[發(fā)明專(zhuān)利]磁性隨機(jī)存取存儲(chǔ)器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210223483.2 | 申請(qǐng)日: | 2012-06-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103021449A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-04-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 北川英二 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 株式會(huì)社東芝 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G11C11/16 | 分類(lèi)號(hào): | G11C11/16;H01L27/22 |
| 代理公司: | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人: | 李渤 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 磁性 隨機(jī)存取存儲(chǔ)器 | ||
相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
本申請(qǐng)要求于2011年9月26日在日本提交的在先日本國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)第2011-209906號(hào)的優(yōu)先權(quán)并以其為基礎(chǔ),其全部?jī)?nèi)容在此通過(guò)引用被并入。
技術(shù)領(lǐng)域
發(fā)明的實(shí)施方式涉及一種使用了磁阻效應(yīng)元件、二極管以及晶體管的磁性隨機(jī)存取存儲(chǔ)器。
背景技術(shù)
伴隨著云計(jì)算時(shí)代的開(kāi)啟,為了處理大規(guī)模增加的信息而對(duì)于信息處理高速化的需求日益增加。在個(gè)人計(jì)算機(jī)時(shí)代中龐大到無(wú)法處理的信息一直是由利用者耗費(fèi)時(shí)間來(lái)應(yīng)對(duì)的。但是,在云計(jì)算的世界中由于信息是實(shí)時(shí)處理的,因此不可能為了處理信息而令用戶(hù)耗費(fèi)時(shí)間。
另一方面,為了高速地處理信息而使用了SRAM(Static?Random?Access?Memory:靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器)和MPU(Micro-Processing?Unit:微處理器),但是在云計(jì)算的世界中向便攜式終端發(fā)送數(shù)據(jù)和在便攜式終端接收數(shù)據(jù)而實(shí)時(shí)地靈活運(yùn)用龐大的信息,因此在隨時(shí)消耗電力的SRAM和MPU中功耗成為問(wèn)題。為了補(bǔ)充大的功耗需要大的電池,因此離日常的信息的便攜化變得遙遠(yuǎn)。
在全世界范圍內(nèi)加速開(kāi)發(fā)了為了功耗的降低而期待的非易失性存儲(chǔ)器。例如舉出MRAM(磁性隨機(jī)存取存儲(chǔ)器)、FeRAM(強(qiáng)介電體存儲(chǔ)器)、PRAM(相變存儲(chǔ)器)、ReRAM(電阻變化型存儲(chǔ)器)。這些存儲(chǔ)器中MRAM唯一具有重寫(xiě)次數(shù)非常多、寫(xiě)入、讀出速度快這樣的特征,具有能夠?qū)崿F(xiàn)非易失性的工作存儲(chǔ)器的潛力。
但是,與SRAM相比MRAM的寫(xiě)入時(shí)間、讀出時(shí)間都要長(zhǎng)1位數(shù)左右。在MRAM中,能夠通過(guò)提高寫(xiě)入電流來(lái)將寫(xiě)入時(shí)間高速化、通過(guò)提高讀出電阻差來(lái)將讀出時(shí)間高速化。即,因?yàn)槟軌驅(qū)崿F(xiàn)高速讀出,所以期待讀出電阻差的進(jìn)一步提高。
為了使用MRAM來(lái)實(shí)現(xiàn)與SRAM相同的高速工作,讀出時(shí)提高輸出、寫(xiě)入時(shí)降低電流是必不可少的。但是,讀出輸出在使用已有的技術(shù)的前提下不可能提高超過(guò)200%,無(wú)法以與SRAM相同的速度讀出數(shù)據(jù)“1”和數(shù)據(jù)“0”的信息。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的課題在于提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)高速工作的磁性存儲(chǔ)器。
本實(shí)施方式的磁性存儲(chǔ)器,其特征在于,具備:磁阻效應(yīng)元件,具有根據(jù)自旋注入寫(xiě)入而磁化的方向不變的第1磁性層、磁化的方向可變的第2磁性層、以及設(shè)置在所述第1磁性層與所述第2磁性層之間的隧道勢(shì)壘層;第1布線(xiàn),與所述磁阻效應(yīng)元件的所述第1磁性層以及所述第2磁性層中的一個(gè)磁性層電連接;選擇晶體管,該選擇晶體管的源極/漏極中的一個(gè)與所述磁阻效應(yīng)元件的所述第1磁性層以及所述第2磁性層中的另一個(gè)電連接;第2布線(xiàn),與所述選擇晶體管的源極/漏極中的另一個(gè)電連接;二極管,該二極管的一個(gè)端子與所述磁阻效應(yīng)元件的所述第1磁性層以及所述第2磁性層中的另一個(gè)電連接;第3布線(xiàn),與所述二極管的另一端子電連接;以及讀出放大器,與所述第3布線(xiàn)電連接。
根據(jù)上述結(jié)構(gòu),能夠提供一種能夠高速工作的磁性存儲(chǔ)器。
附圖說(shuō)明
圖1是示出第1實(shí)施方式的MRAM的存儲(chǔ)單元的圖。
圖2是說(shuō)明第1實(shí)施方式的存儲(chǔ)單元的寫(xiě)入方法的圖。
圖3是說(shuō)明第1實(shí)施方式的存儲(chǔ)單元的讀出方法的圖。
圖4是示出PIN二極管的I-V特性的圖。
圖5是示出使用具有圖4所示的特性的二極管來(lái)進(jìn)行第1實(shí)施方式的存儲(chǔ)單元的讀出時(shí)流過(guò)二極管25的電流的圖。
圖6是示出施加于MTJ元件的電壓差與選擇晶體管的電阻Rtr相對(duì)于MTJ元件的電阻Rmtj之比的依賴(lài)性的圖。
圖7是示出MTJ元件的電阻差變成最大的選擇晶體管的電阻和MTJ元件的電阻之比相對(duì)于MTJ元件的MR的圖。
圖8是示出SIM肖特基二極管的I-V特性的圖。
圖9是示出第2實(shí)施方式的MRAM的存儲(chǔ)單元的圖。
圖10是示出第2實(shí)施方式的存儲(chǔ)單元的寫(xiě)入方法的圖。
圖11是示出第2實(shí)施方式的存儲(chǔ)單元的讀出方法的圖。
圖12是示出流過(guò)二極管的電流Ion和電流Ioff的電流比關(guān)于Rdiode/Rmtj之比的依賴(lài)性的圖。
圖13是示出第1實(shí)施方式的存儲(chǔ)單元的配置例的第1具體例的電路圖。
圖14是示出第1實(shí)施方式的存儲(chǔ)單元的配置例的第2具體例的電路圖。
圖15(a)、15(b)、15(c)是說(shuō)明第1實(shí)施方式的存儲(chǔ)單元的配置的一個(gè)例子的圖。
圖16(a)、16(b)是說(shuō)明二極管的例子的圖。
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