[發(fā)明專利]天線、電介質(zhì)窗、等離子體處理裝置和等離子體處理方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210235937.8 | 申請(qǐng)日: | 2012-07-06 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102867725A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-01-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 松本直樹(shù);吉川彌;吉川潤(rùn);茂山和基;石橋清隆;森田治;谷川雄洋 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01J37/32 | 分類號(hào): | H01J37/32;H05H1/46 |
| 代理公司: | 北京尚誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 天線 電介質(zhì) 等離子體 處理 裝置 方法 | ||
1.一種天線,其特征在于,具備:
電介質(zhì)窗;和
設(shè)置于所述電介質(zhì)窗一個(gè)表面上的槽板,
所述電介質(zhì)窗的另一個(gè)表面具有:
平坦面,其被環(huán)狀的第一凹部包圍;和
第二凹部,其以包圍所述平坦面的重心位置的方式在所述平坦面內(nèi)形成多個(gè),
當(dāng)從與所述槽板的主表面垂直的方向觀看時(shí),各個(gè)所述第二凹部的重心位置重疊位于所述槽板中的各個(gè)槽內(nèi)。
2.如權(quán)利要求1所述的天線,其特征在于:
所述槽板具備:
第一槽組,其位于與所述槽板的重心位置相距第一距離的位置;
第二槽組,其位于與所述槽板的重心位置相距第二距離的位置;
第三槽組,其位于與所述槽板的重心位置相距第三距離的位置;和
第四槽組,其位于與所述槽板的重心位置相距第四距離的位置,
且滿足第一距離<第二距離<第三距離<第四距離的關(guān)系,
從所述槽板的重心位置朝向成為對(duì)象的槽延伸的直徑與該槽的長(zhǎng)邊方向所成的角度在第一至第四槽組的各個(gè)槽組中均相同,
位于從所述槽板的重心位置延伸的相同直徑上的第一槽組的槽和第二槽組的槽在不同方向上延伸,
位于從所述槽板的重心位置延伸的相同直徑上的第三槽組的槽和第四槽組的槽在不同方向上延伸,
第一槽組的槽數(shù)和第二槽組的槽數(shù)為相同的數(shù)目,設(shè)為N1,
第三槽組的槽數(shù)和第四槽組的槽數(shù)為相同的數(shù)目,設(shè)為N2,
N2是N1的整倍數(shù)。
3.如權(quán)利要求1或2所述的天線,其特征在于,
所述第二凹部的平面形狀為圓形。
4.一種等離子體處理裝置,其特征在于,具備:
權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的天線;
處理容器,其內(nèi)部具有所述天線;
基座,其設(shè)置于所述處理容器的內(nèi)部,與所述電介質(zhì)窗的另一個(gè)表面相對(duì)并載置被處理的基板;和
微波導(dǎo)入通路,其連接微波發(fā)生器和所述槽板。
5.如權(quán)利要求4所述的等離子體處理裝置,其特征在于,具備:
共用氣體管路,其與共用氣體源連接;
分流器,其設(shè)置于所述共用氣體管路,將所述共用氣體管路分支為第一分支共用氣體管路和第二分支共用氣體管路,能夠調(diào)節(jié)流過(guò)所述第一分支共用氣體管路和第二分支共用氣體管路的氣體流量的比率;
中央導(dǎo)入部,其與所述第一分支共用氣體管路連接,具有位于載置在所述基座上的基板的中央部上方的中央導(dǎo)入口;
周邊導(dǎo)入部,其與所述第二分支共用氣體管路連接,沿著所述基板上方的空間的周向排列,具有與所述電介質(zhì)窗相比位于下方的多個(gè)周邊導(dǎo)入口;和
添加氣體管路,其連接添加氣體源與所述第一分支共用氣體管路和第二分支共用氣體管路的至少一方。
6.一種等離子體處理方法,其使用權(quán)利要求5所述的等離子體處理裝置,其特征在于:
所述共用氣體源具有稀有氣體,
所述添加氣體源具有C5F8,
從所述微波發(fā)生器經(jīng)由所述微波導(dǎo)入通路對(duì)所述槽板供給微波,在所述電介質(zhì)窗的另一個(gè)表面?zhèn)犬a(chǎn)生等離子體,
從所述共用氣體源經(jīng)由所述第一分支共用氣體管路,對(duì)所述中央導(dǎo)入部供給稀有氣體,
進(jìn)而,從所述添加氣體源經(jīng)由所述第二分支共用氣體管路對(duì)所述周邊導(dǎo)入部供給C5F8,
由此,對(duì)所述基座上的基板進(jìn)行處理。
7.一種電介質(zhì)窗,在一個(gè)表面上設(shè)置有槽板,其特征在于:
所述電介質(zhì)窗的另一個(gè)表面具有:
平坦面,其被環(huán)狀的第一凹部包圍;和
第二凹部,其以包圍所述平坦面的重心位置的方式在所述平坦面內(nèi)形成多個(gè),
當(dāng)從與所述槽板的主表面垂直的方向觀看時(shí),各個(gè)所述第二凹部的重心位置重疊位于所述槽板中的各個(gè)槽內(nèi),
所述槽板具備:
第一槽組,其位于距所述槽板的重心位置的第一距離的位置;
第二槽組,其位于距所述槽板的重心位置的第二距離的位置;
第三槽組,其位于距所述槽板的重心位置的第三距離的位置;和
第四槽組,其位于距所述槽板的重心位置的第四距離的位置,
且滿足第一距離<第二距離<第三距離<第四距離的關(guān)系,
從所述槽板的重心位置朝向成為對(duì)象的槽延伸的直徑與該槽的長(zhǎng)邊方向所成的角度在第一至第四槽組的各個(gè)槽組中均相同,
位于從所述槽板的重心位置延伸的相同直徑上的第一槽組的槽和第二槽組的槽在不同方向上延伸,
位于從所述槽板的重心位置延伸的相同直徑上的第三槽組的槽和第四槽組的槽在不同方向上延伸,
第一槽組的槽數(shù)和第二槽組的槽數(shù)為相同的數(shù)目,
第三槽組的槽數(shù)和第四槽組的槽數(shù)為相同的數(shù)目。
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