[發明專利]使用微機電系統裝置的壓力測量無效
| 申請號: | 201210244380.4 | 申請日: | 2009-06-16 |
| 公開(公告)號: | CN102788657A | 公開(公告)日: | 2012-11-21 |
| 發明(設計)人: | 卡斯拉·哈澤尼 | 申請(專利權)人: | 高通MEMS科技公司 |
| 主分類號: | G01L9/00 | 分類號: | G01L9/00 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287 | 代理人: | 沈錦華 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 使用 微機 系統 裝置 壓力 測量 | ||
1.一種用于測量壓力的裝置,其包括:
至少一個包括由空間分離的兩個層的元件,其中所述空間的尺寸響應于施加的激勵而改變;以及
處理器,其經配置以確定時間周期,經歷所述時間周期所述空間的尺寸由第一尺寸改變為第二尺寸,及基于所確定的時間周期確定所述裝置周圍的環境壓力。
2.根據權利要求1所述的裝置,其中所述至少一個元件包含至少一微機電系統(MEMS)元件。
3.根據權利要求1所述的裝置,其中所述至少一個元件包含至少一干涉式調制器。
4.根據權利要求1所述的裝置,其中所述至少一個元件包含若干包含兩層的元件,且所述處理器經配置以確定若干獨立時間周期;及基于所確定的時間周期確定所述裝置周圍的環境壓力。
5.根據權利要求1所述的裝置,其中所述處理器進一步經配置以施加激勵于所述至少一個元件。
6.根據權利要求5所述的裝置,其中所述激勵包含所述兩層上的施加電壓。
7.根據權利要求1所述的裝置,進一步包含經配置以顯示所確定的電壓的顯示器。
8.根據權利要求1所述的裝置,其中所述處理器進一步經配置以基于所確定的環境壓力確定高度,并進一步包含經配置以顯示所確定的高度的顯示器。
9.根據權利要求1所述的裝置,其中所述處理器經配置以通過測量電流來確定所述時間周期,所述電流層由所述層中的至少一者的運動引發。
10.根據權利要求9所述的裝置,其中所述處理器經配置以通過確定一時長來確定所述時間周期,所述時長是施加電壓于所述兩層上時與所述電流達到相對最大值時之間的時間。
11.根據權利要求9所述的裝置,其中所述處理器經配置以通過確定第一時間與第二時間之間的時長來確定所述時間周期,所述第一時間與第二時間各自是當所述電流達到一相對最大值的預定百分比時。
12.根據權利要求1所述的裝置,其中所述處理器經配置以通過測量所述兩層上的電容來確定所述時間周期。
13.根據權利要求1所述的裝置,其中所述處理器經配置以將所述至少一個元件的釋放時間或激活時間確定為所述時間周期。?
14.一種測量壓力的方法,其包括:
施加激勵于元件,所述元件包含由空間分割的兩個層,其中所述空間的尺寸響應于所述激勵而改變;
確定時間周期,經歷所述時間周期所述空間的尺寸由第一尺寸改變為第二尺寸;及
基于所確定的時間周期確定所述元件周圍的環境壓力
15.根據權利要求14所述的方法,其中施加所述激勵包含施加電壓于所述兩層上。
16.根據權利要求14所述的方法,其中施加所述激勵包含施加所述激勵于一微機電系統(MEMS)元件。
17.根據權利要求14所述的方法,其中施加所述激勵包含施加電壓于一干涉式調制器的兩層上。
18.根據權利要求14所述的方法,進一步包含顯示所確定的電壓。
19.根據權利要求14所述的方法,進一步包含基于所確定的環境壓力確定高度,并顯示所確定的高度。
20.根據權利要求14所述的方法,其中確定所述時間周期包含測量由所述層中的至少一者的運動引發的電流。
21.根據權利要求20所述的方法,其中確定所述時間周期包含確定施加電壓于所述兩層上時與所述電流達到相對最大值時之間的時長。
22.根據權利要求20所述的方法,其中確定所述時間周期包含確定第一時間與第二時間之間的時長,所述第一時間與第二時間各自是當所述電流達到一相對最大值的預定百分比時。
23.根據權利要求14所述的方法,其中確定所述時間周期包含測量所述兩層上的電容。
24.根據權利要求14所述的方法,其中確定所述時間周期包含確定所述元件的釋放時間或激活時間。
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