[發明專利]聚芳醚酮基氨基取代金屬酞菁-納米石墨復合材料及其制備方法

無效

• 申請號: 201210227604.0
• 申請日: 2012-07-03
• 公開（公告）號: CN102766324A
• 公開（公告）日: 2012-11-07
• 發明（設計）人: 姜振華;楊旭;張云鶴;王琦桐
• 申請（專利權）人: 吉林大學
• 主分類號: C08L71/10
• 分類號: C08L71/10;C08K9/04;C08K9/02;C08J5/18
• 代理公司: 長春吉大專利代理有限責任公司 22201
• 代理人: 王恩遠

1.一種聚芳醚酮基氨基取代金屬酞菁-納米石墨復合材料，其特征在于，由磺化聚芳醚酮和氨基取代金屬酞菁-納米石墨組成，按質量分數和為100％計算，氨基取代金屬酞菁占0～20％，納米石墨占2％～36％，磺化聚芳醚酮占60％～98％。

2.按照權利要求1所述的聚芳醚酮基氨基取代金屬酞菁-納米石墨復合材料，其特征在于，所述的納米石墨片，是使用羧酸處理進行了修飾的納米石墨片。

3.按照權利要求1所述的聚芳醚酮基氨基取代金屬酞菁-納米石墨復合材料，其特征在于，所述的氨基取代金屬酞菁-納米石墨，結構為納米石墨表面夾層包裹氨基金屬酞菁；按質量計氨基取代金屬酞菁∶納米石墨為1～2∶3。

4.按照權利要求1所述的聚芳醚酮基氨基取代金屬酞菁-納米石墨復合材料，其特征在于，所述的磺化聚芳醚酮，其結構式如下所示：

其中，x/y為1/99～40/60。

5.一種權利要求1的聚芳醚酮基氨基取代金屬酞菁-納米石墨復合材料的制備方法，是以磺化聚芳醚酮為基體原料，以氨基取代金屬酞菁-納米石墨為改性填充材料，將改性填充材料在超聲作用下均勻分散在N-甲基吡咯烷酮中，同時將磺化聚芳醚酮溶于N-甲基吡咯烷酮中，再將分散液和溶液混合繼續超聲均化；然后將混合液澆鑄成膜，在60～80℃烘干，再在110～130℃真空條件下烘16～36小時，得到聚芳醚酮基氨基取代金屬酞菁-納米石墨復合材料；其中，按質量分數和為100％計算，氨基取代金屬酞菁占0～20％，納米石墨占2％～36％，磺化聚芳醚酮占60％～98％。

6.根據權利要求5所述的聚芳醚酮基氨基取代金屬酞菁-納米石墨復合材料的制備方法，其特征在于，所述的氨基取代金屬酞菁-納米石墨的N-甲基吡咯烷酮分散液，濃度為0.005～0.1g/mL；所述的磺化聚芳醚酮的N-甲基毗咯烷酮溶液，濃度為0.1～0.3g/mL。

7.根據權利要求5或6所述的聚芳醚酮基氨基取代金屬酞菁-納米石墨復合材料的制備方法，其特征在于，所述的將混合液澆鑄成膜，是將混合液倒在平玻璃板上自然形成液態膜，烘干后形成固態的薄膜材料；或者是將混合液澆鑄在模型或容器中，烘干后形成有固定形狀的制品。