[發(fā)明專利]背接觸式太陽能電池及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210236070.8 | 申請日: | 2012-07-06 |
| 公開(公告)號: | CN103531653A | 公開(公告)日: | 2014-01-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 謝伯宗;賴光杰;李可欣;黃世賢 | 申請(專利權(quán))人: | 茂迪股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/068 | 分類號: | H01L31/068;H01L31/0352;H01L31/0224;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇 |
| 地址: | 中國臺灣新北市*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 接觸 太陽能電池 及其 制造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種太陽能電池及其制造方法,特別是涉及一種背接觸式太陽能電池及其制造方法。
背景技術(shù)
參閱圖1、2,已知的指叉型背接觸式(Interdigitated?Back?Contact,簡稱IBC)太陽能電池,主要包括:一基板11、位于該基板11正面的一重摻雜層12與一抗反射層13、位于該基板11背面處的多個第一摻雜區(qū)14與多個第二摻雜區(qū)15、一位于該基板11的背面上并具有多個穿孔161的鈍化層16、多個分別電連接所述第一摻雜區(qū)14的第一電極17以及多個分別電連接所述第二摻雜區(qū)15的第二電極18。所述第一摻雜區(qū)14與第二摻雜區(qū)15分別為p型半導體與n型半導體,相鄰的第一摻雜區(qū)14與第二摻雜區(qū)15間隔約數(shù)十微米(μm)。而所述第一電極17與第二電極18實際上是呈指叉狀地交錯配置。
該電池在制造上,主要是先利用擴散制程于該基板11上制作所述第一摻雜區(qū)14,再利用擴散制程制作所述第二摻雜區(qū)15,當然,在制作所述摻雜區(qū)時,還必須沉積圖未示出的阻障層以及配合蝕刻步驟,以達到局部摻雜的目的,但圖中省略示出這些過程。接著形成該鈍化層16,并在該鈍化層16上形成一連續(xù)的金屬層21,再進行金屬隔離制程以形成所述第一電極17與第二電極18,然而該制程有以下缺點:在形成該金屬層21后,還必須于該金屬層21上沉積一阻擋層22,并配合光罩進行區(qū)域定位蝕刻,最后將該阻擋層22的殘余區(qū)塊221移除,才能完成金屬隔離制程,所須步驟較多且復雜,使制造成本高,而且利用光罩進行蝕刻的制程穩(wěn)定性不易控制。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)創(chuàng)新、制程步驟較少、較易于制作的背接觸式太陽能電池及其制造方法。
本發(fā)明背接觸式太陽能電池,包括:一個包括一個第一面的基板、一個第一摻雜區(qū)、一個第二摻雜區(qū)以及一個位于該第一面上且電連接于該第一摻雜區(qū)及該第二摻雜區(qū)的電極單元。該基板的第一面具有一個第一區(qū)域、一個第二區(qū)域以及一個位于該第一區(qū)域與該第二區(qū)域之間的第三區(qū)域,該第一區(qū)域、該第二區(qū)域及該第三區(qū)域共同形成一個二階階梯結(jié)構(gòu),該第一摻雜區(qū)位于該第一區(qū)域,該第二摻雜區(qū)位于該第二區(qū)域。
本發(fā)明所述的背接觸式太陽能電池,該電極單元包括一個電連接該第一摻雜區(qū)的第一電極以及一個電連接該第二摻雜區(qū)的第二電極,所述第一摻雜區(qū)與第二摻雜區(qū)的其中一個為p型半導體,另一個為n型半導體。
本發(fā)明所述的背接觸式太陽能電池,該第一面的二階階梯結(jié)構(gòu)包括二個側(cè)面段,所述側(cè)面段的其中至少一個的延伸角度為75度至90度,所述延伸角度為所述側(cè)面段與鄰接的階梯結(jié)構(gòu)的上表面之間的夾角。
本發(fā)明所述的背接觸式太陽能電池,該基板還包括一個與該第一面相對的第二面,該基板的第一區(qū)域為該二階階梯結(jié)構(gòu)的最遠離該第二面的一階,該第二區(qū)域為該二階階梯結(jié)構(gòu)的最靠近該第二面的一階。
本發(fā)明所述的背接觸式太陽能電池,還包括一個位于該基板的第一面與該電極單元之間的鈍化層,該鈍化層具有可供該電極單元分別電連接于該第一摻雜區(qū)與該第二摻雜區(qū)的穿孔。
本發(fā)明背接觸式太陽能電池的制造方法,包括:
步驟A:在一個基板的一個第一面形成一個摻雜層;
步驟B:進行第一次蝕刻,使該第一面形成一個一階階梯結(jié)構(gòu),且該摻雜層的對應(yīng)于該一階階梯結(jié)構(gòu)的部位被移除,該摻雜層的未被移除的部位形成一個第一摻雜區(qū);
步驟C:進行第二次蝕刻,使該一階階梯結(jié)構(gòu)形成一個二階階梯結(jié)構(gòu);
步驟D:在該二階階梯結(jié)構(gòu)上形成一個與該第一摻雜區(qū)分開設(shè)置的第二摻雜區(qū);
步驟E:形成一個位于該第一面上且電連接于該第一摻雜區(qū)及該第二摻雜區(qū)的電極單元。
本發(fā)明所述的背接觸式太陽能電池的制造方法,該步驟B是先在該摻雜層的表面上形成一個第一阻擋層,再移除該第一阻擋層及該摻雜層的局部部位,接著蝕刻該基板而形成該一階階梯結(jié)構(gòu),并且移除該第一阻擋層。
本發(fā)明所述的背接觸式太陽能電池的制造方法,該步驟C是以化學氣相沉積方式在該第一摻雜區(qū)及該一階階梯結(jié)構(gòu)的表面形成一個第二阻擋層,再移除該第二阻擋層的對應(yīng)于該一階階梯結(jié)構(gòu)的部位,接著蝕刻該基板而形成該二階階梯結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明所述的背接觸式太陽能電池的制造方法,該步驟E的該電極單元是以非等向性的沉積方式形成。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
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H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





