[發明專利]新型化合物及其制造方法、產酸劑、抗蝕劑組合物以及抗蝕劑圖案形成方法

有效

• 申請號: 201210243584.6
• 申請日: 2008-12-18
• 公開（公告）號: CN102866585A
• 公開（公告）日: 2013-01-09
• 發明（設計）人: 羽田英夫;內海義之;石塚啟太;松澤賢介;金子文武;大下京子;清水宏明;吉井靖博
• 申請（專利權）人: 東京應化工業株式會社
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/00;C07C309/17;C07C303/32;C07C381/12;C07D493/18;C07D333/46
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 蔣亭

1.一種抗蝕劑組合物，其是含有在酸的作用下對堿顯影液的溶解性發生改變的基材成分(A)和通過曝光來產生酸的產酸劑成分(B)的抗蝕劑組合物，其特征在于，

所述產酸劑成分(B)含有由下述通式(b1-1-1)表示的化合物形成的產酸劑(B1)，

式中，R^X是碳原子數1～20的直鏈或支鏈狀的飽和烴基，構成該烴基的碳原子的一部分可以被氟原子、氯原子、碘原子、溴原子、氧原子或硫原子取代，

構成該烴基的氫原子的一部分或全部可以被氟原子、氯原子、碘原子、溴原子、氧原子或硫原子取代；

R¹為亞烷基；

Y¹是碳原子數為1～4的亞烷基或氟代亞烷基；Z⁺是有機陽離子，但不為下述通式(w-1)表示的離子，

式中，R³～R⁶分別獨立地為氫原子或可以具有取代基的烴基，R³～R⁶中的至少1個為所述烴基，R³～R⁶中的至少2個可以分別鍵合成環。

2.根據權利要求1所述的抗蝕劑組合物，其中，所述基材成分(A)是在酸的作用下對堿顯影液的溶解性增大的基材成分。

3.根據權利要求2所述的抗蝕劑組合物，其中，所述基材成分(A)含有在酸的作用下對堿顯影液的溶解性增大的樹脂成分(A1)，該樹脂成分(A1)具有由含有酸解離性溶解抑制基的丙烯酸酯衍生而來的結構單元(a1)。

4.根據權利要求3所述的抗蝕劑組合物，其中，所述樹脂成分(A1)還具有由含有含內酯的環式基的丙烯酸酯衍生而來的結構單元(a2)。

5.根據權利要求3所述的抗蝕劑組合物，其中，所述樹脂成分(A1)還具有由含有含極性基團的脂肪族烴基的丙烯酸酯衍生而來的結構單元(a3)。

6.根據權利要求1所述的抗蝕劑組合物，其還含有含氮有機化合物(D)。

7.一種抗蝕劑圖案形成方法，其包括：使用權利要求1～6中任一項所述的抗蝕劑組合物在支撐體上形成抗蝕劑膜的工序；將所述抗蝕劑膜曝光的工序；以及將所述抗蝕劑膜進行堿顯影來形成抗蝕劑圖案的工序。

8.一種化合物，其由下述通式(b1-1-1)表示，

式中，R^X是碳原子數1～20的直鏈或支鏈狀的飽和烴基，構成該烴基的碳原子的一部分可以被氟原子、氯原子、碘原子、溴原子、氧原子或硫原子取代，構成該烴基的氫原子的一部分或全部可以被氟原子、氯原子、碘原子、溴原子、氧原子或硫原子取代；

R¹為亞烷基；Y¹是碳原子數為1～4的亞烷基或氟代亞烷基；Z⁺是有機陽離子，但不為下述通式(w-1)表示的離子，

式中，R³～R⁶分別獨立地為氫原子或可以具有取代基的烴基，R³～R⁶中的至少1個為所述烴基，R³～R⁶中的至少2個可以分別鍵合成環。