[發(fā)明專利]基板檢查裝置和基板檢查方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210242203.2 | 申請(qǐng)日: | 2012-07-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102879646A | 公開(公告)日: | 2013-01-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 山下宗寬;辻英明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 日本電產(chǎn)理德株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G01R27/02 | 分類號(hào): | G01R27/02;G01R31/02 |
| 代理公司: | 北京弘權(quán)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11363 | 代理人: | 郭放;張文 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 檢查 裝置 方法 | ||
1.一種針對(duì)由分別形成有多個(gè)布線圖案的多個(gè)單位基板相連而成的片狀基板執(zhí)行與所述片狀基板內(nèi)的所述單位基板的所述布線圖案的導(dǎo)通性相關(guān)的評(píng)價(jià)的基板檢查裝置,其特征在于具備:
保持所述片狀基板的基板保持機(jī)構(gòu);
具有多個(gè)探針的探針單元,所述多個(gè)探針分別與在由所述基板保持機(jī)構(gòu)所保持的所述片狀基板內(nèi)的至少一個(gè)所述單位基板的所述布線圖案上設(shè)定的兩個(gè)測量位置相接觸;
電阻測量部,所述電阻測量部經(jīng)由所述探針單元的所述探針來測量在所述布線圖案上設(shè)定的所述兩個(gè)測量位置間的電阻值;以及
測量電阻值評(píng)價(jià)部,所述測量電阻值評(píng)價(jià)部以規(guī)定的基準(zhǔn)電阻值為基準(zhǔn),計(jì)算由所述電阻測量部所測量的規(guī)定的評(píng)價(jià)單位片狀基板內(nèi)的各個(gè)所述單位基板的各個(gè)所述布線圖案的測量電阻值的偏離度。
2.如權(quán)利要求1所述的基板檢查裝置,其特征在于:
所述測量電阻值評(píng)價(jià)部根據(jù)各個(gè)所述布線圖案的測量電阻值的所述偏離度的計(jì)算結(jié)果,來檢測在所述評(píng)價(jià)單位片狀基板內(nèi)的各個(gè)位置上的所述布線圖案的所述測量電阻值的所述偏離度。
3.如權(quán)利要求2所述的基板檢查裝置,其特征在于:
所述測量電阻值評(píng)價(jià)部與所述評(píng)價(jià)單位片狀基板內(nèi)的各個(gè)位置的坐標(biāo)信息相關(guān)聯(lián)地檢測所述評(píng)價(jià)單位片狀基板內(nèi)的所述各個(gè)位置上的所述布線圖案的所述測量電阻值的所述偏離度。
4.如權(quán)利要求2所述的基板檢查裝置,其特征在于:
所述測量電阻值評(píng)價(jià)部計(jì)算所述評(píng)價(jià)單位片狀基板內(nèi)的各個(gè)所述單位基板內(nèi)的所述布線圖案的所述測量電阻值的偏離度,并與所述單位基板在所述評(píng)價(jià)單位片狀基板內(nèi)的位置信息相關(guān)聯(lián)。
5.如權(quán)利要求2~4中的任意一項(xiàng)所述的基板檢查裝置,其特征在于:
所述測量電阻值評(píng)價(jià)部將所檢測的所述評(píng)價(jià)單位片狀基板內(nèi)的各個(gè)位置上的所述布線圖案的所述測量電阻值的所述偏離度圖示地顯示在規(guī)定的顯示部上。
6.如權(quán)利要求1~4中的任意一項(xiàng)所述的基板檢查裝置,其特征在于還具備:
導(dǎo)通判定部,所述導(dǎo)通判定部根據(jù)所述電阻測量部所測量的所述評(píng)價(jià)單位片狀基板內(nèi)的各個(gè)所述布線圖案的所述測量電阻值、所述測量電阻值的平均值即平均電阻值、以及所述測量電阻值評(píng)價(jià)部所計(jì)算的所述評(píng)價(jià)單位片狀基板內(nèi)的各個(gè)所述布線圖案的所述測量電阻值的偏離度中的至少一個(gè),來確定與各個(gè)所述布線圖案的導(dǎo)通性相關(guān)的判定基準(zhǔn)值,并通過將各個(gè)所述布線圖案的所述測量電阻值與所述判定基準(zhǔn)值進(jìn)行比較來執(zhí)行所述評(píng)價(jià)單位片狀基板內(nèi)的各個(gè)所述布線圖案的良好與否的判定。
7.如權(quán)利要求1~4中的任意一項(xiàng)所述的基板檢查裝置,其特征在于:
所述測量電阻值評(píng)價(jià)部對(duì)所述評(píng)價(jià)單位片狀基板內(nèi)的所述單位基板的各個(gè)所述布線圖案的所述測量電阻值進(jìn)行平均,并將結(jié)果所得的平均測量電阻值用作所述基準(zhǔn)電阻值。
8.如權(quán)利要求7所述的基板檢查裝置,其特征在于:
所述測量電阻值評(píng)價(jià)部計(jì)算以所述平均測量電阻值為基準(zhǔn)的偏差、偏差值或標(biāo)準(zhǔn)偏差作為所述測量電阻值的所述偏離度。
9.如權(quán)利要求1~4中的任意一項(xiàng)所述的基板檢查裝置,其特征在于:
所述測量電阻值評(píng)價(jià)部所使用的所述基準(zhǔn)電阻值是所述評(píng)價(jià)單位片狀基板內(nèi)的所述單位基板的各個(gè)所述布線圖案的電阻值的設(shè)計(jì)理論值。
10.如權(quán)利要求1~4中的任意一項(xiàng)所述的基板檢查裝置,其特征在于:
所述測量電阻值評(píng)價(jià)部計(jì)算所述測量電阻值與所述基準(zhǔn)電阻值之差作為所述測量電阻值的所述偏離度。
11.如權(quán)利要求1~4中的任意一項(xiàng)所述的基板檢查裝置,其特征在于:
所述探針單元的所述探針在設(shè)定于所述片狀基板內(nèi)的至少一個(gè)所述單位基板的所述布線圖案上的所述各測量位置上各設(shè)置兩個(gè),兩個(gè)探針中的一個(gè)用于對(duì)所述布線圖案供應(yīng)檢查用的電流,另一個(gè)用于測量所述布線圖案的所述測量位置間的電位差。
12.一種針對(duì)由分別形成有多個(gè)布線圖案的多個(gè)單位基板相連而成的片狀基板執(zhí)行與所述片狀基板內(nèi)的所述單位基板的所述布線圖案的導(dǎo)通性相關(guān)的評(píng)價(jià)的基板檢查方法,其特征在于包括:
測量步驟,利用基板保持機(jī)構(gòu)保持所述片狀基板,使探針與在所保持的所述片狀基板內(nèi)的至少一個(gè)所述單位基板的所述布線圖案上設(shè)定的兩個(gè)測量位置相接觸,并經(jīng)由所述探針測量所述布線圖案的所述測量位置間的電阻值;以及
偏離度計(jì)算步驟,以規(guī)定的基準(zhǔn)電阻值為基準(zhǔn),計(jì)算在所述測量階段所測量的規(guī)定的評(píng)價(jià)單位片狀基板內(nèi)的各個(gè)所述單位基板的各個(gè)所述布線圖案的測量電阻值的偏離度。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于日本電產(chǎn)理德株式會(huì)社,未經(jīng)日本電產(chǎn)理德株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210242203.2/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01R 測量電變量;測量磁變量
G01R27-00 測量電阻、電抗、阻抗或其派生特性的裝置
G01R27-02 .電阻、電抗、阻抗或其派生的其他兩端特性,例如時(shí)間常數(shù)的實(shí)值或復(fù)值測量
G01R27-28 .衰減、增益、相移或四端網(wǎng)絡(luò),即雙端對(duì)網(wǎng)絡(luò)的派生特性的測量;瞬態(tài)響應(yīng)的測量
G01R27-30 ..具有記錄特性值的設(shè)備,例如通過繪制尼奎斯特
G01R27-32 ..在具有分布參數(shù)的電路中的測量
G01R27-04 ..在具有分布常數(shù)的電路中的測量
- 一種數(shù)據(jù)庫讀寫分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測試終端的測試方法
- 一種服裝用人體測量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





