[發明專利]復合式靶材及其制作方法

在審

• 申請號: 201210242276.1
• 申請日: 2012-07-12
• 公開（公告）號: CN103290370A
• 公開（公告）日: 2013-09-11
• 發明（設計）人: 楊清河;吳智穩;蘇夢鵬;翁基祥;孫璿程
• 申請（專利權）人: 住華科技股份有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/35
• 代理公司: 北京市浩天知識產權代理事務所 11276
• 代理人: 劉云貴

1.一種復合式靶材制作方法，其特征在于，根據廢靶材的蝕刻狀態而制作復合式靶材，且該廢靶材是通過存在有第一磁力線分布的濺射機臺對至少具有基板層與金屬層的原始靶材進行濺射作用之后的產生物，其包含：

判斷該廢靶材受到該第一磁力線分布所產生的該蝕刻狀態，以決定第二磁力線分布，其中該第二磁力線分布用于調整該復合式靶材設置于該濺射機臺時所承受的該第一磁力線分布；

在該原始靶材的該基板層上設置對應于該第二磁力線分布的磁性層；

在該磁性層與該基板層的上方設置金屬層；以及

在該基板層、該磁性層與該金屬層之間設置接合層，以結合該基板層、該磁性層與該金屬層而形成該復合式靶材；

其中當該復合式靶材進行該濺射作用時，具有該第二磁力線分布的該復合式靶材將在該復合式靶材作用的該第一磁力線分布調整為第三磁力線分布。

2.如權利要求1所述的復合式靶材制作方法，其特征在于，還包含在該基板層局部地形成該磁性層，以在該復合式靶材上形成該第二磁力線分布。

3.如權利要求2所述的復合式靶材制作方法，其特征在于，還包含將該磁性層嵌入地設置于該基板層，以在該復合式靶材形成該第二磁場線分布狀態。

4.如權利要求1所述的復合式靶材制作方法，其特征在于，該第三磁力線分布的密集度較第一磁力線分布低、曲線較平緩，而使得該第三磁力線與該金屬層平行的磁力線區域寬于該第一磁力線分布與該金屬層平行的磁力線區域。

5.一種復合式靶材，其特征在于，由具有第一磁力線分布的濺射機臺進行濺射，其包含：

基板層，具有搭載面與承載面，該搭載面搭載于該濺射機臺；

磁性層，設置于該基板層的該承載面，該磁性層產生第二磁力線分布，且該第二磁力線分布用于調整該第一磁力線分布為第三磁力線分布；

金屬層，設置于該磁性層與該基板層的該承載面，該金屬層具有該第二磁力線分布；以及

接合層，設置于該基板層、該磁性層與該金屬層之間，該接合層接合該基板層、該磁性層與該金屬層。

6.如權利要求5所述的復合式靶材，其特征在于，該磁性層的形狀為格狀、柵狀、環狀或其它任意形狀，用于形成該第二磁力線分布。

7.如權利要求6所述的復合式靶材，其特征在于，該基板層還包含溝槽與孔洞的至少其中之一，用于嵌入地設置該磁性層。

8.如權利要求7所述的復合式靶材，其特征在于，還包含該接合層，填入在該溝槽與該孔洞的至少其中之一中該磁性層未填滿的空間，用以接合該基板層、該磁性層與該金屬層。

9.如權利要求5所述的復合式靶材，其特征在于，該金屬層選自于由鋁、銅、鉬、鈦以及前述任意組合所組成的一群組。

10.如權利要求5所述的復合式靶材，其特征在于，該磁性層選自于由鐵、鈷、鎳、不銹鋼以及前述任意組合所組成具有磁性材料的一群組。