[發(fā)明專利]一種掩模板無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210226736.1 | 申請(qǐng)日: | 2012-06-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102749801A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-10-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 謝振宇;郭建 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F1/00 | 分類號(hào): | G03F1/00 |
| 代理公司: | 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291 | 代理人: | 黃志華 |
| 地址: | 100176 北京市*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 模板 | ||
1.一種掩模板,包括:狹縫狀透光區(qū)域和不透光區(qū)域,其特征在于,所述狹縫狀透光區(qū)域的邊緣呈凸起狀。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述凸起狀為鋸齒狀或波浪狀。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩模板,其特征在于,所述狹縫狀透光區(qū)域每一邊緣上的任意相鄰?fù)蛊鸩糠种g的距離相等,所述狹縫狀透光區(qū)域每一邊緣上的任意相鄰凹進(jìn)去部分之間的距離相等。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩模板,其特征在于,所述狹縫狀透光區(qū)域的兩邊緣呈鋸齒狀,凸起部分的形狀為以凸起的角為頂角的等腰三角形,凹進(jìn)去部分的形狀為以凹進(jìn)去的角為頂角的等腰三角形;或
狹縫狀透光區(qū)域的兩邊緣呈鋸齒狀,凸起部分的形狀為以凸起的角為頂角的等腰三角形,凹進(jìn)去的部分的形狀為與等腰三角形共腰的等腰梯形。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩模板,其特征在于,所述等腰三角形的頂角范圍為15°至75°。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述狹縫狀透光區(qū)域的兩邊緣鏡像對(duì)稱。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掩模板,其特征在于,所述狹縫狀透光區(qū)域的兩邊緣任意相對(duì)凸起部分之間的距離相等;和/或
所述狹縫狀透光區(qū)域的兩邊緣任意相對(duì)凹進(jìn)去部分之間的距離相等。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的掩模板,其特征在于,兩邊緣上任意相對(duì)兩凸起部分之間的距離在1μm至3μm之間,兩邊緣上任意相對(duì)凹進(jìn)去部分之間的距離為3μm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8任一權(quán)項(xiàng)所述的掩模板,其特征在于,狹縫狀透光區(qū)域的每一邊緣的兩端為凸起狀或凹狀。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的掩模板,其特征在于,當(dāng)狹縫狀透光區(qū)域的每一邊緣的兩端為凸起狀時(shí),凸起部分的形狀為直角三角形或直角梯形。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的掩模板,其特征在于,當(dāng)狹縫狀透光區(qū)域每一邊緣的兩端為凹狀時(shí),狹縫狀透光區(qū)域兩邊緣的兩端相對(duì)凸起部分之間的距離小于狹縫狀透光區(qū)域兩邊緣中間相對(duì)凸起部分之間的距離;或者
狹縫狀透光區(qū)域所有相對(duì)凸起部分之間的距離相等,狹縫狀透光區(qū)域邊緣兩端相對(duì)凹進(jìn)去部分之間的距離小于狹縫狀透光區(qū)域邊緣中間相對(duì)凹進(jìn)去部分之間的距離。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過(guò)帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過(guò)電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過(guò)100nm或更短波長(zhǎng)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測(cè)試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備





