[發(fā)明專利]一種石墨烯透明薄膜的制備和轉(zhuǎn)移方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210235069.3 | 申請日: | 2012-07-09 |
| 公開(公告)號: | CN102719803A | 公開(公告)日: | 2012-10-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 梁奇;梅佳;陳冠雄;孔東亮 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市貝特瑞納米科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/26 | 分類號: | C23C16/26;C23C16/56;C25F5/00;C01B31/02 |
| 代理公司: | 深圳市中知專利商標(biāo)代理有限公司 44101 | 代理人: | 孫皓;林虹 |
| 地址: | 518106 廣東省深圳*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 石墨 透明 薄膜 制備 轉(zhuǎn)移 方法 | ||
1.一種石墨烯透明薄膜的制備和轉(zhuǎn)移方法,包括以下步驟:一、化學(xué)氣相沉積石墨烯薄膜:將金屬基片放入電爐中,然后通入氫氣和氬氣,以5~10℃的升溫速度,從室溫升溫至500~1200℃,保持20~30min后,通入碳源氣體,保持5~20min,停止通入碳源氣體,自然冷卻到室溫后,停止通入氫氣和氬氣;
對5~10L容積的電爐,氫氣流量為10~500sccm,氬氣流量為200~1000sccm,碳源氣體流量為15~500sccm,碳源氣體是甲烷、乙烷、乙烯、丙烯、乙炔、乙醇、苯、甲苯中的一種以上;二、在石墨烯表面旋涂聚甲基丙烯酸甲酯或光刻膠,先在400~600rpm轉(zhuǎn)速下旋轉(zhuǎn)5~10s,然后在3000~5000rpm轉(zhuǎn)速下旋轉(zhuǎn)30~60s,使聚甲基丙烯酸甲酯或光刻膠厚度為不超過1μm,以5~10℃/min的升溫速度,從室溫升溫至60~120℃,加熱1~10min,自然冷卻至室溫,在石墨烯表面形成支撐層;三、將帶有支撐層的石墨烯薄膜與金屬基片作為負極插入電解溶液中,在正、負極之間加上3~15V的電壓,電解1~3600s,石墨烯薄膜與金屬基片分離,將支撐層與石墨烯薄膜轉(zhuǎn)移到指定襯底上,石墨烯薄膜與指定襯底接觸;電解溶液是濃度為0.5~2M的NaOH溶液,或濃度為0.05~0.5M的K2S2O8;四、在支撐層表面旋涂聚甲基丙烯酸甲酯或光刻膠,先在300~500rpm轉(zhuǎn)速下旋轉(zhuǎn)20~60s,然后在3000~5000rpm轉(zhuǎn)速下旋轉(zhuǎn)20~50s,使聚甲基丙烯酸甲酯或光刻膠厚度為不超過1μm,以5~10℃/min的升溫速度,從室溫升溫至60~120℃,加熱1~10min,爐內(nèi)自然冷卻至室溫;五、將帶有支撐層的石墨烯薄膜和指定襯底放入金屬-氧化物-半導(dǎo)體電路專用的丙酮溶液中,放置不少于1小時,得到石墨烯薄膜與指定襯底,石墨烯薄膜附著在指定襯底上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石墨烯透明薄膜的制備和轉(zhuǎn)移方法,其特征在于:
所述化學(xué)氣相沉積石墨烯薄膜,以5~10℃的升溫速度,從室溫升溫至500~1200℃中的一個較低溫度,保持20~30min后,再以5~10℃的升溫速度,升溫至500~1200℃中的一個較高溫度,然后通入碳源氣體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石墨烯透明薄膜的制備和轉(zhuǎn)移方法,其特征在于:
所述金屬基片是銅、鎳、鉑、鐵、鈷中的一種以上,銅、鎳、鉑、鐵、鈷中的兩種以上組合時,為合金或分層結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石墨烯透明薄膜的制備和轉(zhuǎn)移方法,其特征在于:
所述電解溶液是濃度為1M的NaOH溶液,或濃度為0.05M的K2S2O8溶液。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石墨烯透明薄膜的制備和轉(zhuǎn)移方法,其特征在于:
所述電解正極為鉑電極或石墨電極。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石墨烯透明薄膜的制備和轉(zhuǎn)移方法,其特征在于:
所述指定襯底是SiO2襯底、聚二甲基硅氧烷襯底或玻璃襯底。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石墨烯透明薄膜的制備和轉(zhuǎn)移方法,其特征在于:
所述在正、負極之間加上5~15V的電壓,電解90~3600s。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種石墨烯透明薄膜的制備和轉(zhuǎn)移方法,其特征在于:
所述在正、負極之間加上10V的電壓,電解1800s。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種石墨烯透明薄膜的制備和轉(zhuǎn)移方法,其特征在于:
所述在支撐層表面旋涂聚甲基丙烯酸甲酯或光刻膠,先在300~400rpm轉(zhuǎn)速下旋轉(zhuǎn)20~50s,然后在3000~4000rpm轉(zhuǎn)速下旋轉(zhuǎn)20~30s。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種石墨烯透明薄膜的制備和轉(zhuǎn)移方法,其特征在于:
所述在支撐層表面旋涂聚甲基丙烯酸甲酯或光刻膠,先在400rpm轉(zhuǎn)速下旋轉(zhuǎn)50s,然后在4000rpm轉(zhuǎn)速下旋轉(zhuǎn)30s。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于深圳市貝特瑞納米科技有限公司,未經(jīng)深圳市貝特瑞納米科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210235069.3/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





