[發明專利]用于CVD反應器中的電極固定器的保護性裝置有效
| 申請號: | 201210232308.X | 申請日: | 2012-07-05 |
| 公開(公告)號: | CN102864440A | 公開(公告)日: | 2013-01-09 |
| 發明(設計)人: | B·米勒;H·克勞斯;E·蒙茨;M·索芬 | 申請(專利權)人: | 瓦克化學股份公司 |
| 主分類號: | C23C16/54 | 分類號: | C23C16/54;C23C16/24;C01B33/027 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 過曉東;譚邦會 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 德國;DE |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 cvd 反應器 中的 電極 固定器 保護性 裝置 | ||
1.用于保護CVD反應器中電極固定器的裝置,所述裝置包括電極固定器上的適用于容納絲棒的電極,所述電極固定器由導電材料構成,并且安裝在底板的凹進部分中,其中電極固定器與底板之間的中間空間借助于密封材料密封,而密封材料通過保護體保護,保護體由一個或多個部件制得,并以環狀方式布置在電極周圍,保護體的高度至少在電極固定器方向的區段中增加。
2.權利要求1的裝置,其中保護體由多個部件制得,所述部件圍繞電極固定器同心布置。
3.權利要求1或2的裝置,其中保護體的材料選自以下組中:半透明硅石、銀、單晶硅或多晶硅、碳化鎢、碳化硅、硅涂敷石墨、CFC復合材料、鎢和其它的高熔融金屬。
4.權利要求1-3之一的裝置,其中保護體至少部分由半透明硅石或銀構成。
5.權利要求1-4之一的裝置,其中保護體由多個部件制得,所述部件的至少一個由半透明硅石或銀構成。
6.權利要求1-5之一的裝置,其中密封材料另外受保護體保護,所述保護體圍繞電極固定器以環狀方式布置在電極固定器與底板之間的中間空間中。
7.用于生產多晶硅的方法,其包括向CVD反應器中引入含有含硅組分和氫氣的反應氣體,所述CVD反應器含有至少一個絲棒,絲棒位于權利要求1-6之一的裝置上,并借助于所述電極向絲棒提供電力,因此,絲棒通過電流直接流過而被加熱至硅在絲棒上沉積的溫度。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于瓦克化學股份公司,未經瓦克化學股份公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210232308.X/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種智能雙界面卡焊接封裝工藝
- 下一篇:氣液分離計量裝置
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





