[發明專利]一種單爐雙鍍機構

無效

• 申請號: 201210230468.0
• 申請日: 2012-07-05
• 公開（公告）號: CN102719776A
• 公開（公告）日: 2012-10-10
• 發明（設計）人: 胡云宗;李經澤;何連生
• 申請（專利權）人: 蘇州賽歷新材料科技有限公司
• 主分類號: C23C2/40
• 分類號: C23C2/40;C23C2/08
• 代理公司: 蘇州廣正知識產權代理有限公司 32234
• 代理人: 劉述生

1.一種單爐雙鍍機構，其特征在于：包括錫爐、錫爐內的導線架、錫爐上方的第一次收料軸以及鍍錫層表面冷卻裝置，所述導線架將待涂錫的銅帶導入所述錫爐內進行第一次涂錫，所述第一次收料軸設置在所述錫爐的上方，其將所述第一次涂錫后的銅帶收卷并進行第二次涂錫。

2.根據權利要求1所述的單爐雙鍍機構，其特征在于：所述單爐雙鍍機構還包括冷卻裝置，所述冷卻裝置設置在所述錫爐的上方，其將第一次涂錫以及第二次涂錫后的錫層進行冷卻。

3.根據權利要求1所述的單爐雙鍍機構，其特征在于：所述導線架包括第一轉軸和第二轉軸，所述第一轉軸和所述第二轉軸分別設置在所述導線架的兩端。

4.根據權利要求3所述的單爐雙鍍機構，其特征在于：所述第一轉軸和所述第二轉軸分別浸入所述錫爐內。

5.根據權利要求4所述的單爐雙鍍機構，其特征在于：所述銅帶分別經過所述第一轉軸、所述第一次收料軸和所述第二轉軸。