1500-10000D。分子量基于在DIN?53240中規(guī)定的OH數(shù)測(cè)定。

聚乙二醇是合適和特別優(yōu)選的聚亞烷基二醇。還合適的是聚丙二醇、聚四氫呋喃或由2-乙基環(huán)氧乙烷或2，3-二甲基環(huán)氧乙烷得到的聚丁二醇。