[發明專利]訪問設計規則和設計特征庫的方法和系統

有效

• 申請號: 201210242408.0
• 申請日: 2012-07-12
• 公開（公告）號: CN103093020B
• 公開（公告）日: 2017-04-12
• 發明（設計）人: 陳欽安;吳培滋;蔡宗杰;吳俊毅;丁至剛
• 申請（專利權）人: 臺灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號: G06F17/50
• 分類號: G06F17/50;G06F17/30
• 代理公司: 北京德恒律治知識產權代理有限公司11409
• 代理人: 章社杲,孫征

技術領域

本公開涉及用于設計半導體器件布局的方法、系統和軟件，具體地，涉及訪問設計規則和設計特征庫的方法、系統和軟件。

背景技術

可以使用電子設計自動化軟件的各種形式來完成集成電路的設計，其允許電路設計者創建并數字化形成集成電路的形狀和圖案。集成電路和其他半導體器件由多個疊加材料層組成，每一層(即，每個器件層)都包括必須通過設計者與所有其他器件層(尤其是其上方和下方的層和特征)協作來生成的相關布局。集成電路設計必須符合多個不同的設計規則，包括與被設計的器件層相關聯的規則以及與被設計的器件層與直下和直上器件層之間的相關關系相關聯的規則。

設計規則可以通過用戶來建立，或者它們可以通過掩模鑄造廠(foundry)來建立，其表示掩模鑄造廠在生成光掩模的過程中可以接受的容限。設計規則還可以基于處理操作的能力通過器件制造設施(也被稱為鑄造廠)來發布。存在許多設計規則并且必須符合每一種設計規則，以創建光掩模組使得可以使用掩模組成功制造集成電路。

作為先進技術的處理操作所發生的更窄工藝窗和更多布局依賴性效果的結果，與集成電路相關聯的多個設計規則增加并且設計規則變得更加復雜。規則的總數對于電路設計者總體理解來說是挑戰，但是根據傳統實踐，這必須在著手布局設計之前進行。根據目前的實踐，設計者首先考慮包含大量且復雜的設計規則的設計規則手冊，然后查詢用于設計規則含義的鑄造廠，然后開始設計布局。在執行初始設計布局實施之后，執行設計規則檢查，并且電路設計者必須再次重復考慮設計規則手冊和查詢關于設計規則的鑄造廠的步驟。通常要求多個設計工藝的反復。

這產生了設計集成電路布局的耗時、昂貴且效率低的方式。期望解決這些限制和缺點，尤其考慮到用于當前世界各種應用的集成電路器件的流行性和擴散化。

發明內容

為解決上述問題，本發明提供了一種實體計算機可讀存儲介質，利用計算機程序碼來編碼，使得當通過處理器執行計算機程序碼時，處理器執行設計方法，設計方法包括：設計半導體器件布局以及在圖形用戶界面(GUI)上顯示半導體器件布局；當在GUI上顯示半導體器件布局時，通過與GUI進行交互來訪問設計規則；以及通過與GUI的交互來訪問設計特征的庫，并且將設計特征的至少一個直接輸入半導體器件布局。

其中，設計規則鏈接至庫，以及其中，訪問設計規則自動地進一步訪問設計特征的庫。

其中，通過與GUI的交互來訪問設計特征的庫以及將設計特征的至少一個直接輸入半導體器件布局包括：在設計半導體器件布局的過程中使用設計特征的至少一個。

其中，訪問設計規則包括：使設計規則顯示在GUI上，并且訪問庫包括：使設計特征的庫顯示在GUI上，在設計特征的期望設計特征上定位光標，選擇期望設計特征，以及將期望設計特征結合到半導體器件布局。

其中，訪問設計規則包括：使用物理輸入設備控制光標在GUI上的半導體器件布局的顯示器上的位置，在顯示器中的特征上定位光標，以及通過點擊光標來選擇特征，從而使得設計規則顯示在GUI上。

其中，設計、訪問設計規則、訪問設計特征的庫、和輸入同時發生，并且方法進一步包括：執行設計規則檢查并完成符合設計規則的布局；以及將所完成的布局傳送至掩模鑄造廠。

本發明還提供了一種用于設計半導體器件的方法，方法包括：設計半導體器件的布局以及使用電子設計自動化(EDA)系統在圖形用戶界面(GUI)上顯示布局；當顯示布局時，通過與GUI的交互訪問設計規則；當顯示布局時，通過與GUI的交互訪問設計特征的庫；以及通過從庫中選擇至少一個期望設計特征而輸入來自設計特征的庫的至少一個期望設計特征，并且通過與GUI的交互將至少一個期望設計特征輸入布局。

其中，訪問設計規則包括：在布局的一部分上定位光標并點擊鼠標，以及進一步包括：通過與GUI進行交互而檢查布局是否符合設計規則。

其中：訪問設計規則包括在GUI上顯示設計規則；訪問設計特征的庫包括在GUI上顯示設計特征的庫；以及設計規則為與掩模鑄造廠和器件制造廠相關聯的鑄造廠工藝驗證設計規則。

其中，輸入至少一個期望設計特征包括形成符合設計規則并包括設計特征的至少一個的最終布局，并且進一步包括使用最終布局形成光掩模組。

該方法進一步包括：使用光掩模組來形成半導體器件。