[發明專利]一種改善小滑滾比下線接觸流體潤滑的方法有效
| 申請號: | 201210231070.9 | 申請日: | 2012-07-05 |
| 公開(公告)號: | CN102705372A | 公開(公告)日: | 2012-10-03 |
| 發明(設計)人: | 張永斌;袁虹娣;蔣學東;丁建寧;朱媛媛 | 申請(專利權)人: | 張永斌 |
| 主分類號: | F16C33/66 | 分類號: | F16C33/66 |
| 代理公司: | 南京正聯知識產權代理有限公司 32243 | 代理人: | 顧伯興 |
| 地址: | 213016 江蘇省常州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 改善 小滑滾 下線 接觸 流體 潤滑 方法 | ||
1.?一種改善小滑滾比下線接觸流體潤滑的方法,將形成反形接觸的兩個固體分別設為接觸體一與接觸體二,所述接觸體一與接觸體二所形成的線接觸區分為潤滑入口區(A)和赫茲接觸區(B),其特征在于包括如下步驟:
a.?接觸體一的表面與接觸體二的表面形成線接觸區,控制實際配對的接觸體一表面的圓周線速度(???????????????????????????????????????????????)大于實際配對的接觸體二表面的圓周線速度(),且滑滾比值S為=,無量綱滾動速度=,其中,是大氣壓下潤滑油粘度;
b.?在接觸體二表面上涂覆親油涂層,提高潤滑油-該親油涂層表面的界面剪切強度,使潤滑油膜在該親油涂層表面上都不發生滑移;
c.?在接觸體一與接觸體二的間隙中充滿潤滑油,在所述接觸體一和所述接觸體二的線接觸區控制施加的載荷(w),使其產生的最大赫茲接觸壓力不大于0.5GPa,從而形成所設計的線接觸流體潤滑。
2.?如權利要求1所述的一種改善小滑滾比下線接觸流體潤滑的方法,其特征在于:在接觸體一整個表面涂覆一種涂層,使潤滑油膜在接觸體一的潤滑入口區接觸表面不發生滑移而使潤滑油膜在接觸體一的赫茲接觸區接觸表面發生滑移,具體設置為:在潤滑油膜壓力較低時,潤滑油膜與接觸體一的涂層表面間界面剪切強度不隨潤滑油膜壓力變化,取為定值,其無量綱值須滿足以下條件:
???????
其中,,?,,,=,、?是與、、有關的查表可知的無量綱變量,是潤滑油的粘度-壓力指數,是線接觸區的載荷線密度,是線接觸流體潤滑中心膜厚。
3.如權利要求2所述的一種改善小滑滾比下線接觸流體潤滑的方法,其特征在于:在所述接觸體一的表面涂覆的涂層為經硅烷偶聯劑改性的云母粉涂層。
4.如權利要求1所述的一種改善小滑滾比下線接觸流體潤滑的方法,其特征在于:所述親油涂層為二氧化鈦涂層或硅酸鋁涂層。
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