[發明專利]ESD保護系統及X射線平板探測器有效
| 申請號: | 201210225073.1 | 申請日: | 2012-06-29 |
| 公開(公告)號: | CN103296012A | 公開(公告)日: | 2013-09-11 |
| 發明(設計)人: | 黃忠守;夏軍;肖文文;金利波 | 申請(專利權)人: | 上海天馬微電子有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/60 | 分類號: | H01L23/60;H01L29/06;H01L29/786;H01L27/02;H01L27/146 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 駱蘇華 |
| 地址: | 201201 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | esd 保護 系統 射線 平板 探測器 | ||
1.一種ESD保護系統,其特征在于,包括:
形成在基板上的ESD泄露母線;
形成在所述基板上并具有第一及第二接線端的ESD保護電路,所述第一接線端與所述ESD泄露母線連接,所述ESD保護電路至少包括一對非晶硅薄膜晶體管,所述一對非晶硅薄膜晶體管包括以背靠背方式連接的第一及第二非晶硅薄膜晶體管,所述第一及第二非晶硅薄膜晶體管的溝道正上方覆蓋有第一遮光層。
2.根據權利要求1所述的ESD保護系統,其特征在于,所述ESD保護電路包括多個以串聯、并聯或串聯并聯相結合方式連接的所述一對非晶硅薄膜晶體管。
3.根據權利要求1所述的ESD保護系統,其特征在于,所述第一遮光層的面積大于或等于所述第一及第二非晶硅薄膜晶體管溝道的面積。
4.根據權利要求1所述的ESD保護系統,其特征在于,所述ESD泄露母線接地或與第一固定電位連接。
5.根據權利要求1所述的ESD保護系統,其特征在于,所述第一遮光層的材料為導電材料,所述第一遮光層與第二固定電位連接。
6.根據權利要求5所述的ESD保護系統,其特征在于,所述導電材料至少包括Mo、W、Al中的一種。
7.根據權利要求5所述的ESD保護系統,其特征在于,所述第二固定電位為固定負電位或零電位。
8.根據權利要求5所述的ESD保護系統,其特征在于,所述第二固定電位由外部電源提供。
9.根據權利要求1所述的ESD保護系統,其特征在于,所述ESD保護電路還包括設置在所述第一及第二非晶硅薄膜晶體管溝道上方并與所述第一遮光層接觸的第一導電層,所述第一導電層設置在所述第一遮光層的上方或下方,且所述第一導電層至少與所述第一遮光層部分交疊,所述第一遮光層的材料為導電材料,所述第一導電層與第二固定電位連接。
10.根據權利要求9所述的ESD保護系統,其特征在于,所述導電材料至少包括Mo、W、Al中的一種。
11.根據權利要求9所述的ESD保護系統,其特征在于,所述第二固定電位為固定負電位或零電位。
12.根據權利要求9所述的ESD保護系統,其特征在于,所述第二固定電位由外部電源提供。
13.根據權利要求1所述的ESD保護系統,其特征在于,所述ESD保護電路還包括設置在所述第一及第二非晶硅薄膜晶體管溝道上方并與所述第一遮光層接觸的第一導電層,所述第一導電層設置在所述第一遮光層的上方或下方,且所述第一導電層至少與所述第一遮光層部分交疊,所述第一遮光層的材料為非導電材料,所述第一導電層與第二固定電位連接。
14.根據權利要求13所述的ESD保護系統,其特征在于,所述第二固定電位為固定負電位或零電位。
15.根據權利要求13所述的ESD保護系統,其特征在于,所述第二固定電位由外部電源提供。
16.一種X射線平板探測器,其特征在于,包括:
形成在基板上的多條掃描線及多條數據線,所述掃描線與所述數據線交錯排列形成多個像素區域,所述像素區域內設有像素單元,所述像素單元包括光敏單元與像素開關;
如權利要求1至15任一項所述的ESD保護系統,所述ESD保護系統中所述ESD保護電路的數量為一個或以上,至少有一條掃描線與一個所述ESD保護電路的第二接線端連接。
17.根據權利要求16所述的X射線平板探測器,其特征在于,所述光敏單元為光電二極管,所述像素開關為非晶硅薄膜晶體管,所述光電二極管包括下電極、設置在所述下電極上的光電轉換層及設置在所述光電轉換層上的上電極,所述光電二極管的下電極與所述像素開關連接、上電極與外接偏壓的第二導電層連接,所述像素開關包括與所述光敏單元下電極連接的源極、與數據線連接的漏極及與掃描線連接的柵極。
18.根據權利要求16或17所述的X射線平板探測器,其特征在于,所述像素開關的溝道正上方設置有第二遮光層。
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