[發明專利]高純電鍍級硫酸銅除鉛工藝

無效

• 申請號: 201210235372.3
• 申請日: 2012-07-09
• 公開（公告）號: CN102730746A
• 公開（公告）日: 2012-10-17
• 發明（設計）人: 薛克艷;莊永;趙中華;金梁云;姚明輝
• 申請（專利權）人: 昆山市千燈三廢凈化有限公司
• 主分類號: C01G3/10
• 分類號: C01G3/10;C25D3/38
• 代理公司: 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224
• 代理人: 董建林

1.一種高純電鍍級硫酸銅除鉛工藝，其特征在于該工藝包括以下步驟：

（1）將酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液分別壓濾，除去機械雜質；

（2）稱取一定質量的Na₂SO₄和可溶性鋇鹽，分別溶解在水中配成溶液；

（3）在攪拌下將鋇鹽溶液和Na₂SO₄溶液加入酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液中，加完之后繼續攪拌反應一段時間；

（4）將反應完成之后的酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液沉降，過濾；

（5）中和酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液；

（6）陳化，過濾；

（7）洗滌；

（8）酸化；

（9）冷卻結晶。

2.根據權利要求1所述的高純電鍍級硫酸銅除鉛工藝，其特征在于：所述步驟（1）中酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液的濃度為1～10%，所述的酸性蝕刻廢液為氯化銅、硝酸銅或硫酸銅蝕刻廢液中的一種或幾種；所述步驟（1）中壓濾采用板框壓濾，濾布的規格為600～1000目。

3.根據權利要求1所述的高純電鍍級硫酸銅除鉛工藝，其特征在于：所述步驟（2）中Na₂SO₄的用量為2～3千克/10噸酸性蝕刻廢液或堿性蝕刻廢液，具體的加入量根據酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液的用量具體計算；所述步驟（2）中可溶性鋇鹽為BaCl₂或Ba(NO₃)₂，可溶性鋇鹽的質量按照化學計量比與Na₂SO₄的用量相對應。

4.根據權利要求1所述的高純電鍍級硫酸銅除鉛工藝，其特征在于：所述步驟（3）中鋇鹽溶液和Na₂SO₄溶液的加入為同時加入，加入完成后繼續攪拌反應時間不小于30分鐘。

5.根據權利要求1所述的高純電鍍級硫酸銅除鉛工藝，其特征在于：所述步驟（4）中酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液除鉛之后的壓濾采用板框壓濾，濾布濾布的規格為600～1000目。

6.根據權利要求1所述的高純電鍍級硫酸銅除鉛工藝，其特征在于：所述步驟（5）中酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液的中和后pH值為4.7～5.2。

7.根據權利要求1所述的高純電鍍級硫酸銅除鉛工藝，其特征在于：所述步驟（7）中洗滌采用打漿洗滌的方式，洗滌采用純水，洗滌次數不少于2次。

8.根據權利要求1所述的高純電鍍級硫酸銅除鉛工藝，其特征在于：所述步驟（8）中采用濃硫酸酸化。