[發(fā)明專利]光學無標記血清學檢測方法及其系統(tǒng)無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210228601.9 | 申請日: | 2012-07-03 |
| 公開(公告)號: | CN103293109A | 公開(公告)日: | 2013-09-11 |
| 發(fā)明(設計)人: | 榮國光;尹亞楠;宋蓋燕 | 申請(專利權)人: | 上海恩光電子科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/25 | 分類號: | G01N21/25 |
| 代理公司: | 上海晨皓知識產權代理事務所(普通合伙) 31260 | 代理人: | 盧剛 |
| 地址: | 200001 上海市黃*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 標記 血清學 檢測 方法 及其 系統(tǒng) | ||
1.一種光學無標記血清學檢測方法,其特征在于,包含以下步驟:
提供一多孔硅光學微諧振腔生物傳感器;
將所述多孔硅光學微諧振腔生物傳感器包被生物探針分子;
采集所述包被生物探針分子后的多孔硅光學微諧振腔生物傳感器所產生的第一光信號;
利用所述多孔硅光學微諧振腔生物傳感器捕獲目標生物分子;
采集所述捕獲目標生物分子后的多孔硅光學微諧振腔生物傳感器所產生的第二光信號;
根據所述第一光信號和所述第二光信號的比較結果,得到檢測結果。
2.根據權利要求1所述的光學無標記血清學檢測方法,其特征在于,將所述多孔硅光學微諧振腔生物傳感器包被生物探針分子的步驟中,包含以下子步驟:
A、氧化所述多孔硅光學微諧振腔生物傳感器的多孔硅微諧振腔薄膜表面;
B、對所述多孔硅微諧振腔薄膜表面進行硅烷化處理;
C、對所述多孔硅微諧振腔薄膜表面進行醛基化處理;
D、在所述多孔硅微諧振腔薄膜表面附著符合檢測需求的生物探針分子。
3.根據權利要求2所述的光學無標記血清學檢測方法,其特征在于,在所述子步驟D中,采用以下方式附著所述生物探針分子:
共價鍵鏈接、靜電吸附、分子間相互作用力吸附。
4.根據權利要求2所述的光學無標記血清學檢測方法,其特征在于,所述子步驟D中,包含以下步驟:
D1、將多孔硅微諧振腔薄膜在探針分子溶液中浸泡預定的第一時長;
D2、利用緩沖液沖洗取出的多孔硅微諧振腔薄膜,并用氮氣吹干;
D3、將所述多孔硅微諧振腔薄膜在所述緩沖液中浸泡預定的第二時長;
D4、利用所述緩沖液沖洗取出的所述多孔硅微諧振腔薄膜,并用氮氣吹干。
5.根據權利要求4所述的光學無標記血清學檢測方法,其特征在于,
所述第一時長為1至2小時;
所述第二時長為5至20分鐘;
所述緩沖液為pH值為7.4的磷酸鹽PBS緩沖液。
6.根據權利要求1所述的光學無標記血清學檢測方法,其特征在于,利用所述多孔硅光學微諧振腔生物傳感器捕獲目標生物分子的步驟中,包含以下子步驟:
在所述多孔硅光學微諧振腔生物傳感器的多孔硅微諧振腔薄膜表面,滴加帶有所述目標生物分子的待測溶液,并靜置預設的第三時長;
用緩沖液沖洗所述多孔硅光學微諧振腔生物傳感器的多孔硅微諧振腔薄膜,并用氮氣吹干;
將所述多孔硅微諧振腔薄膜浸泡在所述緩沖液中,所述浸泡的時間為預設的第四時長;
利用所述緩沖液沖洗取出的所述多孔硅微諧振腔薄膜,并用氮氣吹干。
7.根據權利要求6所述的光學無標記血清學檢測方法,其特征在于,
所述第三時長為1至2小時;
所述第四時長為5至20分鐘;
所述緩沖液為pH值為7.4的磷酸鹽PBS緩沖液。
8.根據權利要求1至7中任一項所述的光學無標記血清學檢測方法,其特征在于,所述比較結果為所述第一光信號和所述第二光信號的光譜比較結果。
9.根據權利要求1至7中任一項所述的光學無標記血清學檢測方法,其特征在于,所述目標生物分子包含以下任意類型的生物分子:
蛋白質、疾病標志物、抗原抗體。
10.一種光學無標記血清學檢測系統(tǒng),其特征在于,包含:多孔硅光學微諧振腔生物傳感器、光信號采集器和計算機;
所述多孔硅光學微諧振腔生物傳感器用于包被生物探針分子和捕獲目標生物分子;
所述光信號采集器用于采集所述包被生物探針分子后的多孔硅光學微諧振腔生物傳感器所產生的第一光信號,和采集所述捕獲目標生物分子后的多孔硅光學微諧振腔生物傳感器所產生的第二光信號;
所述計算機用于對所述光信號采集器采集的第一光信號和所述第二光信號進行比較,并根據所述比較結果,得到檢測結果。
11.根據權利要求10所述的光學無標記血清學檢測系統(tǒng),其特征在于,所述多孔硅光學微諧振腔生物傳感器包括:
上布拉格反射鏡、下布拉格反射鏡以及夾在上布拉格反射鏡和下布拉格反射鏡之間的缺陷層;
所述上布拉格反射鏡和下布拉格反射鏡分別包括:周期循環(huán)交替排列的高折射率層和低折射率層。
12.根據權利要求11所述的光學無標記血清學檢測系統(tǒng),其特征在于,
所述上布拉格反射鏡和下布拉格反射鏡分別包括五個周期循環(huán)交替排列的高折射率層和低折射率層;
所述缺陷層厚度為所述高折射率層的厚度的2倍。
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