[發明專利]高純電鍍級硫酸銅除鎳工藝

有效

• 申請號: 201210235287.7
• 申請日: 2012-07-09
• 公開（公告）號: CN102730745A
• 公開（公告）日: 2012-10-17
• 發明（設計）人: 莊永;薛克艷;鄒鴻圖;金梁云;姚明輝
• 申請（專利權）人: 昆山市千燈三廢凈化有限公司
• 主分類號: C01G3/10
• 分類號: C01G3/10;C23F1/46
• 代理公司: 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224
• 代理人: 董建林

1.高純電鍍級硫酸銅除鎳工藝，其特征在于該工藝包括以下步驟：

（1）將酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液分別壓濾，除去機械雜質；

（2）分別對酸性和堿性蝕刻廢液進行除鉛砷工藝；

（3）攪拌下，用堿性溶液調節酸性蝕刻廢液的pH；

（4）對酸性蝕刻廢液進行除鈣、鎂工藝；?

（5）對堿性蝕刻廢液進行除鈣、鎂工藝；

（6）將反應完成之后的酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液沉降，過濾；

（7）中和酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液生成中間體，除鎳；

（8）攪拌陳化，過濾；

（9）洗滌；

（10）酸化；

（11）冷卻結晶。

2.根據權利要求1所述的高純電鍍級硫酸銅除鎳工藝，其特征在于：所述步驟（2）中采用氯化鎂除砷，用硫酸鈉和氯化鋇除鉛。

3.根據權利要求1所述的高純電鍍級硫酸銅除鎳工藝，其特征在于：所述步驟（3）中堿性溶液為Na₂CO₃或?NaOH?溶液，調節酸性蝕刻廢液的pH為2.0～3.0。

4.根據權利要求1所述的高純電鍍級硫酸銅除鎳工藝，其特征在于：所述步驟（6）中加入聚鐵起到絮凝助濾的作用；過濾采用板框壓濾，濾布濾布的規格為600～1000目。

5.根據權利要求1所述的高純電鍍級硫酸銅除鎳工藝，其特征在于：所述步驟（7）中酸性和堿性蝕刻廢液的中和需要緩沖溶液，預先在反應釜中加入NH₄Cl溶液或母液做緩沖溶液。

6.根據權利要求1所述的高純電鍍級硫酸銅除鎳工藝，其特征在于：所述步驟（7）中酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液的中和采用并流加料的方式，反應溫度控制60～75℃，過程pH值控制在3.5～4.3。

7.根據權利要求1所述的高純電鍍級硫酸銅除鎳工藝，其特征在于：所述步驟（8）中攪拌陳化時間為10分鐘～1小時；過濾采用板框過濾，濾液收集做緩沖溶液用。

8.根據權利要求1所述的高純電鍍級硫酸銅除鎳工藝，其特征在于：所述步驟（9）中洗滌采用打漿洗滌的方式，洗滌水采用純水；洗滌次數不少于2次。

9.根據權利要求1所述的高純電鍍級硫酸銅除鎳工藝，其特征在于：所述步驟（10）中采用濃硫酸酸化。