[發明專利]以傾斜掩膜板或晶片進行多焦點掃描

有效

• 申請號: 201210222498.7
• 申請日: 2005-06-03
• 公開（公告）號: CN102749811A
• 公開（公告）日: 2012-10-24
• 發明（設計）人: 林本堅;陳俊光;高蔡勝;林佳惠;劉如淦;施仁杰
• 申請（專利權）人: 臺灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京連和連知識產權代理有限公司 11278
• 代理人: 賀小明

1.一種掃描方法，其特征是包含：

使掩膜板及晶片中的一個相對于掃描方向傾斜；

將通過光學狹縫的光束分裂成進入該掩膜板的不同失焦區中的至少兩個發光區域，其中該分裂包括使用位于該掩膜板與該晶片之間的擋板來阻擋該光束之不想要的部分；

放置濾光片在該擋板中未被阻擋的區域，所述濾光片具有光學密度分布；

使用該濾光片修正所述至少二個發光區域的光強度，其中該濾光片的光學密度分布會使該未被阻擋區域內的光強度由該未被阻擋區域的中心朝邊緣逐漸地減少；以及

使用該調整后的入射光來產生晶片影像，其中該調整后的入射光利用所述入射光重疊造成失焦。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征是所述擋板包含至少兩個比所述光束所通過的光學狹縫更小的狹縫。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征是所述濾光片為灰階濾光片。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征是將所述光束分裂的步驟還包括：在使用所述擋板進行所述光束分裂之前，先利用一個面鏡、多個面鏡、一個面鏡和一個透鏡、一個面鏡和多個透鏡、或多個面鏡和多個透鏡對所述光束進行光束分裂。

5.根據權利要求1所述的方法，其特征是將所述光束分裂的步驟還包括：在使用所述擋板進行所述光束分裂之前，先利用多個面鏡進行所述光束分裂，其中部分面鏡彼此平行。

6.一種掃描方法，其特征是包含：

使光罩和晶片之一相對于掃描方向傾斜；

放置濾光片在所述光罩和晶片間，其中該濾光片具有光學密度分布；

使用所述濾光片調整通過狹縫的光在該掃描方向上的光強度，其中所述濾光片的光學密度分布會讓通過所述狹縫的光強度從一中心點朝邊緣逐漸地減少；以及

使用該調整后的入射光來產生晶片影像，其中該調整后的入射光利用該入射光重疊造成失焦。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征是通過該狹縫的光包括光束，且還包括利用多個面鏡分裂該光束，其中一些面鏡彼此平行。

8.根據權利要求6所述之方法，其特征是通過該狹縫的光包括光束，且還包括阻擋該光束的不想要的部分來將該光束分裂。

9.根據權利要求6所述之方法，其特征是所述阻擋是將擋板放置在所述光罩的共軛平面處。

10.一種光刻步進及掃描投射系統，其特征是包含：

光源，用以產生光束；

托架，用以托住傾斜晶片和掩膜板中的一個，該托架使該晶片和該掩膜板中的一個相對于掃描方向傾斜；

擋板，用以將通過光學狹縫的光束分裂為位于該掩膜板之不同失焦區中的至少兩個發光區域，其中該擋板位于該掩膜板及該晶片之間；以及

濾光片，放置在該擋板未被阻擋的區域，所述濾光片具有光學密度分布，所述濾光片可修正所述至少二個發光區域的光強度，所述濾光片的光學密度分布會降低于該未被阻擋區域內的光強度且朝邊緣逐漸地減少，使用該調整后的入射光來產生晶片影像，所述調整后的入射光利用該入射光重疊來造成失焦。

11.根據權利要求10所述的系統，其特征是所述擋板包含至少兩個比該光束所通過的光學狹縫更小的狹縫。

12.根據權利要求10所述的系統，其特征是所述濾光片包含灰階濾光片。

13.根據權利要求10所述的系統，其特征是還包括利用多個面鏡和多個透鏡之一，在使用該擋板進行該光束分裂之前，先進行該光束分裂。

14.根據權利要求10所述的系統，其特征是還包括利用多個面鏡將該光束分裂至所述至少二個發光區域，其中部分面鏡彼此平行。