[發明專利]具有通過物理氣相沉積法施加的含釔涂層的涂覆的物品及其制造方法

無效

• 申請號: 201210229791.6
• 申請日: 2012-07-04
• 公開（公告）號: CN102862338A
• 公開（公告）日: 2013-01-09
• 發明（設計）人: 倪旺陽;羅納爾德·M·佩尼切;劉一雄
• 申請（專利權）人: 鈷碳化鎢硬質合金公司
• 主分類號: B32B9/00
• 分類號: B32B9/00;C23C14/06
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 李帆

1.一種涂覆的物品，包括：

一個基底；

一個涂覆方案；

該涂覆方案包括一個通過物理氣相沉積施加的PVD涂層區域，其中該涂層區域包含鋁和釔和氮以及至少一種選自下組的元素，該組由以下各項組成：鈦、鋯、鉿、釩、鈮、鉭、鉻、鉬、鎢和硅；并且

其中該鋁和釔的含量的總數是在該鋁、該釔和該其他元素總數的約3原子百分比與約55原子百分比之間，并且該釔的含量是在該鋁、該釔和該其他元素的總數約0.5原子百分比與約5原子百分比之間。

2.根據權利要求1所述的涂覆的物品，其中該鋁和釔的含量的總數是在該鋁、該釔和該其他元素的總數的約25原子百分比與約45原子百分比之間；并且該PVD涂層區域具有的硬度是大于或等于約32Gpa，如根據ISO?14577-1:2002標準程序通過納米壓痕技術使用等于0.25微米的壓痕深度來測量的。

3.根據權利要求2所述的涂覆的物品，其中釔含量是在該鋁、該釔和該其他元素的總數的約1.5原子百分比與約4.5原子百分比之間；并且該PVD涂層區域具有的硬度是大于或等于約32Gpa，如根據ISO?14577-1:2002標準程序通過納米壓痕技術使用等于0.25微米的壓痕深度來測量的。

4.根據權利要求1所述的涂覆的物品，其中該鋁和釔的含量的總數是在該鋁、該釔和該其他元素的總數的約10原子百分比與約15原子百分比之間；并且該PVD涂層區域具有的硬度是大于或等于約33Gpa，如根據ISO?14577-1:2002標準程序通過納米壓痕技術使用等于0.25微米的壓痕深度來測量的。

5.根據權利要求1所述的涂覆的物品，其中該鋁和釔的含量的總數是在該鋁、該釔和該其他元素的總數的約32原子百分比與約45原子百分比之間；并且該PVD涂層區域具有的硬度是大于或等于約34Gpa，如根據ISO?14577-1:2002標準程序通過納米壓痕技術使用等于0.25微米的壓痕深度來測量的。

6.根據權利要求5所述的涂覆的物品，其中釔含量是在該鋁、該釔和該其他元素的總數的約2.5原子百分比與約4.0原子百分比之間；并且該PVD涂層區域具有的硬度是大于或等于約34Gpa，如根據ISO?14577-1:2002標準程序通過納米壓痕技術使用等于0.25微米的壓痕深度來測量的。

7.根據權利要求1所述的涂覆的物品，其中該其他元素包含鈦，并且其中該鈦是在該鋁、該釔和該其他元素的總數的約45原子百分比與約95原子百分比之間。

8.根據權利要求1所述的涂覆的物品，其中該其他元素包含鈦，并且其中該鈦是在該鋁、該釔和該其他元素的總數的約55原子百分比與約87原子百分比之間；并且該PVD涂層區域具有的硬度是大于或等于約34Gpa，如根據ISO?14577-1:2002標準程序通過納米壓痕技術使用等于0.25微米的壓痕深度來測量的。

9.根據權利要求7所述的涂覆的物品，其中該其他元素進一步包括鉻或硅中任一種；并且當該其他元素是鉻時，該鉻是在該鋁、該釔、該鈦和該鉻的總數的約25原子百分比與約40原子百分比之間，并且當該其他元素是硅時，該硅是在該鋁、該釔、該鈦和該硅的總數的約2原子百分比與約5原子百分比之間。

10.根據權利要求9所述的涂覆的物品，其中該硅是在該鋁、該釔、該鈦和該硅的總數的約3原子百分比與約4原子百分比之間；該鈦是在該鋁、該釔、該鈦和該硅的總數的約60原子百分比與約65原子百分比之間；該釔是在該鋁、該釔、該鈦和該硅的總數的約2原子百分比與約3原子百分比之間；該鋁和釔的總數是在該鋁、該釔、該鈦和該硅的總數的約30原子百分比與約35原子百分比之間。

11.根據權利要求1所述的涂覆的物品，其中該其他元素包含鉻，并且其中該鉻是在該鋁、該釔和該其他元素的總數的約25原子百分比與約45原子百分比之間。