[發明專利]一種足浴盆用足底自動按摩裝置有效
| 申請號: | 201210241958.0 | 申請日: | 2012-07-13 |
| 公開(公告)號: | CN102716022A | 公開(公告)日: | 2012-10-10 |
| 發明(設計)人: | 李林平 | 申請(專利權)人: | 李林平 |
| 主分類號: | A61H39/04 | 分類號: | A61H39/04;A61H7/00;A47K3/022 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 250101 山東省濟南*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 浴盆 足底 自動 按摩 裝置 | ||
1.一種足浴盆用足底自動按摩裝置,其特征是:包括曲軸盤和架體,架體底部與足浴盆內側底部卡接,在架體上表面滑動連接有一按摩盤,沿按摩盤滑動方向設在按摩盤底部兩側的卡凸卡裝在架體下部的滑槽內,在按摩盤底面上設有一與按摩盤滑動方向相垂直的連接槽;在曲軸盤的上表面偏心設有一垂直于曲軸盤的連接軸,連接軸上端活動卡裝于連接槽內,在曲軸盤的底部中心位置設有一與足浴盆動力裝置的輸出轉軸相連接的卡槽。
2.根據權利要求1所述的一種足浴盆用足底自動按摩裝置,其特征是:在連接軸上活動套裝一轉環,轉環活動卡裝于連接槽內。
3.根據權利要求1或2所述的一種足浴盆用足底自動按摩裝置,其特征是:沿按摩盤滑動方向在架體的上表面與按摩盤的底面之間均勻設有若干個滾珠。
4.根據權利要求1或2所述的一種足浴盆用足底自動按摩裝置,其特征是:在按摩盤滑動方向后方的架體上設有足跟臺。
5.根據權利要求1或2所述的一種足浴盆用足底自動按摩裝置,其特征是:按摩盤包括盤體,在盤體上安裝有若干個相互平行設置的帶按摩凸起的按摩轉軸。
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