[發(fā)明專利]基于數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)的量子點(diǎn)檢測(cè)方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210232222.7
• 申請(qǐng)日: 2012-07-05
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102831596A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-12-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐露露;魯華祥;邊昳;陳旭;龔國(guó)良;劉文鵬;張放;金敏;陳剛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所
• 主分類號(hào): G06T7/00
• 分類號(hào): G06T7/00;G06T5/00;G01B11/00;G01B11/24;G01N9/24
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 湯保平

1.一種基于數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)的量子點(diǎn)檢測(cè)方法，包括如下步驟：

步驟1：對(duì)原始量子點(diǎn)圖像做預(yù)處理，增強(qiáng)圖像對(duì)比度；

步驟2：利用帶標(biāo)記的分水嶺分割方法對(duì)量子點(diǎn)圖像進(jìn)行初步分割，使每個(gè)量子點(diǎn)劃分到不同的區(qū)域；

步驟3：將量子點(diǎn)從各自區(qū)域中提取出來(lái)；

步驟4：對(duì)提取出來(lái)的每個(gè)量子點(diǎn)去除襯底；

步驟5：得到去除襯底后的量子點(diǎn)，對(duì)每個(gè)量子點(diǎn)進(jìn)行標(biāo)記，提取量子點(diǎn)的各幾何形貌特征參數(shù)，完成量子點(diǎn)檢測(cè)。

2.如權(quán)利要求1所述的基于數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)的量子點(diǎn)檢測(cè)方法，其中所述的增強(qiáng)圖像對(duì)比度，是采用形態(tài)學(xué)高帽變換和低帽變換相結(jié)合的方法對(duì)圖像進(jìn)行增強(qiáng)預(yù)處理；其是將原始圖像加上高帽變換后的圖像TH(f)，使圖像中灰度值較大的區(qū)域更亮；接著再減去低帽變換得到的圖像BH(f)，使圖像中的灰度值較小的區(qū)域更暗，使細(xì)節(jié)更加明顯，從而達(dá)到增強(qiáng)圖像對(duì)比度的效果。

3.如權(quán)利要求1所述的基于數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)的量子點(diǎn)檢測(cè)方法，其中所述的利用帶標(biāo)記的分水嶺分割方法對(duì)量子點(diǎn)圖像進(jìn)行初步分割的算法，具體實(shí)施步驟為：

步驟1a：利用基于形態(tài)學(xué)開(kāi)閉運(yùn)算的重構(gòu)計(jì)算每個(gè)量子點(diǎn)的局部極大值，實(shí)現(xiàn)前景標(biāo)記；

步驟2a：通過(guò)計(jì)算局部極大值圖像的距離變換實(shí)現(xiàn)背景標(biāo)記；

步驟3a：修改分割函數(shù)，使其在前景和背景標(biāo)記位置有極小值；

步驟4a：對(duì)修改后的分割函數(shù)做分水嶺變換，得到量子點(diǎn)分割的分水嶺脊線。

4.如權(quán)利要求1所述的基于數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)的量子點(diǎn)檢測(cè)方法，其中將量子點(diǎn)從各自區(qū)域中提取出來(lái)，具體為定義量子點(diǎn)為一個(gè)二元圖像QD_i，設(shè)QD_i所在的區(qū)域?yàn)镃B_i，其邊界為WS_i，提取水壩上的中值點(diǎn)：hmed＝median(f(x)|x∈WS_s)，重新定義提取量子點(diǎn)的表達(dá)式：

QDi=f(x)-hmedx∈CBiandf(x)>hmed0otherwise.]]>

5.如權(quán)利要求1所述的基于數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)的量子點(diǎn)檢測(cè)方法，其中對(duì)提取出來(lái)的每個(gè)量子點(diǎn)去除襯底，是采用每個(gè)量子點(diǎn)在不同高度的底面積分布曲線，根據(jù)曲線分布判斷襯底存在與否以及襯底存在的高度。

6.如權(quán)利要求1所述的基于數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)的量子點(diǎn)檢測(cè)方法，其中提取量子點(diǎn)的幾何形貌特征主要包括量子點(diǎn)數(shù)量、平均高度、每個(gè)量子點(diǎn)的面積、體積、高度、與量子點(diǎn)有相同二階矩的橢圓的長(zhǎng)軸長(zhǎng)度、短軸長(zhǎng)度、偏心率、襯底表面粗糙度和均方差粗糙度。