[發(fā)明專(zhuān)利]便攜式原子熒光現(xiàn)場(chǎng)快速檢測(cè)的還原劑壓片及其制備方法和應(yīng)用有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210238120.6 | 申請(qǐng)日: | 2012-07-09 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102735673A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-10-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 梁敬;董芳;王慶;侯?lèi)?ài)霞;陳璐;楊名名 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 北京瑞利分析儀器有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N21/64 | 分類(lèi)號(hào): | G01N21/64;G01N1/28 |
| 代理公司: | 北京維澳專(zhuān)利代理有限公司 11252 | 代理人: | 馬佑平 |
| 地址: | 100015 北*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 便攜式 原子 熒光 現(xiàn)場(chǎng) 快速 檢測(cè) 還原劑 壓片 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及原子熒光分析技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及蒸氣發(fā)生進(jìn)樣技術(shù)所需的還原劑。
背景技術(shù)
目前原子熒光光譜儀普遍采用蒸氣發(fā)生進(jìn)樣技術(shù)作為原子熒光的進(jìn)樣手段。蒸氣發(fā)生進(jìn)樣技術(shù)的實(shí)質(zhì)是使含有待測(cè)元素的酸性溶液與還原劑溶液通過(guò)化學(xué)反應(yīng)生成氣態(tài)物質(zhì),通過(guò)氣液分離后,使氣態(tài)組分與樣品基體分離,從而達(dá)到高效進(jìn)樣且有效消除基體干擾的目的,極大地改善了原子熒光光譜儀的檢測(cè)能力。還原劑一般是硼氫化鉀或硼氫化鈉溶液,上述溶液中同時(shí)存在氫氧化鈉或氫氧化鉀作為穩(wěn)定劑。由于還原劑溶液穩(wěn)定性較差,因此該溶液一般現(xiàn)用現(xiàn)配。
在實(shí)驗(yàn)室中采用原子熒光分析重金屬元素時(shí),以配制體積為1000mL,穩(wěn)定劑氫氧化鉀的質(zhì)量濃度為0.1%(m/V),還原劑硼氫化鉀的質(zhì)量濃度為1%(m/V)的還原劑溶液為例,其制備過(guò)程如下:
(1)準(zhǔn)備好固體試劑氫氧化鉀和硼氫化鉀、1000mL純水、稱(chēng)量紙、藥品勺、萬(wàn)分之一電子天平;
(2)將稱(chēng)量紙置于電子天平的稱(chēng)量盤(pán)上,扣除其重量,用藥品勺將固體試劑氫氧化鉀轉(zhuǎn)移至稱(chēng)量紙上,定量稱(chēng)取1.000g氫氧化鉀;
(3)將1.000g氫氧化鉀溶解于1000mL純水中,攪拌均勻;
(4)將全新的稱(chēng)量紙置于電子天平的稱(chēng)量盤(pán)上,扣除其重量,用藥品勺將固體試劑硼氫化鉀轉(zhuǎn)移至稱(chēng)量紙上,定量稱(chēng)取10.000g硼氫化鉀;
(5)將10.000g硼氫化鉀溶解于步驟(3)制備的氫氧化鉀溶液中,攪拌均勻。
對(duì)于需要野外現(xiàn)場(chǎng)快速檢測(cè)的便攜式原子熒光而言,上述操作過(guò)程較為繁瑣,需要準(zhǔn)備多種試劑和器具,不便于攜帶,而且高精度的萬(wàn)分之一電子天平對(duì)使用環(huán)境要求也相對(duì)較高,不適合于野外使用。因此上述制備還原劑溶液的操作過(guò)程并不適用于便攜式原子熒光的現(xiàn)場(chǎng)快速檢測(cè)。
在該領(lǐng)域,目前還沒(méi)有人針對(duì)上述問(wèn)題提出相關(guān)的專(zhuān)利、解決方案或?qū)S眉夹g(shù)。
有鑒于此,為解決上述技術(shù)中的不足,本設(shè)計(jì)人基于相關(guān)領(lǐng)域的研發(fā),并經(jīng)過(guò)不斷測(cè)試及改良,進(jìn)而有本發(fā)明的產(chǎn)生。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述問(wèn)題,本發(fā)明的目的在于針對(duì)實(shí)驗(yàn)室制備還原劑溶液的操作過(guò)程較為繁瑣,不適用于野外現(xiàn)場(chǎng)快速檢測(cè)的問(wèn)題,設(shè)計(jì)了一種還原劑壓片,具有較好的便攜性,使用簡(jiǎn)單,可以大大簡(jiǎn)化還原劑溶液的制備過(guò)程。
為達(dá)到上述目的,本發(fā)明提供了一種現(xiàn)場(chǎng)快速檢測(cè)原子熒光化學(xué)蒸氣發(fā)生進(jìn)樣技術(shù)所需的還原劑壓片,其包括火焰型和冷原子型還原劑壓片,所述冷原子型還原劑壓片包括以下重量百分比的組分:還原劑1~5份,穩(wěn)定劑1~10份;所述火焰型還原劑壓片包括以下重量百分比組分:還原劑5~20份,穩(wěn)定劑1~5份;其中所述還原劑為硼氫化鉀或硼氫化鈉,所述穩(wěn)定劑為氫氧化鉀或氫氧化鈉。
其中,冷原子型所使用的還原劑溶液的濃度一般低于0.5%(m/v),蒸氣發(fā)生反應(yīng)所產(chǎn)生的氫氣不足以形成氫火焰;火焰型所使用的還原劑溶液的濃度一般不低于0.8%(m/v),蒸氣發(fā)生反應(yīng)所產(chǎn)生的氫氣能夠形成氫火焰。
優(yōu)選地,所述的冷原子型還原劑壓片,其重量百分比組分為還原劑1份,穩(wěn)定劑1份。
優(yōu)選地,所述的火焰型還原劑壓片,其重量百分比組分為還原劑10份,穩(wěn)定劑1份。
其中,所述還原劑優(yōu)選為硼氫化鉀。所述穩(wěn)定劑優(yōu)選為氫氧化鉀。
所述還原劑壓片優(yōu)選為餅狀、柱狀或塊狀。更優(yōu)選地,所述壓片為圓柱形,直徑為2~80mm,高為0.5~100mm。
另一方面,本發(fā)明還提供了制備上述還原劑壓片的方法,其包括如下步驟:按比例稱(chēng)取還原劑和穩(wěn)定劑,隨后將二者分別研磨成粉末,混合均勻后壓制成所述還原劑壓片。所述粉末的粒徑優(yōu)選為小于100目的粉末。
其中,稱(chēng)取還原劑和穩(wěn)定劑所用的裝置為萬(wàn)分之一電子天平,如梅特勒-托利多公司生產(chǎn)的XP204型萬(wàn)分之一電子天平。
其中,壓制壓片所用的裝置為壓片機(jī),壓片機(jī)所用壓力優(yōu)選為1~10MPa,優(yōu)選壓力為5MPa;所述壓片機(jī)可以是市場(chǎng)上可以買(mǎi)到的任意壓片機(jī),如天津科器高新技術(shù)公司生產(chǎn)的769YP-10D型粉末壓片機(jī)壓片機(jī)。
還一方面,本發(fā)明提供了所述還原劑壓片在現(xiàn)場(chǎng)快速檢測(cè)原子熒光化學(xué)蒸氣發(fā)生進(jìn)樣技術(shù)中的應(yīng)用。
將還原劑壓片溶解在一定體積的水中,攪拌均勻后即可完成還原劑溶液的制備過(guò)程。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于北京瑞利分析儀器有限公司,未經(jīng)北京瑞利分析儀器有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210238120.6/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專(zhuān)用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 用于現(xiàn)場(chǎng)總線(xiàn)系統(tǒng)的現(xiàn)場(chǎng)設(shè)備
- 現(xiàn)場(chǎng)設(shè)備
- 用于現(xiàn)場(chǎng)總線(xiàn)系統(tǒng)的現(xiàn)場(chǎng)設(shè)備
- 現(xiàn)場(chǎng)裝置
- 現(xiàn)場(chǎng)儀器及現(xiàn)場(chǎng)儀器管理系統(tǒng)
- 現(xiàn)場(chǎng)設(shè)備
- 現(xiàn)場(chǎng)設(shè)備
- 現(xiàn)場(chǎng)設(shè)備耦合裝置和現(xiàn)場(chǎng)設(shè)備
- 現(xiàn)場(chǎng)總線(xiàn)系統(tǒng)和虛擬現(xiàn)場(chǎng)設(shè)備
- 現(xiàn)場(chǎng)設(shè)備和現(xiàn)場(chǎng)總線(xiàn)系統(tǒng)以及控制現(xiàn)場(chǎng)設(shè)備的方法





