[發(fā)明專利]三結(jié)太陽能電池及其制備方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210236314.2 | 申請(qǐng)日: | 2012-07-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102751367A | 公開(公告)日: | 2012-10-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 畢京鋒;林桂江;劉建慶;丁杰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廈門市三安光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/0687 | 分類號(hào): | H01L31/0687;H01L31/0304;H01L31/18 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 361009 福建省廈*** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 太陽能電池 及其 制備 方法 | ||
1.一種三結(jié)太陽能電池,其包括:
Ge襯底;
InxGa1-xAs漸變緩沖層,形成于所述Ge襯底之上;
GaAsxSb1-x第一子電池,形成于漸變緩沖層上方,具有一第一帶隙;
InP第二子電池,形成于第一子電池上方,具有一大于第一帶隙的第二帶隙;
AlxGa1-xAsySb1-y第三子電池,形成于第二子電池上方具有一大于第二帶隙的第三帶隙,晶格常數(shù)以第一、二子電池匹配。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池,其特征在于:所述Ge襯底的厚度小于150?微米。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池,其特征在于:所述InxGa1-xAs漸變緩沖層為多層結(jié)構(gòu),其組分x變化范圍是0~0.53,帶隙變化范圍是0.77~1.42?eV,晶格常數(shù)變化范圍是5.66~5.87??。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池,其特征在于:在InP第二子電池中植入一InAs量子點(diǎn)結(jié)構(gòu),調(diào)節(jié)第二子電池的波長(zhǎng)吸收范圍,實(shí)現(xiàn)三結(jié)子電池的電流匹配。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的太陽能電池,其特征在于:所述InAs量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)為多周期結(jié)構(gòu),其周期數(shù)為10~20。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的太陽能電池,其特征在于:所述第一子電池的帶隙范圍是0.76~0.85?eV;第二子電池的等效帶隙范圍為1.20~1.35?eV;第三子電池的帶隙范圍為1.90~2.20?eV。
7.一種三結(jié)太陽能電池的制備方法,其包括步驟:
提供一Ge襯底,用于半導(dǎo)體外延生長(zhǎng);
在所述襯底上形成InxGa1-xAs漸變緩沖層;
在所述漸變緩沖層上方形成GaAsxSb1-x?第一子電池,使其具有第一帶隙;
在所述的GaAsxSb1-x?第一子電池上方形成InP第二子電池,使其具有一大于第一帶隙的第二帶隙;
在所述第二子電池上方形成第三子電池,其材料為四元化合物AlxGa1-xAsySb1-y,使其具有大于第二帶隙的第三帶隙,晶格常數(shù)與第一、二子電池匹配。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的太陽能電池的制方法,其特征在于:所述Ge襯底的厚度小于150?微米。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的太陽能電池的制方法,其特征在于:采用MOCVD或者M(jìn)BE外延生長(zhǎng)半導(dǎo)體層。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的太陽能電池的制方法,其特征在于:所述InxGa1-xAs漸變緩沖層為多層結(jié)構(gòu),組分漸變,x變化范圍是0~0.53,帶隙變化范圍是0.77~1.42?eV,晶格常數(shù)變化范圍是5.66~5.87??。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的太陽能電池的制方法,其特征在于:在InP第二子電池中植入一InAs量子點(diǎn)結(jié)構(gòu),調(diào)節(jié)第二子電池的波長(zhǎng)吸收范圍,實(shí)現(xiàn)三結(jié)子電池的電流匹配。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的太陽能電池的制方法,其特征在于:所述第一子電池的帶隙范圍是0.76~0.85?eV;第二子電池的等效帶隙范圍為1.20~1.35?eV;第三子電池的帶隙范圍為1.90~2.20?eV。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的太陽能電池的制方法,其特征在于:所述InAs量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)為20周期。
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